Научная статья на тему 'Термодинамический анализ фазово-химических взаимодействий в системе Si o C'

Термодинамический анализ фазово-химических взаимодействий в системе Si o C Текст научной статьи по специальности «Нанотехнологии»

CC BY
469
218
i Надоели баннеры? Вы всегда можете отключить рекламу.
Ключевые слова
ФАЗОВО-ХИМИЧЕСКИЕ РАВНОВЕСИЯ / СИСТЕМА SI O C / ДИАГРАММА СОСТОЯНИЯ / ТРЕХКОМПОНЕНТНАЯ СИСТЕМА / КАРБИД КРЕМНИЯ / PHASE AND CHEMICAL EQUILIBRIUM / SYSTEM OF SI O C / STATE DIAGRAM / THREE-COMPONENT SYSTEM / SILICON CARBIDE

Аннотация научной статьи по нанотехнологиям, автор научной работы — Полях Ольга Анатольевна, Якушевич Николай Филиппович, Галевский Геннадий Владиславович

Описана диаграмма состояния трехкомпонентной системы Si O C в виде треугольника концентраций Гиббса. Рассмотрена последовательность протекания химических реакций в условиях, когда газы, образующиеся при протекании реакций, не покидают реактор и Р общ = Σ Р i = 1 атм. Показано, что в этих условиях образование жидкого кремния за счет конденсации из газовой фазы при последовательном протекании реакций SiO 2 + 3C = SiC + 2CO, 2SiO 2 + SiC = 3SiO + CO, SiC тв → Si г, Si 2C г, SiC 2г, Si г возможно лишь при температуре 2500 К. Проанализированы процессы, протекающие в условиях осуществления нагрева шихтовой смеси в открытых реакторах или в вакуумных установках (газы из реактора непрерывно удаляются). Показано, что в этих случаях образование жидкого кремния происходит при более низких (2080 К) температурах. Обоснована целесообразность введения в шихтовые смеси карбидкремниевых материалов, что приводит к увеличению выхода кремния, уменьшению объема газовой фазы, энергетических затрат. Показано, что при введении в систему дополнительных компонентов возможно образование металлических и шлаковых расплавов ( aSi < 1,aSiO < 1), при этом область термодинамически стабильного существования карбида кремния с газовой фазой сужается за счет смещения инвариантных равновесий Si SiC газ в сторону более низких температур, а равновесие SiO 2 SiC газ в сторону более высоких температур.

i Надоели баннеры? Вы всегда можете отключить рекламу.

Похожие темы научных работ по нанотехнологиям , автор научной работы — Полях Ольга Анатольевна, Якушевич Николай Филиппович, Галевский Геннадий Владиславович

iНе можете найти то, что вам нужно? Попробуйте сервис подбора литературы.
i Надоели баннеры? Вы всегда можете отключить рекламу.

Thermodynamic analysis of phase-chemical interactions in the Si O C system

The paper describes a state ternary phase diagram of Si O C system in the form of a Gibbs concentration triangle. The sequence of chemical reactions under conditions where the gases generated by the reaction, do not leave the reactor and Р com = Σ Р i = 1 аtm, is considered. It is shown that under these conditions the formation of liquid silicon by condensation from the gas phase with sequential reactions of SiO 2 + 3C = SiC + 2CO, 2SiO 2 + SiC =3SiO + CO, SiCs → Sig, Si 2C g, SiC 2g, Si g is possible only at 2500 K. The processes, taking place in the conditions of implementation of heating the feedstock mixture in open reactors or vacuum systems (gases are continuously removed from the reactor), have been analyzed. It has been shown that in these cases the formation of liquid silicon occurs at lower temperatures (2080 K). The expediency of addition in feedstock mixtures carbide materials is substantiated, which leads to the increased yield of silicon, the decrease of the gas phase volume, as well as energycosts. It has been shown that the introduction of additional components into the system the formation of metal andslag melts is possible ( a Si < 1, a SiO2 < 1), at the same time the area of the thermodynamic stability of the existence of silicon carbide with the gas phase narrows due to the displacement of an invariant Si SiC gas equilibrium at lower temperatures, but the SiO 2 SiC gas balance narrows into the direction of higher temperatures.

Текст научной работы на тему «Термодинамический анализ фазово-химических взаимодействий в системе Si o C»

ХИМИЯ И ХИМИЧЕСКИЕ ТЕХНОЛОГИИ

УДК 666.782:536.7

О.А. Полях, Н.Ф. Якушевич, Г.В. Галевский

Сибирский государственный индустриальный университет

ТЕРМОДИНАМИЧЕСКИЙ анализ фазово-химических ВЗАИМОДЕЙСТВИЙ В СИСТЕМЕ SI - О - С

Анализ фазово-химических равновесий в системе Si - О - С многократно представлялся в виде графических диаграмм состояния в ко-

ординатах

ИГ

Т

!g^io

104

Т

или

PSl0-T [1 - 7], в которых определены параметры инвариантных, моновариантных и бивариантных состояний в системе Si - О - С. В работе [4] показано влияние железа на изменение параметров трехфазных (моновариантных) равновесий Si - SiC - газ, Si02 - SiC - газ, Si02 -С - газ, а в работе [7] учтено также влияние изменения активности кремнезема (aSlCK) в

оксидных расплавах, участвующих во взаимодействиях Si02 + С, Si02 + SiC, Si02 + Si.

Недостатком таких диаграмм состояния является невозможность количественных расчетов материальных балансов фазовохимических взаимодействий. Эта проблема решена в работах [6, 8] при помощи представления системы Si - О - С в виде треугольника концентраций Гиббса трехкомпонентной системы. Фрагмент такой диаграммы представлен на рис. 1.

