CC BY
38УДК 537.525:621.382
А.Е. Петров*, В.А. Титов*' **, С.А. Смирнов*
КОНЦЕНТРАЦИЯ АТОМОВ КИСЛОРОДА В ТЛЕЮЩЕМ РАЗРЯДЕ АТМОСФЕРНОГО
ДАВЛЕНИЯ В ВОЗДУХЕ
(*Ивановский государственный химико-технологический университет, ** Институт химии растворов им. Г.А. Крестова РАН) e-mail: [email protected]
На основе интенсивностей линии излучения перехода O(3p3P^3s3S) и полосы v"=2) сделана оценка концентрации атомов О(Р) в плазме тлеющего разряда атмосферного давления в потоке воздуха при токе разряда 9 -35 мА.
Ключевые слова: плазма, газовый разряд, воздух, атомарный кислород, кинетика
Интерес к исследованию физико-химических процессов, протекающих в газовых разрядах при атмосферном давлении, связан как с перспективами их биомедицинских приложений, так и с решением ряда плазмохимических задач. Различные виды разрядов (тлеющий, коронный, поверхностно-барьерный и др.) могут быть использованы для инициирования окислительно-восстановительных реакций в водных растворах, разрушения вредных и токсичных примесей в воздухе и в воде [1—5], синтеза наноструктур и осаждения покрытий [6-9], для стерилизации, травления и модифицирования поверхности материалов и изделий [3, 10—14]. В частности, было найдено, что обработка пленок полиэтилена, полипропилена, поли-этилентерефталата и политетрафторэтилена в послесвечении тлеющего разряда в потоке воздуха при атмосферном давлении ведет к образованию на поверхности кислородсодержащих групп и улучшению гидрофильности полимеров [15, 16].
Основными активными частицами, приводящими к окислению поверхности полимеров в послесвечении разряда атмосферного давления в воздухе, могут быть атомы кислорода, метаста-бильные электронно-возбужденные молекулы О^а'Д^) и озон. Согласно данным литературы, концентрации этих активных частиц сильно зависят от способа возбуждения разряда, состава плазмообразующего газа и формирующихся при этом внутренних параметров плазмы: концентрации и средней энергии электронов, температуры газа, заселенностей внутренних степеней свободы компонентов плазмы. В зависимости от этих параметров концентрация атомов О(3Р) в разрядах различных типов при атмосферном давлении может составлять от 1013 до 1018 см-3 [14, 17-27]. Отметим, что в большинстве работ данные о концентрации получены в результате кинетического моделирования процессов в плазме [14, 17 — 21, 23 -27], и лишь в работах [17, 22] приведены экспериментальные значения, найденные с использовани-
ем лазерно-индуцированной флуоресценции [17] или титрования молекулами N0 [22].
Для определения концентрации атомов может быть использован метод оптической актинометрии, основанный на измерении отношения ин-тенсивностей линий излучения анализируемого компонента и линий или полос газа-актинометра с известной концентрацией [28-31]. Авторы работ [29, 30] при определении концентрации О(3Р) в плазме кислорода и смеси азота с кислородом при пониженном давлении вводили малую добавку аргона в качестве газа-актинометра. В работе [31] в плазме воздуха при давлении р = 30 - 300 Па измерялись интенсивности линии излучения атомов О (А=845 нм, переход 3р3Р^3s3S) и полосы N с кантом 380 нм (переход С3Пи, и'=0^В3П& и''=2) с пороговыми энергиями возбуждения излучающих состояний, равными 10,99 и 11,03 эВ соответственно. Было показано, что анализируемые излучающие состояния заселяются электронным ударом из основных электронных состояний с последующей дезактивацией излучением. При этом отношение абсолютных интенсивностей линии излучения атомов О и полосы N связано с искомой концентрацией [0(3Р)] соотношением
Ю = кО [ОСР)] (1)
/м км ' где 1°, к° и к^ - абсолютные интенсивности излучения и константы скорости возбуждения излучающих состояний анализируемого компонента и газа-актинометра (азота), соответственно, [К2] -концентрация молекул азота в газовой смеси. Найденные концентрации 0(3Р) ~(2-1014 - 1015 см-3) совпадали в пределах погрешностей измерений и расчетов с результатами моделирования [32].
