УДК 541.138:620.19
К ВОПРОСУ О ПОСТОЯНСТВЕ ДИАМЕТРА КАНАЛА РАСТВОРЕНИЯ ПРИ ЭЛЕКТРОДЕКРИСТАЛЛИЗАЦИИ МЕТАЛЛИЧЕСКИХ ГАЛЬВАНОПОКРЫТИЙ В ПРИЖИМНЫХ ЯЧЕЙКАХ
ЧЕРЕПАНОВ И.С., *ТАРАСОВ В В., *ТРУБАЧЕВ А.В.
Воткинский филиал Ижевского государственного технического университета, 427433, г. Воткинск, ул. П.И. Шувалова, 1.
*Институт прикладной механики УрО РАН, 426067, г. Ижевск, ул. Т. Барамзиной, 34
АННОТАЦИЯ. Рассмотрены причины, приводящие к нарушению постоянства диаметра канала растворения при электрохимическом контроле толщины металлических гальванопокрытий. Детализированы модели, описывающие электродекристаллизацию покрытий с учетом растворения стенок канала и эффекта солевой пассивации поверхности металлов при их анодном окислении в прижимных ячейках.
КЛЮЧЕВЫЕ СЛОВА: металлы, гальванические покрытия, прижимные ячейки, анодное растворение, солевая пассивация.
Свойства современных материалов, используемых в машиностроении, приборостроении и электронной технике в значительной степени зависят от их состава. Эти материалы должны обладать комплексом свойств, анализ которых требует дифференцированного подхода к изучению их эксплуатационных характеристик. Особую значимость при этом имеет контроль параметров гальванических металлопокрытий, поскольку они являются наиболее приемлемым способом защиты металлов от коррозии в производственных условиях, улучшения их поверхностных свойств [1, 2].
Основным процессом электрохимического контроля параметров металлопокрытий является анодное растворение участка покрытия, выделенного наконечником ячейки -зонда радиусом r; по мере растворения покрытия в образце образуется цилиндрический канал, глубина которого определяется толщиной анализируемого покрытия. В общем случае, критическую глубину /кр, на которую можно протравить канал при электродекристаллизации металла с постоянной плотностью тока i0 целесообразно рассматривать на основе модели растворения цилиндрического электрода в диэлектрическом материале [3]. Изменение глубины канала во времени d//dt зависит от параметров процесса и свойств металла покрытия. Предельный ток анодного растворения in, отвечающий случаю образования слоя продуктов на поверхности электрода и установлению приэлектродной концентрации ионов металла, равной концентрации насыщенного раствора, в рассматриваемых условиях больше i0, при этом начальная глубина канала /0 = 0. Полученные в принятом приближении расчетные уравнения [3] указывают на то, что значение /кр тем ниже, чем больше радиус канала, определяемый при растворении в прижимных ячейках геометрическими размерами наконечника [1]; это обусловлено влиянием естественной конвекции, проявление которой уменьшается по мере углубления канала.
Выбор геометрических параметров прижимной ячейки-зонда при электрохимическом контроле покрытий имеет строгое теоретическое обоснование и в значительной степени должен определяться возможностью проявления электрохимических эффектов в условиях проведения анализа [1, 2].
Одним из таких эффектов является отклонение фронта растворения поверхности покрытия от плоского, поскольку в условиях растворения металла при постоянной поверхностной концентрации его катионов, плотность тока зависит от радиальной координаты фронта. Численные расчеты формы растворяющейся поверхности [3] показали незначительность эффекта неплоскостности, в соответствии с этим электродекристаллизацию металлов в прижимных ячейках можно считать фронтально равномерной. В отличие от рассмотренной авторами [3] задачи - растворения электрода, являющегося дном цилиндрического канала в диэлектрическом материале - растворению
К ВОПРОСУ О ПОСТОЯНСТВЕ ДИАМЕТРА КАНАЛА РАСТВОРЕНИЯ ПРИ ЭЛЕКТРОДЕКРИСТАЛЛИЗАЦИИ МЕТАЛЛИЧЕСКИХ ГАЛЬВАНОПОКРЫТИЙ _В ПРИЖИМНЫХ ЯЧЕЙКАХ_
может подвергаться не только выделенный ячейкой - зондом участок поверхности,
в процесс могут вовлекаться и стенки канала, образующегося при растворении покрытия.
