Применение технологии анодного оксидирования при создании биосовместимых покрытий на дентальных имплантатах Текст научной статьи по специальности «Нанотехнологии»

И.В. Родионов, Ю.В. Серянов

ПРИМЕНЕНИЕ ТЕХНОЛОГИИ АНОДНОГО ОКСИДИРОВАНИЯ ПРИ СОЗДАНИИ БИОСОВМЕСТИМЫХ ПОКРЫТИЙ НА ДЕНТАЛЬНЫХ

ИМПЛАНТАТАХ

Проведены экспериментальные исследования по анодному оксидированию пескоструйно обработанных титановых имплантатов. Исследовано влияние добавки CuSO4 в сернокислый электролит на линейную скорость роста оксидных покрытий. Показана возможность совмещения процессов анодного обезжиривания и оксидирования имплантатов с целью сокращения продолжительности технологического цикла их изготовления. Разработана конструкция специализированной электрохимической ванны для реализации технологии группового анодирования заготовок дентальных имплантатов.

I.V. Rоdionov, Yu.V. Seryanov

APPLICATION OF ANODIC OXIDISION TECHNOLOGY AT

OF BIOCOMPATIBLE COVERINGS ON DENTAL IMPLANTS CREATION

The experimental researches on anodic oxidision of the air-sand processed titanium preparations implants are carried out. The influence of the additive CuSO4 in sulphate electrolyte on peripheral speed of propagation of oxidic coverings is researched here. The opportunity of use of the combined process of an anodic defatting and oxidision implants shown with the purpose of down stroke of duration of a technological route of their manufacturing. The design of the specialized electrochemical bath for realization of group technology anodic oxidision of preparations dental implants is developed.

Современная стоматология успешно решает задачи лечения дефектов и повреждений зубных рядов за счет установки в альвеолярный гребень челюсти внутрикостных дентальных имплантатов, играющих роль искусственных корней зубов. При этом имплантационные материалы должны обладать высокими показателями биологической совместимости со средой, окружающей имплантат, и механической совместимости с действующими на него функциональными нагрузками. Таким требованиям удовлетворяют несколько видов металлических и неметаллических материалов, среди которых шире всего для изготовления дентальных имплантатов применяется технический титан ВТ 1-00.

Высокая надежность и продолжительность функционирования титановых имплантатов достигается путем использования методов создания на них биоактивных покрытий, обеспечивающих остеоинтеграцию имплантата и формирование единой биомеханической системы «кость-имплантат». Одним из эффективных и широко применяемых методов нанесения биокомпозиционных покрытий является плазменное напыление, позволяющее получать покрытия из различных биоактивных материалов с оптимальными показателями адгезии, пористости и морфологии, способствующими остеоинтеграции [1-4].

Вместе с процессами напыления исследуются и разрабатываются методы электрохимического формирования на титановых имплантатах биосовместимых оксидных покрытий при использовании высокой склонности титана к пассивации в окислительной

среде [5]. Получаемые пассивные слои обладают высокими защитными качествами и препятствуют электрохимическому взаимодействию имплантата с биосредой, исключая опасность его коррозионного разрушения и появления вредных изменений в биоструктурах.

Оксидные покрытия на титановых имплантатах получают путем их электрохимического анодирования в сернокислых электролитах, при этом покрытия могут иметь высокие адгезионные качества, однородную пористую структуру, требуемую морфологию поверхности. Наличие диэлектрических свойств оксидных покрытий создает возможность их электризации с формированием характеристик отрицательно-монополярного электрета. Это придает покрытиям способность к адсорбции протеинов, стимулирующую остеоинтеграцию, а также антитромбогенные свойства.

Серьезным недостатком технологии анодирования имплантатов в сернокислых электролитах является длительность формирования покрытий, превышающая 2 часа, а также сложный технологический маршрут изготовления изделий. Поэтому целью настоящей работы являлось исследование влияния состава электролита на формирование анодно-оксидных биосовместимых покрытий титановых дентальных имплантатов и возможности реализации совмещенного технологического процесса анодного обезжиривания и оксидирования, включая разработку специализированного оборудования.