Цель данной работы - определение концентрации атомов кислорода в основном состоянии 0(3Р) в плазме разряда постоянного тока в потоке воздуха при атмосферном давлении. В этих условиях основными каналами дезактивации состояний 0(3р3Р) и ^(С3Пи, и'=0) являются про-
цессы тушения при столкновениях с молекулами N2 и О2. Частоты этих процессов (табл. 1) выше частот излучательной дезактивации, которые составляют 3,4-107 с-1 для 0(3р3Р) и ~2,2-107 с-1 для ЩС3Пи) [34].
Таблица 1
Константы скоростей (k) и частоты (г) процессов тушения состояний O(3p3P), N2(C3nu) в соударениях с молекулами N2 и O2 [29, 33]
Table 1. Rate constants (k) and frequencies (г) of quenching processes for O(3p3P), N2(C®nu) states in collisions with N2 and O2 molecules [29, 33]
Процесс k, см3/с г, с-1
O(3/P)+O2^O+O2 7,5-10"10 9,56-108
O(3pJP)+N2^O+O2 4,2-10"10 2,00-10y
N2(C3nu) + N2^N2+N2(ß3ng) 3,3-10"n 1,57^ 108
N2(C3nu)+O2^N2+O+O 2,7-10"10 3,45^108
N2(C3nu)+O2^N2+O+O(1D) 1,35-10-11 1,7340'
N2(C3nu)+N2^N2+N2 5-10"11 2,39^108
N2(C3nu)+O2^N2+O2 1,M0"10 1,41108
спектрофотометров AvaSpec-2048FT (решетка 600 штрихов/мм, диапазон длин волн А=200 - 1000 нм) и AvaSpec-3648 (1200 штрихов/мм, А=200 - 480 нм). Для обработки спектров использовали программное обеспечение из комплекта спектрофотометра. Спектры регистрировали с накоплением сигнала, отсеиванием шумов и усреднением результатов многочисленных отсчетов. При определении отношения абсолютных интенсивностей линий атомов кислорода и полос азота использовали коэффициенты чувствительности регистрирующей аппаратуры в зависимости от длины волны излучения.
На рис. 1 представлен качественный вид спектра излучения разряда. В спектре присутствует вторая положительная система N2, полосы излучения ионов N , линии атомарного кислорода, а также у-система полос излучения молекул N0.
Примечание. Частоты тушения рассчитаны для температуры газа 1200 K ([N2]=4,44-1018 см-3, [02]=1,28-1018 см-3); i=9 мА. Note. Quenching frequencies were calculated for the gas temperature of 1200 K ([N2]=4,44-1018 ст-3, [02]=1,28-1018 ст-3); i=9 mA
Эксперименты и расчеты выполнены для тех же условий горения разряда, в которых ранее было исследовано модифицирование пленок полимеров [15].
Схема экспериментальной установки подробно описана в [15, 16]. Разряд постоянного тока возбуждали между анодом (полой иглой из нержавеющей стали с диаметром отверстия 470 мкм) и катодом, в качестве которого использовали треугольную пластину из нержавеющей стали толщиной 1 мм. Через полый анод с помощью насоса в зону плазмы подавали атмосферный воздух со скоростью потока 116±11 м/с. Схема питания разряда включала в себя повышающий трансформатор, двухполупериодный выпрямитель и балластное сопротивление, которое можно было ступенчато изменять от 30 кОм до 1,3 МОм. Для сглаживания пульсаций напряжения использовали батарею конденсаторов емкостью 6 мкФ. Ток разряда (i) в разных экспериментах составлял от 9 до 35 мА, расстояние между электродами 1,2 мм.
По результатам измерений напряжения горения разряда в зависимости от межэлектродного расстояния определяли напряженность поля в плазме (Е) и катодное падение потенциала, как это описано в [15]. Характерные размеры разряда определяли по фотографиям, сделанным цифровой фотокамерой.
