CC BY
7УДК 541.183 DOI 10.52928/2070-1624-2022-39-11-53-58
ОПТИЧЕСКИЕ И ПРОЧНОСТНЫЕ СВОЙСТВА ЖЕРТВЕННЫХ СЛОЕВ НА ОСНОВЕ ПОЛИИМИДНЫХ ПЛЕНОК
канд. физ.-мат. наук, доц. С. А. ВАБИЩЕВИЧ, Н. В. ВАБИЩЕВИЧ (Полоцкий государственный университет имени Евфросинии Полоцкой); канд. физ.-мат. наук Д. И. БРИНКЕВИЧ, канд. физ.-мат. наук, доц. В. С. ПРОСОЛОВИЧ (Белорусский государственный университет, Минск); канд. физ.-мат. наук В. В. КОЛОС, О. А. ЗУБОВА (ОАО «ИНТЕГРАЛ» - управляющая компания холдинга «ИНТЕГРАЛ», Минск)
Исследованы оптические и прочностные свойства пленок полиимидной композиции (полиимида PI-2610) для создания жертвенного слоя, нанесенной на поверхность пластин монокристаллического кремния марки КДБ-10 методом центрифугирования. Установлено, что они ведут себя как упругопластические материалы. Истинная микротвердость полиимида PI-2610, измеренная при нагрузке 2 г, составляла ~0,5 ГПа. Проведено сравнение спектров нарушенного полного внутреннего отражения (НПВО) полиимида PI-2610 со спектрами НПВО пиррола и полиимида марки каптон. В спектре НПВО полиимида PI-2610 присутствуют полосы колебаний 5-членного кольца и валентных колебаний групп C-Nst и CO-Cst. Наиболее интенсивной полосой в спектре НПВО (как и в пирроле) является полоса деформационных колебаний С—Н с максимумом при 734 см-1. Полоса при ~1700 см-1, обусловленная валентными колебаниями двойной связи С=О, имеет два близкорасположенных максимума при 1706 и 1692 см-1, что свидетельствует о двух вариантах силового поля вокруг связи С=О. Обнаружено присутствие в спектрах полиимида PI-2610 гид-роксильных О-Н-групп, обусловленных наличием остаточной воды в структуре полиимида.
Ключевые слова: жертвенный слой, жидкие композиции, полиимид, микротвердость, нарушенное полное внутреннее отражение, адгезия.
Введение. Полиимидная пленка используется в качестве жертвенного слоя при производстве изделий микроэлектроники. Полиимид химически стоек к большинству органических растворителей, снимается только в сильных кислотах и щелочах, а также в плазме кислорода. Он обладает термической стойкостью до 360 °С [1].
В полиимидной пленке на кремниевой пластине путем плазменного травления через жесткую маску вскрываются контакты к слоям, которые находятся под полиимидом. Затем на нее наносятся необходимые слои (например, диэлектрики, такие как нитрид или оксид кремния, металлы), создается топологический рисунок. Далее в кислородной плазме происходит удаление полиимида, и сформированная на нем многослойная структура как бы повисает в воздухе, держась за подложку только в местах контактов с нижележащими слоями. Такая подвесная конструкция необходима для ряда изделий микроэлектроники, например, для неохлаждаемых фотоприемных устройств (микроболометров), которые используются в тепловизионных системах.
Целью настоящей работы являлось исследование оптических и прочностных свойств пленок на основе полиимида.
Методы исследования. Пленки полиимида PI-2610 толщиной 2,5 мкм наносились на поверхность Si методом центрифугирования. В качестве подложек использовались пластины диаметром 100 мм монокристаллического кремния марки КДБ-10 с ориентацией (111). Сушка пленки проводилась при температуре 150 °С в атмосфере N2. Имидизация выполнялась при 300 °С.
Микроиндентирование проводилось на приборе ПМТ-3 по стандартной методике при комнатной температуре [2]. В качестве индентора использовался алмазный наконечник в форме четырехгранной пирамиды с квадратным основанием и углом при вершине а = 136°. Нагрузка Р на индентор варьировалась в пределах 1.. .50 г. Длительность нагружения составляла 2 с; выдержка под нагрузкой - 5 с. При измерении для каждой экспериментальной точки на поверхность образца наносилось не менее 50 отпечатков. Обработка результатов измерений проводилась с использованием методов математической статистики [3]. Это обеспечивало погрешность измерений микротвердости Н менее 2,5% (с доверительной вероятностью 0,95). Спектры нарушенного полного внутреннего отражения в диапазоне волновых чисел v = 400 - 4000 см1 регистрировались при комнатной температуре ИК-Фурье спектрофотометром ALPHA (Bruker Optik GmbH). Разрешение составляло 2 см-1, количество сканов - 24. Коррекция фона проводилась перед каждым измерением [4].
