CC BY
9
250
МАТЕРИАЛЫ V НАЦИОНАЛЬНОГО КОНГРЕССА ПО РЕГЕНЕРАТИВНОЙ МЕДИЦИНЕ
Было выявлено, что любая модификация оказывает положительное влияние на культивирование МСК, однако наибольшее влияние на культивируемые клетки оказывает модификация ПКЛ матриц в течение 24 часов 0,5М водным и 0,25М водно-спиртовым растворами аргинина, а для композитных матриц — ПКЛ/ПЭГ-21\1Н2 после инкубации. Это подтверждается подсчетом количества клеток после культивирования в течении 2, 4 и 24 часов. Работа выполнена при поддержке гранта РФФИ № 20-03-00400 А.
Литература:
1. Nashchekina Y. et al. Int. J. Mol. Sci. J. 2020. V. 21. P. 6989.
2. Nashchekina Y. et al. Polymers. J. 2020. V. 12. P. 1969.
СВОЙСТВА НАНОСТРУКТУРИРОВАННЫХ ПОКРЫТИЙ НА ОСНОВЕ ДИОКСИДА ТИТАНА, НАНЕСЕННЫХ МЕТОДОМ ALD
А.А. Чагаров
Ставропольский государственный медицинский университет Минздрава России, Ставрополь, Россия
e-mail: megalowin188@mail.ru
Ключевые слова: имплантат, наноструктурирование, титан, поверхность
Современная стоматология, одним из решений проблемы потери зубов, предлагает дентальную имплантацию. В связи с этим возрос интерес врачей-стоматологов хирургов и ученных к техническим характеристикам дентальных имплантатов. Сплавы титана давно применяются в медицине для производства различных видов имплантатов. Это связано с биосовместимостью титана и процессом остеоинтеграции, открытым П.-И. Бранемарком в 1960-х годах
Успех остеоинтеграции зависит от ряда факторов: общесоматического состояние организма пациента, соблюдение протоколов оперативного вмешательства и, конечно от поверхности имплантата [1, 2]. Таким образом, модификация поверхности имплантатов может значительно влиять на процессы остеоинтеграции, тем самым способствовать достижению прогнозируемых результатов [3].
Цель исследования. Получение и исследование микроструктуры и шероховатости пленок диоксида титана, полученных методом ALD
Материалы и методы исследования. На 10 образцах прототипов дентальных имплантатов, изготовленных из титанового сплава ВТ6, были получены пленки диоксида титана (TiO2). Изготовлено 10 образцов с различной толщиной. Погрешность ±2 нм. Способ получения — метод плазмоактивированного атомно-слоевого осаждения (ALD). Нанесение покрытие происходило на установке TFS 200 (Beneq, Финляндия) с источником ёмкостно-связанной плазмы. Полученные покрытия исследовали с помощью микроскопов и спектрометров.
Результаты исследований. Осаждение пленок диоксида титана производилось на прототипы титановых имплантатов.
После нанесения пленки из диоксида титана проводили исследование микроструктуры и шероховатости нанесенных пленок.
Исследование элементного состава поверхностного слоя образца пленки показало, что с увеличением ее толщины, уменьшается концентрация алюминия и ванадия.
Заключение. Уменьшения массовой доли алюминия в поверхностных слоях свидетельствует об эффективности использования покрытий диоксида титана, выращиваемых методом ALD, в качестве барьерных слоев для снижения выхода примесей на поверхности титановых имплантатов и их негативного влияния на ткани живого организма.
Литература:
1. Козлова М.В., Мкртумян А.М., Базикян Э.А., Белякова А.С., Дзиковицкая Л.С. Хирургическая стоматология и челюстно-лицевая хирургия, 2019. С. 46-51.
2. Бутовский К.Г. и др. Электроплазменное напыление в производстве внутрикостных имплантатов. Саратов: Сарат. гос. техн. ун-т, 2006. С. 200.
3. Шубладзе Г.К. Медицинский алфавит 13/2014. С. 20-25.
ИССЛЕДОВАНИЕ ЭФФЕКТА ДЕЛЕЦИЙ ЗОН УСКОРЕННОГО РАЗВИТИЯ ЧЕЛОВЕКА В ЛОКУСЕ CNTN6 В РАННИХ ЭТАПАХ НЕЙРОГЕНЕЗА
А.С. Чвилёва1, А.М. Юнусова2, И.Е. Пристяжнюк2,
А.С. Рыжкова2, А.В. Смирнов2,
П.С. Белокопытова1, 2, Т.А. Шнайдер2
1 Новосибирский государственный университет, Новосибирск, Россия
2 Институт цитологии и генетики СО РАН, Новосибирск, Россия
e-mail: a.chvileva@g.nsu.ru
Ключевые слова: HAR, CNTN6, церебральные органоиды, нейрогенез, регуляторные элементы.
Наследственные интеллектуальные нарушения встречаются у 2-3% родившихся детей. Показано, что до 25% этих патологий связаны с вариабельностью числа копии генов. Одним из ярких примеров является ген CNTN6 [1]. Большинство описанных мутаций в гене представлены CNV крупных размеров, вызывающие нарушения умственного развития человека, однако точечная мутация была обнаружена только в одном клиническом случае.
По этой причине было выдвинуто предположение о наличии регуляторных элементов в локусе CNTN6, удаление которых может приводить к нарушениям ранних этапов нейрогенеза человека. С помощью биоинформационного анализа в данном локусе были выявлены две зоны ускоренного развития человека — HAR (Human Accelerated Regions) [2], которые могут выполнять энхан-серную функцию. Целью данной работы является исследование роли HAR в локусе CNTN6. С помощью системы редактирования генома CRISPR/Cas9 были получены линии индуцированных плюрипотентных стволовых клеток с делециями районов, содержащих HAR. Полученные линии были дифференцированы в церебральные органоиды [3], для которых проведен морфологический анализ особенностей ранних этапов нейрогенеза.
Работа выполнена при поддержке РФФИ (проект № 19-29-04067 мк) и Министерства науки и высшего образования РФ (проект № 075-15-2021-1063). Культивирование линий ИПСК проводили на базе ЦКП «Коллекция плюрипотентных культур клеток человека и млекопитающих общебиологического и биомедицинского направления» ИЦиГ СО РАН. Микроскопический анализ проведен на базе ЦКП микроскопического анализа биологических объектов ИЦиГ СО РАН.
Гены & Клетки XVII, №3, 2022