Спектры излучения плазмы регистрировали с помощью малогабаритных универсальных
л 1,0 н о о
« 0,8 S о W
S 0,6 и
S
к
-а
Ч
(D
и
О О
и
0,4
0,0
^(С^и-ВП I-1
n;
NO(Ä2I?-X) г
O (?P-tfS)
O (33P-33S) \
100 200 300 400 500 600 700 800 900
X, нм
Рис. 1. Спектр излучения разряда Fig. 1. Discharge emission spectrum
Интенсивности излучения IU,U" для переходов ЩС3Пи, u'^53ng, и'', и'^и": 0^2, 1^3, 2^4, 3^5, 4^-6) находили интегрированием контуров полос. Полученные данные представляли в координатах ln[(^ojMU',u")(7U',U"//o>i)]=/(A£,U'), где А^и -вероятность соответствующего перехода, А01 -вероятность перехода и '-и "=0-1, АЕи -энергия колебательного состояния, отсчитанная от уровня и=0). Из углового коэффициента указанной зависимости, который находили методом наименьших квадратов, определяли колебательную температуру (^vib) состояния N2(C3nu). Полученные зависимости были линейными с коэффициентом корреляции не ниже 0.98.
Для определения вращательной температуры (rrot) использовалась следующая процедура. С помощью специализированного программного обеспечения CyberWit Diatomic 1.4.1.1 [35] моделировался спектр излучения азота в интервале длин волн, который соответствует полосе перехода N2(C3nu^ß3ng, 0-2). В качестве исходных дан-
ных при моделировании использовались молекулярные постоянные азота из работы [36] и экспериментально найденная аппаратная функция спектрометра. Детали этой процедуры описаны в [37]. Вращательная температура молекул азота использовалась как подгоночный параметр при минимизации суммы квадратов отклонений расчетного профиля полосы от измеренного. Найденные таким образом колебательные и вращательные температуры ^(С3Пи) показаны на рис. 2 в сравнении с результатами работ [15, 26, 38, 39]. Отметим хорошее согласие значений колебательной температуры, полученных в разных работах. При атмосферном давлении вращательную температуру ^(С 3Пи) можно отождествлять с температурой газа. Расхождения значений температуры газа, найденной в разных работах, обусловлены, на наш взгляд, двумя факторами: на температуру влияют скорость потока газа и теплоотвод через электроды.
Из уравнения состояния идеального газа (р=ЫквТ) была найдена суммарная концентрация частиц N и рассчитана приведенная напряженность поля в плазме (Е/^, результаты представлены в табл. 2. Там же приведены экспериментальные отношения абсолютных интенсивностей (Т0//34) линии излучения атомов О (3р3Р^3s3S) и полосы N (С3Пи, и'=0 ^ В3П& и"=2). Указанные в таблице погрешности значений /°//N найдены из опытов на воспроизводимость (10 - 12 измерений, доверительная вероятность 0,99).
При заселении отмеченных излучающих состояний электронным ударом и дезактивации в процессах излучения и тушения отношение ин-тенсивностей /°//N связано с концентрацией атомов кислорода в основном состоянии ([О]) соотношением:
и
IN
I
До [O]
кN Д
N2(C ,0-2)
I[N2]
(2)
где k°, kN — константы скорости возбуждения О(3р3Р) и N2(C3nu, и'=0 ); An2(c, 0-2), Ao - вероятности излучательных переходов N2(C3nu, и'=0 ^ ^53ПЁ, и"=2) и 0(3p3P^3s3S) соответственно; Lz°
■v N
и lz — суммарные частоты дезактивации в процессах излучения и тушения для состояний N2(C3nu, и-0) и 0(3р3Р) соответственно.
Численным решением кинетического уравнения Больцмана с использованием экспериментальных значений E/N были получены функции распределения электронов по энергиям (ФРЭЭ), значения средней энергии электронов, скорости их дрейфа и константы скоростей процессов, протекающих под действием электронного удара. Процедура расчетов описана в работе [40].