Экспериментальные результаты и их обсуждение. Отпечатки микроиндентора в пленке полиимида PI-2610 представлены на рисунке 1. Способ съемки обычный - светлое поле. При нагрузке 1 г до 60% отпечатков после снятия нагрузки частично или полностью восстанавливались, уменьшаясь в размерах или полностью исчезая. Однако при нагрузке 5 г эффект восстановления отпечатка не столь выражен: имело
место только искажение формы отпечатка, все отпечатки сохранялись. Форма отпечатков индентора в поли-имидной пленке на кремнии схожа с отпечатками, наблюдавшимися в других полимерных пленках на кремнии (полиметилметакрилат [5] и диазохинон-новолачные фоторезисты [6]). Для всех нагрузок после снятия нагрузки форма отпечатков бочковидная, что свидетельствует о наличии в пленке растягивающих напряжений, образующихся при сушке пленки. При нагрузках свыше 10 г имело место проникновение индентора в кремний (светлые квадраты в центре отпечатка на рисунке 1, а). Параллельно сторонам отпечатка наблюдались навалы сферической формы, обусловленные выносом (выдавливанием) материала из-под индентора (см. рисунок 1, а). На фоне навалов наблюдались темные замкнутые линии, по форме близкие к концентрическим окружностям. Предположительно, это складки на поверхности навалов. Трещин в углах отпечатков, где при индентировании имеют место максимальные напряжения, не наблюдалось. Полученные экспериментальные данные указывают на упругопластический характер деформации пленок полиимида Р1-2610.
а б
а - при нагрузке 50 г, увеличение 700*; б - при нагрузке 10 г, увеличение 350* Рисунок 1. - Отпечатки микроиндентора на пленке полиимида Р1-2610
Поведение при индентировании полимиидной пленки Р1-2610 существенным образом отличается от поведения полиимида марки каптон. При индентировании пленок каптона толщиной 50 мкм отпечатки индентора при обычной съемке (рисунок 2, а) плохо видны и представляют собой крестообразные отпечатки ребер пирамиды. Они мало пригодны для анализа и измерения микротвердости. При наблюдении в поляризованном свете (рисунок 2, б) выявляется специфика отпечатков: с вогнутыми сторонами, видны искривления поверхностей отпечатков в связи с упругим восстановлением их формы. Данный эффект наблюдается для нагрузок в интервале 50-10 г. Для меньших нагрузок 5-2 г отпечатки обычные - квадратной формы, без упругого восстановления. Таким образом, формы отпечатков в полиимиде Р1-2610 и каптоновой полиимидной пленке отличаются существенным образом: в каптоне имеют место напряжения сжатия, т. е. восстановление отпечатка имеет противоположный знак по сравнению с полиимидной пленкой Р1-2610.
а б
Способ съемки: а - светлое поле; б - метод дифференциально-интерференционного контраста
Рисунок 2. - Микрофотографии отпечатков после индентирования пленок полиимида марки каптон толщиной 50 мкм. Нагрузка на индентор варьировалась от 50 до 5 г
Зависимость восстановленной микротвердости от нагрузки для структур полиимид Р1-2610 / кремний представлена на рисунке 3. Когда глубина проникновения индентора не превышает 0,5 толщины пленки (при нагрузке 2 г), значения микротвердости соответствуют истинной микротвердости полиимида Р1-2610 ~0,5 ГПа. При увеличении нагрузки начинает сказываться влияние твердой подложки (микротвердость кремния ~9 ГПа) и значения измеренной микротвердости возрастают. Особенно резкий рост измеренных значений микротвердости наблюдается при приближении и пересечении индентором границы раздела полиимид / кремний. В исследованной пленке индентор достигал границы раздела полиимид / кремний при нагрузке 5 г, и при этой же нагрузке начинался существенный рост измеренной микротвердости.