Методика проведения исследований. Объектами экспериментов служили пластинчатые образцы, изготовленные из технического титана ВТ1-00 в форме «флажков», с рабочей поверхностью 2 см2 и толщиной 1 мм. Образцы подвергались предварительной подготовке поверхности с помощью пескоструйной обработки корундовым порошком на установке «Чайка-20» при избыточном давлении воздушноабразивной струи 0,65 МПа в течение 8 мин. Процесс анодирования осуществлялся в стандартной трехэлектродной термостатируемой ячейке с полым цилиндрическим катодом из титана, насыщенным хлорсеребряным электродом сравнения (н.х.с.э.), а также с анодируемым пластинчатым электродом-образцом. В качестве рабочих электролитов анодирования использовались: электролит № 1 200 г/л Н2Б04 и электролит №2 200 г/л Н2Б04 + 50 г/л СиБ04-5Н2О. Для совмещенного процесса анодного обезжиривания и оксидирования применялся электролит №3 200 г/л Н2Б04, 5 г/л сульфанола, 15 г/л Ка28Ю3. Рабочие электролиты приготавливались на основе дистиллированной воды и реактивов квалификации «х.ч.». Жировые загрязнения поверхности образцов имитировались путем нанесения пленок пальмитиновой и стеариновой кислот, вазелина и ЦИАТИМ. Эксперименты производились в гальваностатических условиях, реализуемых с помощью источника постоянного тока Б 5-47. Потенциалы анодирования Е измерялись мультиметром В5-12 относительно н.х.с.э., термостатирование электрохимической ячейки осуществлялось термостатом MLW с точностью ± 0,1 °С.

Результаты исследования влияния добавки CuSO4 в сернокислый электролит на формирование анодно-оксидных биосовместимых покрытий. Исследование оксидирования пескоструйно обработанных титановых (ВТ 1-00) образцов в электролите № 1 200 г/л Н2Б04, показало, что время окончания процесса анодирования до достижения покрытием разумной с биомеханической точки зрения толщины Л=10-30 мкм, составляет величину порядка т=2 часов и более. Это значительно увеличивает продолжительность маршрутного технологического цикла производства имплантатов, в связи с чем был исследован электролит № 2 с добавкой сульфата меди - 200 г/л Н2Б04 + 50 г/л СиБ04-5Н2О.

При исследовании было установлено, что по мере роста толщины оксидного покрытия при значениях времени анодирования т=2-5 мин происходит сдвиг потенциала анодирования в положительную область до величин Е=18-26 В (рис. 1, а) или Е=17-24 В (рис. 1, б), после чего потенциалы анодирования стабилизируются при всех исследованных температурах.

Вольт-амперные характеристики анодированного в электролитах № 1 и № 2 титана при интервале плотностей анодного тока /'=0-10 мА/см2 являются линейными и мало отличаются друг от друга, что соответствует близким значениям удельной электропроводности получаемых оксидных покрытий, равных а1=3,7-10-8 См/см и о2=4,0-10-8 См/см, соответственно.

При более высоких значениях тока />10 мА/см2 анодирование пескоструйно обработанного титана в электролите № 2 повышает удельную электропроводность оксидных пленок примерно в 2,5 раза, которая достигает величины о2=10-7 См/см. Это объясняется тем, что добавка катионов Си2+ активирует анод и оказывает деполяризующее действие.

Наиболее вероятным механизмом такого эффекта следует считать обратимую электрохимическую реакцию [6]:

4ОН- ~ 2Н2О + 02 + 3е , (1)

с равновесным потенциалом Е°р =0,48 В по н.х.с.э., которая при £>18,8 В по н.х.с.э. начинает обеспечивать необратимую химическую реакцию образования оксида меди:

Си2+ + 202 ^ СиО + 3/2-02 . (2)

Оксид СиО обладает достаточно большой дырочной проводимостью, частично шунтирующей малую дырочную проводимость ТЮ2 при включении частиц примесного СиО в состав оксидной пленки.