т ■ к, т , К
vib' rot'
10000
1000
^ 6
о 10 о
00 у10 пП
SSizg^eaaSsSse^t' ф 8
/и 9 iiiii^
10 15
20 25
i, мА
30 35 40 45
Рис. 2. Зависимость колебательной температуры (1, 3, 5, 7, 9) и вращательной температуры (2, 4, 6, 8,10) N2(C3nu) от тока разряда: 1, 2 — результаты данной работы; 3, 4 - данные [15];
5, 6 — [26]; 7, 8 — [38]; 9, 10 — [39] Fig. 2. Dependendence of N2(C3nu) vibrational temperature (1, 3, 5, 7, 9) and rotational temperature (2, 4, 6, 8, 10) on discharge
current: 1, 2 — our results; 3, 4 - data from [15]; 5, 6 — [26];
7, 8 — [38]; 9, 10 — [39]
Таблица 2
Результаты экспериментов и расчетов
i, мА (E/N)-1016, В-см2 (T°//N)-103 kN/k° (Ег^-Ш-8, с-1 (Е7т°)-10-9, с-1 [°(3Р)]-10-16, см-3
9 4,41±0,09 6,31±1,19 2,47 8,99 2,96 2,4±0,5
10 4,39±0,09 6,85±1,29 2,48 8,50 2,80 2,5±0,5
11 4,35±0,09 7,07±1,31 2,49 8,17 2,69 2,4±0,5
12 4,34±0,08 7,38±1,37 2,49 7,93 2,61 2,5±0,5
13 4,31±0,08 7,54±1,39 2,49 7,82 2,58 2,5±0,5
14 4,28±0,08 7,79±1,43 2,49 7,65 2,52 2,5±0,5
15 4,27±0,08 8,36±1,53 2,50 7,15 2,35 2,5±0,5
20 4,19±0,08 9,50±1,73 2,51 6,54 2,15 2,6±0,5
25 4,12±0,08 10,94±1,98 2,51 6,27 2,07 2,9±0,5
30 4,09±0,08 12,00±2,16 2,52 6,17 2,03 3,2±0,6
35 4,07±0,08 14,66±2,63 2,52 5,99 1,98 3,7±0,7
2
4
3
5
0
5
Концентрацию электронов рассчитывали из проводимости плазмы. При решении уравнения Больцмана учитывались столкновения электронов с молекулами N2, 02 (при соотношении мольных долей j(N2):j(02)=4:1), H20, NO и с атомами Ar (j(Ar)=9-10-3). Сведения об использованных сечениях соударений приведены в [32, 41]. Мольные доли молекул N0 и H20 в условиях наших экспериментов неизвестны. Поэтому, в соответствии с данными работ [23,27, 29, 42], при расчетах ФРЭЭ мольную долю N0 варьировали от 10-3 до 5-10-2, а H20 - от 0 до 10-2. Расчеты показали, что из-за близких значений пороговых энергий и энергетических зависимостей сечений возбуждения состояний О(3р3Р) и N2(C3nu, и'=0 ) отношение констант скоростей их возбуждения практически не зависит от величины E/N и изменения вида ФРЭЭ, обусловленного изменением концентрации рассматриваемых компонентов (табл. 2).
Как и в работе [31], константу скорости возбуждения О(3р3Р) определяли, учитывая каскадное заселение с более высоких уровней. Константы скорости возбуждения N2(C3nu, и'=0 ) рассчитаны с учетом заселенностей нижних колебательных уровней основного электронного состояния молекул N2(X1Zg). Заселенности колебательных уровней находили на основе интенсивностей полос второй положительной системы азота в соответствии с методикой, изложенной в [37, 40].
Состояние N2(C3nu) может заселяться не только электронным ударом из основного электронного состояния молекулы азота, но и в процессе N2(43Iu+) + N2(43Iu+) ^ ^ЩС3^) + N2 (k = 4,610-10 см3/^. (3) Концентрация молекул N2(43Eu+), которую мы оценили по скорости заселения электронным ударом и суммарной частоте дезактивации в соударениях с молекулами N2 и О2 в основном состоянии (табл. 3), равна ~6-1013 см-3. Следовательно, скорость процесса (3) составляет ~1018 см-3^ при скорости возбуждения N2(C3nu) электронным ударом ~1019 см-3/с. Таким образом, вклад процесса (3) в заселение N2(C3nu) не превышает 10%.
Таблица 3
Константы скоростей (k) и частоты (г) процессов дезактивации N2(43Eu+) в соударениях с молекулами
N2 и O2 [29, 33] Table 3. Rate constants (k) and frequencies (г) of deactivation processes for N2(43Eu+) in collisions with N2 and O2 molecules [29, 33]
Процесс к, см3/с г, с-1
N2(A%+) + O2 ^ N2 + O + O 2,54^10-12 3,25^106
N2(A%+) + O2 ^ N2O + O 7,8-10-14 9,97^104
N2(A3Eu+) + O2 ^ N2 + O2(a1Ag) 1,2940-12 1,65^ 106
N2(A3Eu+) + O2 ^ N2 + O2(è1Eg+) 1,29^10-12 1,65406
N2(A%+) + O2 ^ N2 + O2 1,9^10-12 2,43^106
Результаты расчетов по соотношению (2) показали, что концентрация атомов O(3P) увеличивается от 2,4-1016 до 3,7-1016 см-3с ростом тока разряда в интервале 9 - 35 мА (табл. 2).