По мере растворения металла на поверхности образуются блокирующие слои (солевые или оксидные), вызывающие в итоге пассивацию образца [1], при этом логично предположить, что наличие почти непроводящей пленки на растворяющейся поверхности в процессе ее роста должно изменять распределение токов, протекающих через дно и стенки канала [4]. О том, что существует принципиальная возможность тангенциального увеличения радиуса канала в образце покрытия, свидетельствует и рассмотрение механизма "движения ступени" при растворении кристаллов.
Моделирование электрохимических процессов растворения металлов [2, 3] с учетом возможности тангенциального увеличения радиуса канала необходимо дополнить рассмотрением эквивалентной электрической схемы (рис., позиция А), основными элементами которой являются два параллельно включенных сопротивления: первое характеризует протекание тока через дно канала и электролит К1, второе - через электролит и стенку канала К2. Дополнительно требуется последовательно "включить" сопротивление объема электролита Кэл, а также при необходимости учесть сопротивление основы Ко.
Ко
А
X
С1
с,
Б
М
А
К
К
2
L
К
Рис. Эквивалентные электрические схемы системы электролит - канал - покрытие (А), пористого слоя, растущего на аноде при растворении покрытия в электролите (Б) и схематичное изображение пористой
анодной пленки МА2 на поверхности металла М (В)
Приложенная к системе разность потенциалов распределяется в ходе окисления между растущей пленкой и элементами цепи, состоящей из электролита, подложки и коммутации. В общем случае при условии, что объем электролита достаточен, а толщина формирующейся пленки значительно меньше толщины анализируемого материала образца, изменением сопротивлений элементов электрохимической цепи при анодном растворении можно пренебречь [4]. В то же время, как будет показано ниже, сопротивление растущей солевой пленки как составляющей общего омического сопротивления между электродом сравнения и анодом является функцией потенциала.
Рассмотрение приведенной схемы позволяет объяснить тот факт, что при определенном соотношении геометрических параметров канала и удельных сопротивлений в ходе поляризации возможны процессы протекания тока как через донную часть канала, так и через его стенки, однако аналитическое определение размера канала покрытия, при котором начинается (либо останавливается) процесс растворения его стенок представляет известные трудности.
В работах, посвященных локальному электрохимическому анализу гальванических покрытий, рассматривался вопрос о регистрации момента окончания растворения покрытия на границе покрытие - основа [1]. Имеются указания на размерное соответствие диаметров участка растворения и капиллярного наконечника ячейки до момента полного растворения
Ag-покрытия [5] и увеличение диаметра пятна травления за счет растворения металла с краев канала при поляризации выше потенциала, отвечающего предельному току на вольтамперограмме. Однако авторы работы [6], ссылаясь на результаты визуального обследования, указывают на растворение каналов "по стенкам" и отмечают следующее:
- первоначальное значение площади участка растворения £ зависит от прижимающего усилия на зонд к поверхности образца, влияющего на степень деформации уплотнительного кольца, и от усилия при установке уплотнителя в выточенное гнездо зонда;
- при малых толщинах h = (9^12) мкм почти для всех видов покрытий образующийся при растворении канал имеет форму правильного цилиндра;
- при больших толщинах для Ag - покрытий существует тенденция расширения канала по мере продвижения фронта растворения вглубь образца (т.е. с некоторого момента времени ослабляется продвижение фронта и усиливается растворение стенок). Для Сг, Zn, Сё - покрытий имеет место обратный эффект, для № - покрытий расширения либо сужения канала по мере растворения не наблюдается. Для сохранения первоначально заданной скорости съема металлических слоев необходимо в каждом случае соответствующим образом регулировать силу анодного тока при контроле толщины покрытий. Для учета описанных эффектов вводится коэффициент несоответствия КН [6] (табл. 1), равный отношению экспериментального значения силы тока растворения 1э к его расчетному значению 1р.