а б

Рис.1. Температурно-кинетические зависимости потенциалов анодирования титана при плотности тока 5 мА/см2: а - 200 г/л Н2304; б - 200 г/л Н2304 + 50 г/л Си8045Н2О:

1 - 25°С; 2 - 35°С; 3 - 45°С; 4 - 55°С

Кроме этого, присутствие в оксидном покрытии определенного количества меди способствует антисептическому действию на окружающую имплантат биологическую среду, что снижает риск возникновения воспалительных процессов в постоперационный период.

Проведенные экспериментальные исследования по анодированию титана в двух типах электролитов позволили определить ряд параметров, необходимых для эффективного формирования на имплантатах оксидных биосовместимых покрытий (см. таблицу).

Активация титанового анода при анодировании в электролите № 2 приводит к существенному повышению линейной скорости роста оксидных слоев, что было доказано с помощью микрофотографического измерения толщины анодно-оксидных покрытий на пескоструйно обработанных титановых образцах (рис. 2).

а б

Рис.2. Микрошлифы поперечного среза оксидированных титановых образцов (х 190): а - в электролите № 1 (^=10 мкм); б - в электролите № 2 (^=30 мкм)

Рекомендуемые параметры анодирования титановых (ВТ1-00) заготовок имплантатов

в различных электролитах

Электролит Е, в Ї, °С /*, мА/см2 ^Тю2 , мкм /, нм/с т , ч

№ 1 0,17 25 15 10 3,1 0,9

№ 2 0,15 25 50 10 10,2 0,3

Из данных таблицы можно сделать два главных вывода:

- активация анода добавкой в электролит № 1 50 г/л Си804-5Н20 позволяет в 3 раза увеличить скорость роста толщины оксидного покрытия и в 3 раза сократить продолжительность процесса анодного оксидирования имплантатов;

- добавка медного купороса незначительно влияет на коррозионно-электрохимические свойства анодного оксидного покрытия титана, уменьшая величину АЕс всего лишь на 20 мВ.

Результаты исследования совмещения процесса анодного обезжиривания и оксидирования титановых имплантатов. Из-за миниатюрности и сложности конструкций дентальных имплантатов, применение анодирования в технологической цепочке их изготовления вызывает определенные трудности, связанные, в частности, с рассеивающей способностью электролитов и полнотой удаления жировых или других загрязнений, неизбежно возникающих при механическом или электроэрозионном формообразовании заготовок.

Поскольку анодное обезжиривание известно как самостоятельный и достаточно эффективный метод очистки металлической поверхности [7], то исследование возможности одновременного обезжиривания и анодирования титановых имплантатов является весьма целесообразным, так как позволяет существенно сократить продолжительность технологического цикла изготовления имплантатов.

Механизм анодирования титана в сернокислом электролите можно представить в виде постадийной отдачи электронов, катализируемой электросорбцией молекул воды и первичных сульфатных анионов (индексы адсорбированного состояния опущены):

Т + Н2О ^ ТЮЫ + Н+ + е , (3)

ТіОН + Ш О 4 ^ ТІ804 + Н2О + е , Ті8С>4 + Н2О ^ ТІОШО4 + Н+ + е ,

(4)

(5)

ТЮШ04 + 2Н+ ~ ТГ + НБ О 4 + Н2О + е . (6)

Наиболее быстрой в этой схеме является реакция (3) при Е 0р = -1,75 В, а наиболее медленной - реакция (6) при Е0р = -0,04 В по н.в.э. [8]. Это связано с тем, что на границе

раздела фаз в больших поверхностных концентрациях присутствует катион одновалентного титана, образующийся по реакции:

ТЮН + Н+ ~ Т1+ + Н2О . (7)

С другой стороны, в параллельном анодном процессе идет образование аниона О4 по реакциям:

30Н-~Н04 + + 2е , (8)

НО4 + ОН- ~ О4 + Н2О + е , (9)

первая из которых характеризуется величиной Е0р =0,88 В [8].