Предварительные оценки скоростей процессов образования и последующих реакций атомов показали, что в условиях наших экспериментов атомы O(3P) образуются с максимальными скоростями при диссоциативном прилипании электронов и диссоциации молекул О2 электронным ударом, а также в результате соударений О2 с молекулами азота в состояниях A3Eu+ и 53ПЁ: O2 + e ^ O- + O(3P), O2 + e ^ O(3P) + O(3P) + e, O2 + e ^ O(3P) + O(1^) + e, N2(A3Eu+) + O2 ^ N2 + O(3P) + O(3P), N2(A3Eu+)+O2 ^ N2O + O(3P), N2(53ng) + O2 ^ N2 + O(3P) + O(3P).
Расходование атомов происходит в результате их диффузии из зоны разряда, а также в следующих процессах:
O + N2X, и>12) ^ NO + N, O + O3 ^ O2 + O2, O + N2(A3Eu+) ^ NO + N, O + O2 + N2 ^ O3 + N2, O + O2 + O2 ^ O3 + O2, O + NO + N2 ^ NO2 + N2, O + NO2 ^ NO + O2.
Детальное выяснение механизма образования и расходования атомов кислорода в тлеющем разряде атмосферного давления в воздухе составляет задачу дальнейших исследований.
ЛИТЕРАТУРА
1. Кутепов А.М., Захаров А.Г., Максимов А.И. Вакуум-но-плазменное и плазменно-растворное модифицирование полимерных материалов. М.: Наука. 2004. 496 с.; Kutepov A.M., Zakharov A.G., Maksimov A.I. Vakuum-no-plasmennoe i plasmenno-rastvornoe modifitsirovanie po-limernykh materialov [Vacuum-plasma and plasma-solution modification of polymer materials]. M.: Nauka, 2004. 496 p. (in Russian).
2. Захаров А.Г., Максимов А.И., Титова Ю.В. // Успехи химии. 2007. Т. 76. № 3. С. 260 - 278;
Zakharov A.G., Maksimov A.I., Titova Yu.V. // Russ Chem Rev. 2007. V. 76. N 3. P. 235-251.
3. Акишев Ю.С. В кн.: Энциклопедия низкотемпературной плазмы. Т. VIII-I. Химия низкотемпературной плазмы / Отв. редакторы Ю.А. Лебедев, Н.А. Платэ, В.Е. Фортов. М.: Янус-К. 2005. С. 463 - 501;
Akishev Yu.S. In book: Enciklopedia nizkotemperaturnoi plasmy. Vol. VIII-I. Khimia nizkotemperaturnoi plasmy [Encyclopedia of low-temperature plasma. Vol. VIII-I. Chemistry of low-temperature plasma]. Yu A. Lebedev, N.A. Plate, V.E. Fortov Eds. M.: Yanus-K, 2005. P. 463 -501. (in Russian).
4. Akishev Yu.S., Deryugin A.A., Kochetov I.V., Naparto-vich A.P., Trushkin N.I. // J. Phys. D: Appl. Phys. 1993. V. 26. P. 1630-1637.
5. Бобкова Е.С., Гриневич В.И., Исакина А.А., Рыбкин
B.В. // Изв. вузов. Химия и хим. технология. 2011. Т. 54. Вып. 6. С. 3 - 17;
Bobkova E.S., Grinevich V.I., Isakina A.A., Rybkin V.V.
// Izv. Vyssh. Uchebn. Zaved. Khim. Khim. Tekhnol. 2010. V. 54. N 6. P. 3 - 17. (in Russian).
6. Chiang W., Richmonds C., Sankaran R. // Plasma Sources Sci. Technol. 2010. V. 19. N 3. DOI: 10.1088/0963-0252/ 19/3/034011
7. Yokoyama T., Hamada S., Ibuka S., Yasuoka K., Ishii S.
// J. Phys. D: Appl. Phys. 2005. V. 38. N 11. P. 1684-1689.