Отметим, что адгезия полиимидной пленки Р1-2610 к кремнию низкая: пленка достаточно легко отделяется от поверхности кремниевой пластины. На рисунке 4 приведены спектры НПВО пленки полиимида Р1-2610 на кремнии (Р1^1) и этой же пленки, отделенной от кремниевой пластины (пленка Р1). Оба спектра в большинстве спектральных диапазонов совпадают. Исключение составляет только полоса в диапазоне волновых чисел 1240-1400 см-1. Ее структура в пленках Р1 и имеет заметные отличия. Так, в пленке Р1 имеется ярко выраженный максимум при 1349 см-1, в то время как в наблюдается два максимума одинаковой интенсивности. Кроме максимума при 1349 см-1 в присутствует также широкий максимум при ~1250 см-1. Вероятнее всего, он обусловлен влиянием кремниевой подложки. Известно [7], что в спектрах НПВО кремния наблюдается полоса с максимумом при ~1240 см-1, связанная с образованием комплексов SixOy у поверхности кремния. Эффективная глубина проникновения ёэф, поля в исследуемый образец при НПВО составляет ~0,5 длины волны зондирующего излучения [4]. При волновых числах ~1200 см-1 ёэф составляет ~4,5 мкм, что превышает толщину пленки исследовавшегося полиимида Р1-2610.
С эффектом проникновения зондирующего поля в кремниевую подложку связан также эффект подъема фона спектра НПВО структуры при волновых числах ниже 800 см-1. Более низкая интенсивность спектра структуры по сравнению со спектром пленки Р1 обусловлена условиями измерений - более слабым прижимом структуры к источнику излучения. Это приводит к возникновению воздушного зазора между образцом и источником излучения и, соответственно, к увеличению рассеяния в этом зазоре.
Спектр НПВО полиимидной пленки Р1-2610 близок к спектру пиррола, однако отличается от спектра полиимида марки каптон (рисунок 5). Как и в пирроле, в спектре полиимида Р1-2610 присутствуют полосы колебаний 5-членного кольца (1511, 1474 и 1419 см-1) и валентных колебаний группы СО-С^ (1014, 1048 и 1074 см-1) [8; 9]. Наиболее интенсивной полосой в спектре НПВО (как и в пирроле) является полоса деформационных колебаний С-Н с максимумом при 734 см-1. Полосы в диапазоне волновых чисел 12001350 см-1 (1266, 1319 и 1349 см-1) связаны с валентными колебаниями связи С-Ы [9; 10]. Валентными асимметричными колебаниями двойной связи С=О в имидном цикле обусловлена полоса при ~1700 см-1 [8; 11]. Она имеет два близкорасположенных максимума - 1706 и 1692 см-1 (см. рисунок 4), что свидетельствует о двух вариантах силового поля вокруг связи С=О. Не исключено, что это обусловлено двумя разными (несимметричными) положениями этой связи в имидном кольце. Полос с максимумами при ~3400 см-1, присущих валентным колебаниям ^И-связей в пирроле и лактамах, в спектрах НПВО не наблюдалось.
В спектре НПВО присутствует полоса с максимумом при 3077 см-1, обусловленная валентными колебаниями С-И-связей имидного кольца. Отметим, что аналогичная полоса, наблюдавшаяся в спектрах кап-тона (см. рисунок 5), обладала 3 максимумами, что указывает на 3 разных несимметричных положения этой связи в структуре каптона [12]. Наблюдался также ряд слабых полос с максимумами при 2916, 2851, 2792 и 2720 см-1, обусловленных асимметричными и симметричными валентными колебаниями СН2- и СНз-групп. Авторы [10] связывают первые две полосы этой группы с колебаниями С-Н-связей в метоксигруппе. Следует также отметить наличие в спектре НПВО полос, обусловленных валентными колебаниями свободных (3630 см-1) и связанных водородной связью (3490 см-1) гидроксильных О-Н-групп (см. рисунок 5). Соотношение интенсивностей этих полос указывает на преобладание связанных гидроксильных групп в структуре полиимида. Аналогичные полосы в полиимиде марки каптон наблюдались в работе [12] и были обусловлены присутствием остаточной воды в структуре полиимида.