Основная реакция анодного оксидирования титана реализуется в виде химического окисления катиона Т1+ анионом О

2

Т1+ + О4 ^ ТЮ2 . (10)

Промежуточные электросорбционные интермедиаты, образующиеся в реакциях (3)-(9), а также конечный продукт в виде ТЮ2, формирующийся по реакции (10), легко вытесняют жировые пленки с анодной поверхности. По мере утолщения слоя ТЮ2 описанные выше процессы анодного растворения и оксидирования переходят с поверхности титана в объем покрытия и начинают контролироваться твердофазной ионной миграцией катионов Т1+ и анионов О4. Соответствующее теоретическое рассмотрение приводит при этом к следующей формуле для описания кинетики положительного сдвига потенциала анодирования титана:

С к '

АЕ = а/о = ^2пБ т СО егі" -,= 1 п ом 02

(11)

где і - плотность анодного тока; X - эффективная глубина проникновения О2 в растущую пленку ТіО2 с удельной электропроводностью а; к - константа скорости роста пленки; П - выход по току в расчете на образование диоксида титана; р и М - плотность и молекулярная масса оксида титана; Б и СО- - коэффициент твердофазной диффузии и

поверхностная концентрация анионов О4; т - время анодирования.

Исходя из известных асимптотических свойств функции ошибок, на основании выражения (11) можно заключить, что при малой продолжительности анодирования т<Х2/8Б и толщинах оксидной пленки получается параболический закон роста в виде:

цоМ ’ 0

должительности т

зависеть от времени:

Ае = 2кр^л1 2пБ т СО , (12)

а при большой продолжительности х>>У}/8Б и толщинах сдвиг потенциала перестает

Ае = 4к РГа со . (13)

цоМ 0-

По данным рентгенофазового анализа (РФА), получаемые в совмещенном процессе анодные оксидные покрытия отвечают общей формуле ТЮ2.Х при х<<1, что позволяет применить к интерпретации полученных результатов построенную выше теорию.

I

Действительно, по данным рис.3 видно, что экспериментальные зависимости АЕ-т для анодирования титана в присутствии пленок пальмитиновой кислоты при т<3 мин хорошо аппроксимируются законом параболического роста (12), а при больших значениях времени устанавливаются постоянные значения АЕХ, линейно нарастающие с увеличением плотности тока и уменьшающиеся с ростом температуры при удельной электропроводности а=1,2 мкСм/см и ее энергии активации 21,4 кДж/моль.

Это достаточно хорошо согласуется с предположением о лимитирующей стадии твердофазной диффузии анионов О- в объеме оксидной пленки.

Аналогичные результаты были получены и для других пленок жировых загрязнений (рис. 4). При этом наиболее гидрофобные пленки стеариновой кислоты обладают наименьшей проницаемостью для молекул воды, что приводит к наименьшим

значениям С О - и АЕ (кривая 1), а наименее гидрофобные пленки ЦИАТИМ наиболее

водопроницаемы и дают наибольшие значения С О - и АЕ (кривая 4). В связи с этим

следует считать, что кинетика роста оксидной пленки на титане существенно зависит от химической природы жирового загрязнения.

Толщины получаемых пленок ТЮ2_Х составляют 20-30 мкм при /=2,4 А/дм2, /=60°С, т=10-15 мин, п=50%. Лазерный микроспектральный анализ (ЛМА) показал, что интенсивность линии углерода Хшах=247,85 нм анодированного титана примерно равна интенсивности такой же характерной линии для поверхности эталонного титанового образца, т.е. отвечает естественной примеси карбида титана, что свидетельствует о полноте анодного обезжиривания.

АЕ, В

Рис. 3. Кинетика поляризации поверхности при совмещенном процессе обезжиривания от пленок пальмитиновой кислоты и анодного оксидирования титана при /=60°С и различных плотностях тока, А/дм2: 1 - 0,6; 2 - 1,2; 3 - 1,8; 4 - 2,4

Рис. 4. Кинетика поляризации поверхности при совмещенном процессе обезжиривания и анодирования титана при /=60°С и /=2,4 А/дм2: 1 - пленка стеариновой кислоты,

2 - пленка вазелина, 3 - пленка пальмитиновой кислоты, 4 - пленка смазки ЦИАТИМ

Таким образом, рассмотренные закономерности показывают принципиальную возможность реализации совмещенного обезжиривания и анодирования титановых заготовок с целью получения биосовместимых оксидных покрытий дентальных имплантатов.