8. Ding Yi., He D., Shirai H. // J. Phys. D: Appl. Phys. 2009. V. 42. N 12. DOI: 10.1088/0022-3727/42/12/125503
9. Belmonte T., Arnoult G., Henrion G., Grievs T. // J. Phys. D: Appl. Phys. 2011. V. 44. N 36. DOI: 10.1088/0223727/44/36/363001.
10. Akishev Yu., Grushin M., Diatko N., Kochetov I., Napar-tovich A., Trushkin N., Tran Minh Duc, Descours S. // J. Phys. D: Appl. Phys. 2008. V. 41. N 23. DOI: 10.1088/ 00223727/41/23/235203.
11. Jacobs T., Carbone E., Morent R., De Geyter N., Reniers
F., Leys C. // Surface and Interface Analysis. 2010. V. 42. N 6-7. P. 1316-1320. DOI: 10.1002/sia.3319
12. Gonzalez E., Barankin M.D., Guschl P.C., Hicks R.F. // Langmuir. 2008. V. 24. N 3. P. 12636 - 12643.
13. Gonzalez E., Hicks R.F. // Langmuir. 2009. V. 26. N 5. P. 3710 - 3719.
14. Jeong J.Y., Babayan S.E., Tu V.J., Park J., Hicks R.F., Selwyn G.S. // Plasma Source Sci. Technol. 1998. V. 7. N 3. P. 282-285.
15. Петров А.Е., Шикова Т.Г., Титов В.А, Федорова А.Д. //
Изв. вузов. Химия и хим. технология. 2012. Т. 55. Вып. 4.
C. 51 - 56;
Petrov A. E., Shickova T. G., Titov V. A., Fedorova A. D.
// Izv. Vyssh. Uchebn. Zaved. Khim. Khim. Tekhnol. 2012. V. 55. N 4. P. 51 - 56. ( in Russian).
16. Петров А.Е., Калбенин ДА., Титов В.А., Куленцан А.Л., Смирнов С.А. // Горение и плазмохимия. 2011. Т. 9. № 3. С. 160-168;
Petrov A.E., Kalbenin D.A., Titov V.A., Kulentsan A.L., Smirnov S.A. // Gorenie i plasmokhimija. 2011. V. 9. N 3. P. 160 - 168. ( in Russian).
17. Schutze A., Jeong J.Y., Babayan S.E., Park J., Selwyn
G.S., Hicks R. F. //IEEE Transactions on Plasma Science. 1998. V. 26. N 6. PII: S 0093-3813(98)09643-X.
18. Egitto F.D. // Pure & Appl. Chem. 1990. V. 62. N 9. P. 1699-1708.
19. Babayan S.E., Jeong J.Y., Tu V.J., Parkz J., Selwyn G.S., Hicks R.F. // Plasma Source Sci. Technol. 1998. V. 7. N 3. P. 286 - 288. PII: S0963-0252(98)94298-0.
20. Jeong J.Y., Babayan S.E., Schu tze A., and Tu V.J. // J. Vac. Sci. Technol. A. 1999. V. 17. N 5. P. 2581 - 2585.
21. Park J., Henins I., Herrmann H.W., Selwyn G.S. // Applied Physics Letters. 2000. V 76. N 3. P. 288 - 290.
22. Moravej M., Yang X., Hicks R.F. // J. Appl. Phys. 2006. V. 99. N 9. DOI: 10.1063/1.2193647.
23. Dorai R., Kushner M.J. // J. Phys. D: Appl. Phys. 2003. V.36. N 6. P. 666 - 685. DOI:10.1088/0022-3727/36/6/309.
24. Jeong J.Y., Park J., Henins I., Babayan S.E., Tu V.J., Selwyn G.S., Ding G., Hicks R.F. // J. Phys. Chem. A. 2000. V. 104. N 34. P. 8027 - 8032.
25. Bhoj A.N., Kushner M.J. // J. Phys. D: Appl. Phys. 2007. V. 40. N 22. P. 6953 - 6968. DOI: 10.1088/0022-3727/ 40/22/016.
26. Akishev Yu., Grushin M., Karalnik V., Kochetov I., Na-partovich A., Trushkin N. // J. Phys.: Conf. Ser. 2010. V. 257. N 1. D°I:10.1088/1742-6596/257/1/012014.