Таблица 1
Коэффициенты несоответствия процессов растворения однослойных металлопокрытий при кулонометрическом контроле их параметров
Покрытие/ основа Фоновый электролит (содержание компонентов, г/л) По данным [6] По данным авторов
1р,мА 1э,мА Кн электролит Кн
Ag/Ni (4)+НС1 (170 мл/л) 4,70 5,04 1,07 - -
Zn/Fe (200) 10,62 8,94 0,84 №аС1 (150) 0,90
Сё^е (200) 7,43 6,75 0,91 №Н4№О3 (400) 0,92
Сг/№ СгОз (25)+H2SO4 (100 мл/л) 39,53 35,37 0,89 - -
№/Си NH4SCN (40)+№Н№0з (400) 14,64 14,37 0,98 аналогично [6] 1,02
Проявление указанных закономерностей в первом приближении может быть связано с природой металла покрытия, его структурой и особенностями образования продуктов анодного растворения. Однако индивидуальные характеристики металлов (структуры покрытий) должны проявляться с самого начала процесса растворения, что не согласуется со вторым из приведенных выше замечаний. Кроме того, характер описанных эффектов для разных покрытий не позволяет наблюдать каких-либо устойчивых корреляций между параметрами металлов и особенностями их анодного растворения в прижимных ячейках (при этом отдельные зависимости, возможно, существуют).
Основную причину следует искать в закономерностях формирования слоев продуктов растворения на поверхности покрытий, что вполне согласуется с рассмотренной выше схемой, а также с концепцией постепенного образования и эволюции солевого осадка на анодно растворяющемся металле [7], согласно которой солевая пассивация начинает проявляться еще до достижения максимума тока на вольтамперограмме, по достижении которого имеет место пересыщение. В работах [1, 5] появление максимума на поляризационной кривой (момент окончания растворения покрытия) объясняется осаждением солевой пленки на поверхности рабочего электрода, когда концентрация ионов растворяющегося металла превысит критическую, до этого происходит накопление продуктов электролиза в капилляре наконечника прижимной ячейки. Солевая пассивация обычно проявляется при условии, когда процесс окисления металла М в растворе, содержащем анионы А-, с образованием соли МАг:
К ВОПРОСУ О ПОСТОЯНСТВЕ ДИАМЕТРА КАНАЛА РАСТВОРЕНИЯ ПРИ ЭЛЕКТРОДЕКРИСТАЛЛИЗАЦИИ МЕТАЛЛИЧЕСКИХ ГАЛЬВАНОПОКРЫТИЙ
В ПРИЖИМНЫХ ЯЧЕЙКАХ
М + zA- ^ МЛ2 + ze становится термодинамически выгоднее, чем оксидная пассивация [8]:
М + ^/2)Н2О ^ МОг/2 +zH+ + ze.
Образование устойчивого прианодного слоя, обладающего повышенной вязкостью и сопротивлением, приводит к независимости растворения металла от потенциала, что выражается в появлении на поляризационных кривых участков предельного тока (либо незначительного сглаженных пиков, переходящих в эти участки) [8].