На основании полученных результатов разработан усовершенствованный маршрут технологических операций по производству дентальных имплантатов с аноднооксидными биосовместимыми покрытиями (рис. 5). Данный маршрут изготовления анодированных имплантатов включает объединенный двумя электрохимическими процессами этап, позволяющий минимизировать затраты и производственное время на изготовление изделий. Совмещение процессов анодирования и обезжиривания имплантатов позволяет на новом уровне подойти к разработке современных технологий нанесения покрытий.

Токарная обработка

Электроэрозионная обработка

_______________________________________

Пескоструйная обработка А1203 Д = 250-500 мкм, Р = 0,65 МПа, т = 8 мин

Анодное обезжиривание и оксидирование имплантатов: электролит (г/л) - Н2Э04 (200), сульфанол (5), Ма2БЮ3 (15); I = 5-10 А/дм2,

/ = 60°С, т = 50 мин, 1п = 30 мкм

> 1

Промывка > Сушка при температуре > Контроль качества

в дистиллированной воде 50°С покрытии

Рис. 5. Блок-схема маршрутной технологии изготовления дентальных имплантатов

с анодно-оксидными покрытиями

Разработка специализированной гальванической ванны для группового анодирования имплантатов. Для осуществления способа группового анодирования имплантатов разработана конструкция специализированной гальванической ванны, позволяющей одновременно формировать покрытия на заготовках в количестве 10 и более штук (рис. 6).

Ванна состоит из двух цилиндрических корпусов разного диаметра, выполненных из оргстекла, - внешнего 6, имеющего углубление на середине основания, и внутреннего 4 со специальным выступом 19. Выступ 19 корпуса 4 обеспечивает его фиксацию внутри корпуса 6 на некотором расстоянии от его внутренних стенок, что обусловливает образование водяной рубашки 3, по которой циркулирует вода, имеющая заданную термостатом температуру. Циркуляция воды по рубашке происходит через вмонтированные во внешний корпус входной и выходной штуцеры 2 и 13, которые соединены пластиковыми шлангами с термостатом. Наличие водяной рубашки в данной ванне позволяет задавать температуру электролита 15 внутри корпуса 4.

Рис. 6. Ванна для анодного оксидирования титановых имплантатов

В корпусе 4 с помощью болтов 7, выполненных из титана, крепится двойной цилиндрический полый титановый катод 14, состоящий из двух кольцевых катодов разного диаметра, соединенных между собой титановыми проводниками 5. Данная конструктивная особенность катода позволяет обеспечить равномерность процесса анодирования. На дне корпуса 4 расположен магнит 17, запаянный в стеклянную трубку 18, изолирующую его от химического действия электролита. Магнит, вращаясь с помощью магнитной мешалки 1, позволяет перемешивать рабочий электролит и обеспечивать равномерность и стабильность распределения в нем компонентов.

В качестве электрода-анода разработана специальная крышка-кронштейн 12, в которую по определенной окружности вкручены винты 10, на которых резьбовым соединением закреплены титановые заготовки дентальных имплантатов 16, служащие рабочими анодными элементами. Система «крышка-винты» выполнена из титана. На рис.7 изображен вид крышки-анода снизу, показывающий относительное расположение на ней цилиндрических заготовок имплантатов. Отверстие 1 в крышке-аноде предназначено для вывода электрического контакта двойного цилиндрического катода 14 и присоединения к источнику питания. Отверстие 2 служит для необходимой доливки электролита до определенного уровня в случае его испарения при анодировании. Требуемый уровень электролита должен соответствовать специальной уровневой метке 8, нанесенной на внешнюю стенку корпуса 4 (рис. 6).