Рисунок 3. - Зависимость микротвердости от нагрузки для пленок полиимида Р1-2610 на кремнии
0,4
0 10 20 30 40 50
Нагрузка, г
0 , 20-
3" 0, 15 о с; о
0, 10 0 05
600 700 V, см-1
£ 0 15"1 г
1400 V, см-1
о с
^ 0, 03-
С 0, 02 0, 01 -0 00
3000 V, см-1
Рисунок 4. - Спектры НПВО пленок полиимида Р1-2610 (1) и структур Р!^ (2)
о £
о
с
2400 2600 2800 3000 3200 3400 3600 3800 4000
0 , 30-
0 , 25-
0 , 25-
F 0 , 20-
о 0,10-С
0,05-
0,00
0,00
400
500
800
900
000
1000
200
600
1800
2000
2500
3500
4000
0,6-
0,6-
0,5-
0,5-
0,4
0,4-
0,3-
0,3-
0,2-
0,2-
0,1
0,1 -
0,0
0,0
1000
1200
1400
1600
1800
400
600
800
1000
V. см
V. см
0,12-
0,10-
0,08-
0,06-
0,04-
0,02-
0,00
Рисунок 5. - Спектры НПВО пленок полиимида Р1-2610 (1) и полиимида марки каптон (2)
Заключение. Показано, что пленки полиимидной композиции (полиимида PI-2610) ведут себя как упругопластические материалы. Истинная микротвердость полиимида PI-2610, измеренная при нагрузке 2 г, составила ~0,5 ГПа. Проведено сравнение спектров нарушенного полного внутреннего отражения полиимида PI-2610 со спектрами НПВО пиррола и полиимида марки каптон. В спектре НПВО полиимида PI-2610 присутствуют полосы колебаний 5-членного кольца и валентных колебаний групп C-Nst и СО-С^. Наиболее интенсивной полосой в спектре НПВО (как и в пирроле) является полоса деформационных колебаний С-Н с максимумом при 734 см-1. Полоса при ~1700 см-1, обусловленная валентными колебаниями двойной связи С=О, имеет два близкорасположенных максимума при 1706 и 1692 см-1, что свидетельствует о двух вариантах силового поля вокруг связи С=О. Обнаружено присутствие в спектрах полиимида PI-2610 гидроксильных О-Н-групп, обусловленных присутствием остаточной воды в структуре полиимида.
ЛИТЕРАТУРА
1. Микротвердость пленок полиимида и полиэтилентерефталата, облученных гамма-квантами 60Co / Д. И. Бринке-вич [и др.] // Вестн. Полоц. гос. ун-та. Сер. С, Фундам. науки. - 2017. - № 12. - C. 30-34.
2. Бринкевич, Д. И. Прочностные свойства термообработанного кремния, выращенного в магнитном поле / Д. И. Брин-кевич, Н. В. Вабищевич, С. А. Вабищевич // Вестн. Полоц. гос. ун-та. Сер. С, Фундам. науки. - 2009. - № 3. -С. 152-157.
3. Бринкевич, Д. И. Физико-механические свойства эпитаксиальных слоев фосфида галлия / Д. И. Бринкевич, Н. В. Вабищевич, С. А. Вабищевич // Вестн. Полоц. гос. ун-та. Сер. С, Фундам. науки. - 2010. - № 9. - C. 92-97.
4. Модификация пленок диазохинон-новолачного фоторезиста за областью внедрения ионов В+ / С. Д. Бринкевич [и др.] // Химия высоких энергий. - 2020. - T. 54, № 5. - С. 377-386. - DOI: 10.31857/S0023119320050046. (Modification of Diazoquinone-Novolac Photoresist Films beyond the Region of Implantation of B+ Ions / S. D. Brin-kevich [et al.] // High energy chemistry. - 2020. - Vol. 54, iss. 5. - P. 342-351. - DOI: 10.1134/S0018143920050045).
5. Микротвердость структур полимер - кремний / Н. В. Вабищевич [и др.] // Вестн. Полоц. гос. ун-та. Сер. С, Фундам. науки. - 2009. - № 9. - C. 97-102.
6. Прочностные свойства структур фоторезист-кремний, у-облученных и имплантированных ионами В+ и Р+ / С. А. Вабищевич [и др.] // Вестн. Полоц. гос. ун-та. Сер. С, Фундам. науки. - 2016. - № 12. - C. 30-36.
7. Ростовые кислородсодержащие дефекты в кремнии, выращенном в слабом вертикальном магнитном поле / Д. И. Бринкевич [и др.] // Микроэлектроника. - 2011. - Т. 40, № 4. - C. 309-312. (Growth oxygen-containing defects in silicon grown in a weak vertical magnetic field / D. I. Brinkevich [et al.] // Russian Microelectronics - 2011. - Vol. 40, iss. 4. -P. 289-292. - DOI: 10.1134/S1063739711040044).
8. Тарасевич, Б. Н. ИК спектры основных классов органических соединений. Справочные материалы / Б. Н. Тара-севич. - М. : МГУ, 2012. - 54 с.