В потенциодинамических условиях скорость процесса анодного растворения может расти до тех пор, пока нет ограничений роста концентрации катионов металла вблизи анода или не ухудшаются условия массопереноса; пересыщение прианодного пространства продуктом растворения создает подобные ограничения. При этом, как известно, должно иметь место превышение произведения активностей ПА (катионов растворяющегося металла М2+ и анионов фонового электролита Л-) над произведением растворимости ПР образующейся соли (ПА>ПР). Выполнение данного условия сразу во всех порах слоя во все моменты времени приводит к блокировке электрода твердой фазой и прекращению анодного процесса (по крайней мере, растворения металла). Установлено [9], что солевая пленка проницаема для реакции ионизации металла, но ее большое электрическое сопротивление сдвигает видимые потенциалы начала возможных электродных реакций в положительном направлении. Таким образом, объемный механизм (за счет превышения ПР) образования солевого слоя и монослойная модель пассивации металлов оказываются недостаточными, а нарастание солевого покрытия при растворении чистых образцов (компактных металлов) наблюдается и после установления тока, т.е. необходимо рассматривать наличие защитного кристаллического пористого слоя соли [10].
Невыполнимы одновременно для всех пор условия ПА<ПР (стенки пор начнут растворяться) и ПА=ПР (концентрация анионов фона постоянна, а концентрация катионов металла имеет градиент), поэтому для каждого момента времени в одних порах имеется пересыщение и кристаллизация, в других - "ненасыщение" и растворение стенок пор [11]. Структура пористого пространства, его фазовая граница не остаются статическими, но подвижны и непрерывно флуктуируют, т.е. каждый элементарный объем слоя в произвольный момент времени либо является "жидкой" порой, либо заполнен твердой фазой. Средним отношением времени пребывания в каждом состоянии определяется пористость среды, в связи с чем положение фазовой границы, а также все граничные условия случайны и уравнения солевой пассивации имеют стохастический характер.
Общий вид выражений, определяющих пористость g, концентрацию диффундирующих ионов металла см и равновесный радиус зародышей кристаллизации К как функции расстояния х от электрода представлен в [11, 12]. Важным следствием, вытекающим из формы данных уравнений, является то, что они даются с учетом зависимости скорости кристаллизации от пересыщения. Благодаря этому существует некоторая внутренняя область солевого слоя толщиной А, где имеет место существенное пересыщение и быстро устанавливается почти стационарная пористость, на периферии Ь ~ х > А кристаллизация замедляется и за время поляризационных измерений стационарный режим установиться не успевает, при этом строгая граница Ь = х фактически недостижима. Здесь происходит медленная эволюция пористой структуры, значение g ~ 1 и слабо влияет на ток. Кроме того, параметр А прямо пропорционален толщине диффузионного слоя 3, зависящей от геометрических параметров канала; ее оценка для рассматриваемых условий дается в [3,9]. Исходя из характера проводимости составляющих электрическая схема системы металл - солевой слой - электролит упрощенно представляется в виде двух параллельно включенных конденсаторов (рис., позиция Б), емкость которых связана с характеристиками солевого слоя и С2~Ь (рис., позиция В [4,12, 13]).
Внутренний слой солевой пленки, таким образом, обладает высокой ионной и крайне малой электронной проводимостью, в связи с чем основная часть скачка анодного потенциала приходится на его падение в этом слое, и ионный перенос через него происходит по механизму проводимости пленок в сильных электрических полях [13]. Толщина внутреннего слоя линейно растет с приложенным потенциалом, в том же направлении меняется эффективное омическое сопротивление, т.к. пористый слой дает вклад в измеряемую величину [14]. Эти выводы подтверждаются анализом режимов поляризации электродов при анодном растворении металлов, позволяющем получить зависимости изменения толщины растущего на аноде слоя h и тока I во времени t в режиме постоянного (U = const) и линейно меняющегося от начального значения U0 со скоростью к (В/с) поляризующего напряжения U(t) = U0+kt.
Таблица 2
Теоретические зависимости I(t), h(t) для рабочих режимов поляризации электродов
Режим поляризации Функциональные зависимости Обозначения в уравнениях
Потенциостатический U = const I(t)=(U/R)exp(-Kt), где K=Ex/RS; h(t)=(U/E)[l-exp(-Kt)]. X - константа, см3/Кл; е 2 Л -площадь электрода, см ; Я -сопротивление, Ом; Е - напряженность, В/см
Потенциодинамичес-кий U(t) = U0+kt h(t)=(kt/E)+E1[Uo-(k/K)][1-exp(-Kt)]; I(t)=B+[(U0/R)-B]exp(-Kt), где B=kS/EX.