Крышка 11 ванны изготовлена из оргстекла и имеет соосные с крышкой-анодом 12 симметричные отверстия. Дополнительное отверстие 9 в крышке ванны предназначено для вывода электрического контакта крышки-анода.

Поскольку радиусы цилиндрических имплантатов намного меньше, чем радиусы внешнего и внутреннего катодных колец, то наиболее принципиальным, с точки зрения равномерности анодирования, является расчет распределения тока на пластинчатых имплантатах.

Пусть а и Ь - внутренний и внешний радиусы кольцевого катодного зазора, причем линейный размер пластинчатого имплантата I намного меньше, чем а и Ь при ширине кольцевого зазора И (рис. 8).

Рис. 7. Крышка-анод с расположением цилиндрических заготовок имплантатов (вид снизу)

Рис. 8. К постановке задачи равномерности анодирования пластинчатых имплантатов

Величина потенциала определяется дифференциальным уравнением Лапласа:

д2Е д2 Е

д х2 д у при

д Е(х = 1/ 2) = д Е(х = -1/ 2)

+ — = 0 , (14)

= 0 . (15)

д х д х

Плотность тока i может быть выражена через градиент потенциала Е:

i = - х grad E , (16)

где х - электрическая проводимость раствора, которая в свою очередь отвечает уравнению:

Х = F2iz^CjUj . (17)

j=i

Здесь F=96487 Кл/моль - постоянная Фарадея; n - число разновидностей ионов электролита; Zj, Cj, Uj - заряд, концентрация, подвижность j-го иона.

Соотношения (15)-(17) являются граничными условиями уравнения Лапласа (14).

Конвекция предполагается настолько интенсивной, что она устраняет концентрационные изменения, возникающие при электролизе. Решение уравнения (14) в этом случае может быть выражено следующим образом [9]:

=--------------Izchz (18)

jp K (t h2s)Vsh2 г- sh2(2 Xl$ / где icp - средняя плотность тока на поверхности пластинчатого имплантата; s = nl / 2h; п / 2 дф

К (Z) = J . - полный эллиптический интеграл Лежандра первого рода.

0 д/1 - Z2 sin2 ф

Анализ уравнения (18) показывает, что на краях анодной пластины при значениях х/£=-0,5 и х/£=0,5 должен наблюдаться краевой эффект i/icp^<x>, т.е. анодирование титановых пластинчатых имплантатов контролируется омическим сопротивлением электролита, протекает весьма неравномерно, и в центре пластины реализуемая плотность тока намного меньше, чем на ее краях.

По мере роста анодной оксидной пленки на титановой пластине контроль электрохимического процесса переходит к ионной миграции через пленку и наблюдается линейность вольт-амперной характеристики (ВАХ), описываемая уравнением:

г =

Е а ~

(19)

где а - удельная электропроводность оксидной пленки; X - эффективная глубина проникновения анионов кислорода в пленку.

Граничное условие уравнения Лапласа (16) при этом приобретает вид:

дЕ (у = 0) = Е а

г =

д у X

Если Ь - толщина оксидной пленки, то можно ввести безразмерный параметр 0=Ь/Х и результаты численного решения уравнения Лапласа (14) методом конечных разностей выглядят, как система симметричных кривых (рис. 9).

(20)

Рис. 9. Вторичное распределение тока при омическом контроле процесса анодирования сопротивлением оксидной пленки (цифры на кривых -значения безразмерного поляризационного параметра в)

х/1

ср

Для значений Х<<Ь и на краях анодной пластины имеется краевой эффект

><х> при х/1= -0,5 и х/£=0,5 с первичным распределением тока, а для Х=Ь и G=1 -вторичное распределение тока отличается от равномерного не более, чем на 10% при

г/гср 1.

Итак, для реализации равномерного распределения тока при анодировании титановых пластинчатых имплантатов необходимо обеспечить эффективную глубину проникновения анионов кислорода на всю толщину покрытия, чего можно достигнуть, применяя большие значения плотности тока и напряжения для формирования покрытия при повышенных температурах электролита.