9. Преч, Э. Определение строения органических соединений. Таблицы спектральных данных / Э. Преч, Ф. Бюль-манн, К. Аффольтер. - М. : Мир : Бином, 2006. - 438 с.
10. Оптические спектры термостойких полимерных пленок сетчатой структуры / В. Т. Аванесян [и др.] // Фундаментальные проблемы радиоэлектронного приборостроения : междунар. науч.-техн. конф. (INTERMATIC-2015), Москва, 1-5 дек. 2015 г. : ч. 2 / Моск. гос. ун-т информ. технологий, радиотехники и электроники. - М., 2015. -С. 112-114.
11. Исследование молекулярной ориентации в поверхностных слоях полиимидных пленок методом спектроскопии нарушенного полного внутреннего отражения в области основных колебательных полос / И. В. Хейнонен [и др.] // Высокомолекулярные соединения. - 1998. - Т. 40, № 9. - С.1526-1530.
12. Радиационно-индуцированные процессы в структурах DLC/полиимид при облучении у-квантами 60Со / А. А. Хар-ченко [и др.] // Химия высоких энергий. - 2022. - T. 56, № 5. - С. 378-387. - DOI: 10.31857/S0023119322050059.
REFERENCES
1. Brinkevich, D. I., Lukashevich, M. G., Prosolovich, V. S., Harchenko, A. A., Vabishchevich, S. A., & Vabishchevich, N. V. (2017). Mikrotverdost' plenok poliimida i polietilentereftalata, obluchennyh gamma-kvantami 60Co [Microhardness of pol-yimide and polyethylene terephthalate films irradiated with 60Co gamma quanta]. Vestnik Polotskogo gosudarstvennogo universiteta. Seriya C. Fundamental'nye nauki [Herald of Polotsk State University. Series С. Fundamental sciences], (12), 30-34. (In Russ., abstr. in Engl.).
2. Brinkevich, D. I., Vabishchevich, N. V., & Vabishchevich, S. A. (2009). Prochnostnye svojstva termoobrabotannogo kremniya, vyrashchennogo v magnitnom pole. Vestnik Polotskogo gosudarstvennogo universiteta. Seriya C. Fundamental'nye nauki [Herald of Polotsk State University. Series С. Fundamental sciences], (3), 152-157. (In Russ.).
3. Brinkevich, D. I., Vabishchevich, N. V., & Vabishchevich, S. A. (2010). Fiziko-mekhanicheskie svojstva epitaksial'nyh sloev fosfida galliya [Physicomechanical properties of epitaxial layers gallium phosphide] // Vestnik Polotskogo gosu-darstvennogo universiteta. Seriya C. Fundamental'nye nauki [Herald of Polotsk State University. Series С. Fundamental sciences], (9), 92-97. (In Russ., abstr. in Engl.).
4. Brinkevich, S. D., Grinyuk, E. V., Brinkevich, D. I., & Prosolovich, V. S. (2020). Modifikaciya plenok diazohinon-novolachnogo fotorezista za oblast'yu vnedreniya ionov B+. Himiya vysokih energij, 54(5), 377-386. (In Russ.). DOI: 10.31857/S0023119320050046. (Brinkevich, S. D., Grinyuk, E. V., Brinkevich, D. I., & Prosolovich, V. S. (2020). Modification of Diazoquinone-Novolac Photoresist Films beyond the Region of Implantation of B+ Ions. High energy chemistry, 54(5), 342-351). DOI: 10.1134/S0018143920050045.
5. Vabishchevich, N. V., Vabishchevich, S. A., Brinkevich, D. I., & Brinkevich, S. D. (2009). Mikrotverdost' struktur po-limer - kremnij. VestnikPolotskogo gosudarstvennogo universiteta. Seriya C. Fundamental'nye nauki [Herald of Polotsk State University. Series С. Fundamental sciences], (9), 97-102. (In Russ.).
6. Vabishchevich, S. A., Vabishchevich, N. V., Brinkevich, D. I., Prosolovich, V. S., Yankovskij, Yu. N., & Brinkevich, S. D. (2016). Prochnostnye svojstva struktur fotorezist-kremnij, y-obluchennyh i implantirovannyh ionami B+ i P+ [Strength properties of photoresist-silicon structures, y-irradiated and implanted by B+ and P+ ions]. Vestnik Polotskogo gosudarstvennogo universiteta. Seriya C. Fundamental'nye nauki [Herald of Polotsk State University. Series С. Fundamental sciences], (12), 30-36. (In Russ., abstr. in Engl.).