В режиме и{() = теоретическая зависимость 1(1} (табл. 2) указывает на
асимптотическое приближение тока к значению I = kS/Ex [4], переход к потенциостатическим условиям указывает на существование предельных (стабильных) значений толщины слоя, время достижения которых определяется сопротивлением элементов цепи Я. В процессе роста пленки происходит перераспределение напряжения между последней и постоянным сопротивлением элементов цепи, при этом падение напряжения в растущем слое ис по мере увеличения его толщины составит ис = и[1-ехр(-К1)]; аналогично меняется падение напряжения на соответствующем сопротивлении, сохраняя постоянство напряженности поля в растущей пленке [4].
Открытым остается вопрос о значении критической концентрации ионов растворяющегося металла Сц, отвечающем по [1, 5, 15] предельному току на вольтамперограмме. Приближенный расчет значений с^ выполненный в [16] (для случая растворения в прижимных ячейках в [9] в рамках модели [3]) позволяет сравнить данные по растворимости солей МЛ2 (снас) и полученные из них расчетные значения предельных токов (4,тах), с экспериментальными значениями ia,э,max и рассчитанными по ним Сц (табл. 3).
Таблица 3
Расчет значений приэлектродной концентрации ионов металла при анодном растворении гальванопокрытий*
Определение cs По данным [ 16] По данным авторов
Расчетное уравнение [16] îc/ZF=DMCs/Ô=KCs
Система М/A- Ni/NO3- (800 г/л) Ni/Cl",(2M)
СНас, МОЛЬ/СМ3 [14] 0,0037 0,0048
ia,max, А/СМ , расчет ПО СНас 2,14 (К=3-10"3см/с) 0,022 (К=2,25-10-5 см/с)
ia.s.max, А/СМ2, (эксперимент) 2,15 0,025
cs, моль/см3, расчет ПО ia,3,max 0,00371 0,0056
*Dm=0,72-10-W/c; z=2; F= 96485 Кл/моль
К ВОПРОСУ О ПОСТОЯНСТВЕ ДИАМЕТРА КАНАЛА РАСТВОРЕНИЯ ПРИ ЭЛЕКТРОДЕКРИСТАЛЛИЗАЦИИ МЕТАЛЛИЧЕСКИХ ГАЛЬВАНОПОКРЫТИЙ _В ПРИЖИМНЫХ ЯЧЕЙКАХ_
Из данных работы [16] выбраны значения предельных токов, почти точно отвечающие концентрации насыщенного раствора №(№О3)2 в данных условиях растворения (800 г/л №Н4№О3). Но уже при переходе к электролиту с содержанием №Н4№О3 400 г/л экспериментальное значение га,э,тах составляет около 3,2 А/см почти при том же dia/dE (данные в таблице 3 не приводятся). Авторы [17] отмечают отсутствие систем, для которых стационарный предельный ток возникает при с<снас, однако обратное соотношение (сц>снас), отвечающее образованию солевого слоя из пересыщенного раствора вполне справедливо для нестационарных условий [17,18].