Как следует из вышеизложенного, внутренний и внешний радиусы кольцевого катодного зазора должны существенно превышать типовую длину пластинчатого имплантата £=10-20 мм, т.е. радиусы должны варьироваться в пределах а=100 мм, Ъ=200 мм, а ширина кольцевого зазора к=Ъ-а должна соответствовать возможности эффективного перемешивания рабочего электролита. Высота катодного кольцевого зазора Н должна превышать типовую высоту пластинчатого имплантата и составлять Н<15-20 мм.

Таким образом, анализ проблемы равномерности анодирования титановых пластинчатых имплантатов показал целесообразность выбора следующих параметров гальванической ванны:

внешний диаметр кольцевого катодного зазора, мм.....................300

внутренний диаметр кольцевого катодного зазора, мм................250

высота кольцевого катодного зазора, мм...............................50

ширина кольцевого катодного зазора, мм...............................50

частота вращения мешалки, об/мин.....................................20

анодная плотность тока, А/дм2......................................5-10

температура электролита, °С

60-80

Выводы

1. Проведены экспериментальные исследования по анодному оксидированию технического титана ВТ1-00, широко применяемого в производстве внутрикостных стоматологических имплантатов.

2. Установлено, что добавка СиБ04 в сернокислый электролит позволяет в 3 раза увеличить линейную скорость формирования оксидного покрытия и в 3 раза сократить продолжительность процесса анодного оксидирования имплантатов, незначительно влияя на коррозионно-электрохимические свойства получаемых покрытий.

3. Показана принципиальная возможность реализации одновременного совмещенного процесса анодного обезжиривания и оксидирования имплантатов, позволяющая существенно сократить длительность технологического цикла производства анодированных имплантатов.

4. Разработана конструкция специализированной электрохимической ванны для осуществления способа группового оксидирования заготовок имплантатов.

ЛИТЕРАТУРА

1. Лясников В.Н. Биологически активные плазмонапыленные покрытия для имплантатов / В.Н. Лясников, Л.А. Верещагина // Перспективные материалы. 1996. № 6. С. 50-55.

2. Внутрикостные стоматологические имплантаты. Конструкции, технологии, производство и применение в клинической практике / В. Н. Лясников, Л. А. Верещагина, А.В. Лепилин и др.; под ред. В.Н. Лясникова, А.В. Лепилина. Саратов: Изд-во Сарат. ун-та, 1997. 88 с.

3. Калганова С.Г. Научные основы создания современных дентальных имплантатов с биоактивным покрытием / С.Г. Калганова, В.Н. Лясников // Новое в стоматологии. Спец. вып. «Имплантаты в стоматологии». 1999. № 2. С. 24-28.

4. Научные основы разработки и применения современных дентальных имплантатов / В.Н. Лясников, К.Г. Бутовский, А.В. Лепилин, И.В. Фомин // Клиническая имплантология и стоматология. 1998. № 2 (5). С. 30-35.

5. Родионов И. В. Влияние окисления титана на свойства плазмонапыленных титан-гидроксиапатитовых и оксидных биосовместимых покрытий дентальных имплантатов: дис. ... канд. техн. наук / И.В. Родионов. Саратов, 2004. 183 с.

6. Феттер К. Электрохимическая кинетика / К. Феттер; пер. с нем.; под ред. Я.М. Колотыркина. М.: Химия, 1967. 856 с.

7. Электрохимическая обработка металлов / Ю.В. Серянов, Л.А. Фоменко, Т.Н. Соколова, Ю.В. Чеботаревский. Саратов: СГТУ, 1998. 124 с.

8. Добош Д. Электрохимические константы / Д. Добош. М.: Мир, 1980. 365 с.

9. Ньюмен Дж. Электрохимические системы / Дж. Ньюмен. М.: Мир, 1977. 463 с.

Родионов Игорь Владимирович -

кандидат технических наук,

доцент кафедры «Материаловедение и высокоэффективные процессы обработки» Саратовского государственного технического университета

Серянов Юрий Владимирович -

доктор химических наук,

профессор кафедры «Материаловедение и высокоэффективные процессы обработки» Саратовского государственного технического университета