7. Brinkevich, D. I., Odzhaev, V. B., Petlickij, A. N., & Prosolovich, V. S. (2011). Rostovye kislorodsoderzhashchie defekty v kremnii, vyrashchennom v slabom vertikal'nom magnitnom pole. Mikroelektronika, 40(4), 309-312. (In Russ.). (Brinkevich, D. I., Odzhaev, V. B., Petliskii, A. N., & Prosolovich, V. S. (2011). Growth oxygen-containing defects in silicon grown in a weak vertical magnetic field. Russian Microelectronics, 40(4), 290-293).
8. Tarasevich, B. N. (2012). IK spektry osnovnyh klassov organicheskih soedinenij. Spravochnye materialy [IR spectra of the main classes of organic compounds. Reference materials]. Moscow: MGU. (In Russ.).
9. Prech, E., Byul'mann, F., & Affol'ter, K. (2006). Opredelenie stroeniya organicheskih soedinenij. Tablicy spektral'nyh dannyh [Determination of the structure of organic compounds. Spectral data tables]. Moscow: Mir, Binom. (In Russ.).
10. Avanesyan, V. T., Vaganov, G. V., Rakina, A. V., & Platko, A. P. (2015). Opticheskie spektry termostojkih polimernyh plenok setchatoj struktury. In Fundamental'nye problemy radioelektronnogo priborostroeniya (INTERMATIC-2015), ch. 2 (112-114). Moscow: MIREA. (In Russ.).
11. Hejnonen, I. V., Mamedov, R. K., Bobasheva, A. S., Lajus, L. A., & Zolotarev, V. M. (1998). Issledovanie molekulyarnoj orientacii v poverhnostnyh sloyah poliimidnyh plenok metodom spektroskopii nareshennogo polnogo vnutrennegootra-zheniya v oblasti osnovnyh kolebatel'nyh polos [Study of Molecular Orientation in Surface Layers of Polyimide Films by Attenuated Total Internal Reflection Spectroscopy in the Region of Main Vibrational Bands]. Vysokomolekulyarnye soedineniya [Polymer Science], 40(9), 1526-1530.
12. Harchenko, A. A., Fedotova, Yu. A., Zur, I. A., Brinkevich, D. I., Brinkevich, S. D., Grinyuk, E. V., ... Lastovskij, S. B. (2022). Radiacionno-inducirovannye processy v strukturah DLC/poliimid pri obluchenii y-kvantami 60So. [Processes Induced in DLC/Polyimide Structures by Irradiation with 60Co y-Rays]. Himiya vysokih energij [High energy chemistry], 56(5), 378-387. DOI: 10.31857/S0023119322050059.
Поступила 07.09.2022
OPTICAL AND STRENGTH PROPERTIES OF SACRIFICIAL LAYERS BASED ON POLYIMIDE FILMS
& VABISHCHEVICH, N. VABISHCHEVICH (Euphrosyne Polotskaya State University of Polotsk);
D. BRINKEVICH, V. PROSOLOVICH (Belarusian State University, Minsk);
V. KOLOS, O. ZUBOVA ("INTEGRAL" Joint Stock Company, Minsk)
Optical and strength properties offilms of a polyimide composition (polyimide PI-2610) for creating a sacrificial layer deposited on the surface of single-crystal silicon plates of the KDB-10 brand by centrifugation are investigated. It has been established that they behave like elastoplastic materials. The true microhardness of polyimide PI-2610, measured at a load of 2 g, was ~0,5 GPa. The spectra of the disturbed total internal reflection (NPVO) ofpolyimide PI-2610 were compared with the spectra of the NPVO ofpyrrole and kapton polyimide. In the spectrum of the polyimide PI-2610, there are bands of vibrations of the 5-membered ring and valence vibrations of the C—Nst and CO-Cst groups. The most intense band in the spectrum of NPVO (as in pyrrole) is the band of deformation vibrations C-H with a maximum at 734 cm'1. The band at ~1700 cm'1, caused by valence vibrations of the C=O double bond, has two closely spaced maxima at 1706 and 1692 cm'1, which indicates two variants of the force field around the C=O bond. The presence of hydroxyl O —H groups in the spectra of polyimide PI-2610 was detected due to the presence of residual water in the polyimide structure.
Keywords: sacrificial layer, liquid compositions, polyimide, microhardness, attenuated total reflection, adhesion.