Проведенные нами моделирование и эксперимент по растворению покрытий достаточной толщины подтверждают выводы, сделанные в [16] относительно пересыщения прианодного пространства продуктом растворения в точке максимума тока; наличие последнего (спад тока) связано с уменьшением скорости анодного процесса за счет фактора К=DM/3, важную роль при этом играет концентрация фонового электролита. Высокие значения 3 для прижимных ячеек (приближенно равные длине капилляра наконечника) ограничивают предельные токи, проточные ячейки не позволяют кардинально изменить условия массопереноса - блокирующие солевые пленки образуются даже на обращенной вниз рабочей поверхности ВДЭ - и максимум тока вполне может не отвечать окончанию растворения покрытия [19]. Солевая пленка, как это следует из ее строения, не способна полностью блокировать процесс анодного окисления металла, он продолжается и после максимума, при этом скорость химического растворения пленки может регулировать электродекристаллизацию покрытия [14, 19] и регистрация нестационарных потенциодинамических кривых не гарантирует получение четкого аналитического сигнала при контроле покрытий значительной толщины. Реализация подобных условий может приводить к различному состоянию поверхности дна и стенок канала, растворение которых может проходить с разной скоростью и даже контролироваться разными факторами; дальнейших исследований требует рассмотрение влияния на формирование солевых слоев характера поверхности покрытия и их рост в ограниченном капилляром прижимной ячейки пространстве.
Описанные факторы, очевидно, вносят существенный вклад в неодинаково выраженное растворение "по стенкам" у разных металлов, однако строить точную модель электродекристаллизации покрытий с учетом непостоянства диаметра канала достаточно сложно, т.к. в этом случае требуется полный анализ всей картины массопереноса, который часто затруднен неполнотой знаний о составе продуктов анодного растворения металлов, о транспортных свойствах концентрированных растворов электролитов [13], трудностью учета ряда осложняющих факторов, связанных со специфической конструкцией прижимных ячеек и структурой гальванопокрытий.
ЗАКЛЮЧЕНИЕ
Таким образом, анодное растворение металлопокрытий в прижимных ячейках при электрохимическом контроле их параметров сопровождается постепенным образованием на поверхности электрода солевой пленки, имеющей условно двухслойное строение. Изменение геометрических параметров канала растворения и свойств солевого слоя вызывает перераспределение токов, протекающих через дно и стенки канала, что приводит к неравномерному изменению его диаметра при анодном растворении покрытий. Непостоянство свойств прианодной части раствора электролита, включая эволюцию блокирующих поверхностных пленок, и концентрационные изменения у стенок канала, приводят к наблюдаемым эффектам расширения либо сужения канала при кулонометрическом определении параметров покрытия, которые требуется компенсировать автоматической корректировкой тока растворения.
СПИСОК ЛИТЕРАТУРЫ
1. Слепушкин В.В. Электрохимический анализ с прижимными ячейками // Журнал аналитической химии. 1987. Т. 52, № 4. С. 606-616.
2. Черепанов И.С., Тарасов В.В., Трубачев А.В. и др. Влияние внешних факторов на электрокристаллизацию медных покрытий в условиях восстанавливающего кулонометрического контроля поверхности // Химическая физика и мезоскопия. 2008. Т. 10, № 1. С. 91-95.
3. Энгельгардт Г.Р., Давыдов А.Д., Жукова Т.Б. и др. Новый метод описания массопереноса при электрохимической реакции на дне цилиндрического канала // Электрохимия. 1992. Т. 28, № 2. С. 251-264.
4. Гаврилов С.А., Белов А.Н. Электрохимические процессы в технологии микро- и наноэлектроники. М. : Высшее образование, 2009. 257 с.
5. Слепушкин В.В., Кузьмина Н.Н., Ярцев М.Г. Влияние омического падения напряжения в растворе на результаты анодно-полярографического метода // Журнал аналитической химии. 1978. Т. 33, № 4. С. 667-671.
6. Вегис Ю.К., Бабаджанов Л.С. Кулонометрические толщиномеры и их метрологическое обеспечение // Измерительная техника. 1996. № 3. С. 27-31.
7. Вегис Ю., Симанавичюс Л. Электрохимическое поведение некоторых гальванопокрытий в растворах для кулонометрического измерения их толщины. Пассивационные явления при растворении медных покрытий // Защита металлов. 2001. Т. 37, № 6. С. 647-653.
8. Корниенко В.А., Атанасянц А.Г., Кочетков В.Л. К вопросу о предельных анодных токах при электрорастворении циркония в концентрированных растворах хлорида натрия // Электрохимия. 1983. Т. 19, № 12. С. 1662-1665.