27. Lu XinPei // J. Appl. Phys. 2007. V.102. N 3. DOI: 10.1063/1.2764242.
28. Очкин В.Н. Спектроскопия низкотемпературной плазмы. М.: Физматлит. 2006. 472 с.;
Ochkin V.N. Spektroskopija nizkotemperaturnoi plasmy. M.: Fizmatlit. 2006. 472 p. (in Russian).
29. Gordiets B.F., Ferreira C.M., Guerra V.L., Loureiro J.M., Nahorny J., Pagnon D., Touzeau M., Vialle M. // IEEE transactions on plasma science. 1995. V. 23. N. 4. P. 750 — 768.
30. Буланьков Н.И., Кувалдина Е.В., Любимов В.К., Рыбкин В.В. // Журн. прикл. спектроскопии. 1991. Т. 54. № 5. С. 851-854;
Bukan'kov N.I., Kuvaldina E.V., Lubimov V.K., Rybkin V.V. // Zhurnal Prikladnoi Spectroskopii. 1991. V. 54. N 5. P. 851 - 854 (in Russian)
31. Рыбкин B.B., Титов B.A., Кувалдина E.B., Смирнов C.A.. // Химия высоких энергий. 1997. Т. 31. № 2. С. 149-152; Rybkin V.V., Titov V.A., Kuvaldina E.V., Smirnov S.A. // High Energy Chemistry. 1997. V. 31. N 2. P. 128-131.
32. Смирнов С.А., Рыбкин В.В., Холодков И.В., Титов В.А. // Теплофизика высоких температур. 2002. Т. 40. № 3. С. 357-364;
Smirnov S.A., Rybkin V.V., Kholodkov I.V., Titov V.A. //
High Temperature. 2002. V. 40. N 3. P. 323-330.
33. Стариковская С.М. В кн.: Энциклопедия низкотемпературной плазмы. Т. VIII-I. Химия низкотемпературной плазмы / Отв. редакторы Ю.А. Лебедев, Н.А. Платэ,
B.Е. Фортов. М.: Янус-К. 2005. С. 171 — 355; Starikovskaya S. M. In book: Enciklopedia nizkotempe-raturnoi plasmy. Vol. VIII-I. Khimia nizkotemperaturnoi plasmy [Encyclopedia of low-temperature plasma. Vol. VIII-I. Chemistry of low-temperature plasma]. Yu A. Lebedev, N.A. Plate, V.E. Fortov Eds. M.: Yanus-K, 2005. P. 171 — 355. (in Russian).
34. Nichols R.W. // Annales de Geophysique. 1964. V. 20. N 2. P. 144.
35. Xiaofeng T. Diatomic: A spectral simulation program for diatomic molecules on Windows platforms, release 1.28. 2004. http://www.cyber-wit.com.
36. Huber K.P., Herzberg G. Molecular spectra and molecular structure: constants of diatomic molecules. New York: Van Nostrand-Reinhold. 1979. 716 p.
37. Titov V.A., Rybkin V.V., Smirnov S.A., Kulentsan A.N., Choi H.-S. Plasma Chemistry and Plasma Processing. 2006. V. 26. N 6. P. 543-555.
38. Staak D., Farouk B., Gutsol A. // Plasma Sources Science and Technology. 2008. V. 17. N 2. D°I:10.1088/0963-0252/17/2/025013.
39. Machala Z., Marode E., Laux C.O., Kruger C.H. // J. Adv. Oxid. Technol. 2004. V. 7. N 2. P. 133 — 137.
40. Diamy A.-M., Legrand J.-C., Rybkin V.V., Smirnov S.A. Contributions to Plasma Physics. 2005. V. 45. N 1. P. 5-21.
41. Рыбкин В.В., Смирнов С.А., Титов В.А., Аржаков Д.А. // Теплофизика высоких температур. 2010. Т. 48. № 4.
C. 498-503.
Rybkin V.V., Smirnov S.A., Titov V.A., Arzhakov D.A. //
High Temperature. 2010. V. 48. N 4. P. 476-481
42. Wilson A., Staack D., Farouk T., Gutsol A., Fridman A., Farouk B. // Plasma Sources Science and Technology. 2008. V. 17. N 4. DOI: 10.1088/0963-0252/17/4/045001.
НИИ Термодинамики и кинетики химических процессов, кафедра технологии приборов и материалов электронной техники