9. Тарасов В.В., Трубачев А.В., Черепанов И.С. и др. Автоматизированная система интегрального электрохимического контроля коррозионных свойств металлических покрытий // Защита металлов. 2004. Т. 40, № 4. С. 433-438.
10. Колотыркин Я.М., Попов Ю.А., Флорианович Г.М. и др. Экспериментальная проверка обобщенной монослойной модели пассивирования фосфатным раствором // Электрохимия. 1976. Т. 12, № 4. С. 527-535.
11. Попов Ю.А. Кристаллизация защитного солевого слоя на анодно растворяющихся металлах. Структура пористого слоя // Электрохимия. 1976. Т. 12, № 5. С. 817-820.
12. Попов Ю.А., Алексеев Ю.В., Колотыркин Я.М. К вопросу о толщине Д (ю) защитного солевого слоя на поверхности растворяющегося металла // Электрохимия. 1976. Т. 12, № 8. С. 1302-1304.
13. Давыдов А.Д. Предельные токи анодного растворения металлов // Электрохимия. 1991. Т. 27, № 8. С. 947-961.
14. Ландольт Д. Процессы массопереноса при анодном растворении металлов // Электрохимия.1995. Т. 31, № 3. С. 228-234.
15. Слепушкин В.В., Капитонов А.А., Мармусевич Н.А. Влияние геометрических параметров прижимной ячейки на определение состава сплавов и металлических покрытий // Журнал аналит. химии. 1985. Т. 40, № 5. С. 855-859.
16. Вегис Ю., Симанавичюс Л. Электрохимическое поведение некоторых гальванопокрытий в растворах для кулонометрического измерения их толщины. Поведение никелевых покрытий // Защита металлов. 1998. Т. 34, № 2. С. 139-146.
17. Давыдов А.Д., Жукова Т.Б., Энгельгардт Г.Р. Предельные токи анодного растворения цинка в сульфатных растворах // Электрохимия. 1991. Т. 27, № 1. С. 3-8.
18. Энгельгардт Г.Р., Давыдов А.Д., Жукова Т.Б. Нестационарное химическое растворение металла в бинарном электролите // Электрохимия. 1990. Т. 26, № 8. С. 990-996.
19. Вегис Ю., Симанавичюс Л. Электрохимическое поведение некоторых гальванопокрытий в растворах для кулонометрического измерения их толщины. Поведение медных покрытий, полученных из сернокислого электролита // Защита металлов. 1999. Т. 35, № 2. С. 169-177.
ABOUT THE CONSTANCY OF DISSOLUTION CANAL DIAMETER UNDER CONDITIONS OF THE ANODIC DISSOLUTION OF THE METALLIC GALVANIC COATINGS IN THE PRESSED SELLS
Cherepanov I.S., *Tarasov V.V., *Trubachev A.V.
Izhevsk State Technical University, Votkinsk branch, Votkinsk , Russia *Institute of Applied Mechanics, Ural Branch RAS, Izhevsk, Russia
SUMMARY. The causes, leading to infringement of the constancy of dissolution canal diameter under conditions of the electrochemical control of metal coatings thickness, have been examined. The models, described the electrochemical dissolution of the coatings with due regard for dissolution of the canal sides and effect of metal surface salt passivity under conditions of anodic oxidation in the pressed sells have been worked out in detail.
KEYWORDS: metals, galvanic coatings, pressed sells, anodic dissolution, salt passivity.
Черепанов Игорь Сергеевич, кандидат химических наук, доцент Воткинского филиала ИжГТУ
Тарасов Валерий Васильевич, доктор технических наук, профессор, главный научный сотрудник ИПМ УрО РАН, тел. (3412)20-29-25, e-mail: [email protected]
Трубачев Алексей Владиславович, кандидат химических наук, заместитель директора ИПМ УрО РАН, тел. (3412) 50-88-10, e-mail: [email protected]