На диаграмме представлены поля термодинамически стабильного сосуществования с газовой фазой кремния, углерода, оксида и карбида кремния, разделенные линиями моно-

А’о

Рис. 1. Фрагмент диаграммы состояния трехкомпонентной системы Si - О - С

-28 -

Вестник Сибирского государственного индустриального университета № 4 (10), 2014

вариантных трехфазных равновесий: Si - Si02 -газ (SiO - G2), Si02 - SiC - газ (G2 - GO, SiC -С - газ (Gi - G3) и Si - SiC - газ (G2 - G3), Si02 -С - газ (Gi - O'), SiC - С - газ (G3 - Q. Параметры четырехфазных инвариантных равновесий Si02 - Si - SiC - газ, Si02 - SiC - С - газ и Si -SiC - С - газ представлены, соответственно, точками G2 (2080 К), Gj (1800 К) и G3 (3200 К).

При восстановлении кремния углеродом в качестве шихтовых смесей используются оксиды кремния (пески, кварциты, маршалит и пр.) и углеродистые материалы (коксы, угли) в необходимых соотношениях Si02 + ЗС (при производстве карбида кремния), Si02 + 2С (при производстве кремния и кремнистых сплавов), Si02 + С (при получении микрокремнезема) [9 - 12]. Эти соотношения показаны точками 1 - 3 на соединительной прямой Si02 - С (рис. 1).

При помощи диаграммы можно качественно и количественно проанализировать процессы, протекающие при нагревании шихтовых смесей. Например, при нагревании смеси, за-шихтованной для осуществления реакции

Si02 + 2С = Si + 2СО, (1)

соответствующей на диаграмме точке 2 на соединительной прямой Si02 - С, при низких температурах при взаимодействии оксида кремния с углеродом состав газовой фазы изменяется вдоль кривой O' - G\. При температуре выше 1300 К газовая фаза над шихтовой смесью будет состоять, в основном, из монооксида углерода; при повышении температуры в результате взаимодействия Si02 - С происходит частичная газификация кремнеземсодержащего сырья по реакциям

Si02 +хС = Si02 х +хСО, (2)

Si02 +С = SiO + СО, (3)

в результате чего в газовой фазе появляется монооксид кремния (SiO). При температуре 1800 К концентрация (Рсо) монооксида кремния в газовой фазе достигает 0,0057, при этом появляется возможность образования карбида кремния по реакции

SiO + 2С = SiC + СО. (4)

Это состояние соответствует на диаграмме инвариантной точке G\ и может быть описано реакцией:

Si02 + ЗС = SiC + 2СО. (5)

Так как принятая шихтовка соответствует стехиометрическому соотношению Si02+2C, т.е. углерод для осуществления реакций (4), (5) присутствует в недостатке и при достижении равновесия полностью израсходуется, при этом в качестве продуктов реакции останутся избыточный оксид кремния и образовавшийся карбид. При дальнейшем нагревании состав газовой фазы будет изменяться вдоль пограничной кривой G\ - G2, разделяющей поля стабильного сосуществования с газовой фазой Si02 и SiC, практически проходящей вдоль соединительной прямой SiO - СО и отражающей увеличение концентрации монооксида кремния в газовой фазе при повышении температуры при взаимодействии реагентов по реакции

2Si02 + SiC = 3SiO + СО. (6)

При достижении температуры 2080 К концентрация монооксида в газовой фазе достигает примерно 66 %, при этом остаточная часть диоксида кремния расходуется по следующему уравнению:

Si02 + 2SiC = 381ж + 2СО (7)

и появляется новая фаза - жидкий кремний.

При дальнейшем повышении температуры состав газовой фазы, равновесно сосуществующей с карбидом кремния и жидким кремнием, изменяется вдоль кривой G2 - G3, характеризующей трехфазное моновариантное равновесие Si* - SiCTB - газ, а состав смеси конденсированных фаз (Si + SiC) - вдоль линии SiC - Si (на стороне треугольника концентраций Si - С). В газовой фазе протекают следующие реакции:

SiO + SiCTB — 2Si* + СОг; (8)

2SiCTB —► SiC2r + Si*, r; (9)

Si* ^ Sir, (10)

2Sir —► Si2r; (11)

SiCTB —► SiCr; (12)

SiCr + Sir = Si2Cr, (13)

за счет чего газовая фаза обедняется монооксидом кремния и обогащается парами кремния (Si, Si2, Si3) и карбидов кремния (SiC, Si2C, SiC2), смесь конденсированных продуктов (Si* + SiCTB) обогащается кремнием, а доля карбида кремния в смеси понижается. При достижении состава газовой фазы, соответствующего точке т на кривой G2 - G3 (2500 К), карбид кремния

-29 -

Вестник Сибирского государственного индустриального университета № 4 (10), 2014

полностью исчезает, в равновесии с газовой фазой состава точки т сосуществует только жидкий кремний. Соотношение количеств жидкого кремния и газовой фазы следующее: Si* : газ = (Gi - т) : (т - Si) ~ (17 : 127) = 0,134. При дальнейшем нагревании происходит испарение кремния, полимеризация атомов кремния и молекул его карбида в газовой фазе по реакциям (11), (13), при этом газовая фаза обогащается молекулами кремния (Si2, Si3) и карбида (SiC, Si2C), последние с повышением температуры диссоциируют, насыщая расплав кремния углеродом.

Следует иметь в виду, что диаграмма фазово-химических равновесий системы Si - О - С рассчитана и построена из следующих условий: Р0бЩ = Е/', = 1 атм.; образующиеся газы не покидают реактор, т.е. фактически диаграмма отражает условия конденсации из газовой фазы жидких и твердых продуктов (Si*, SiCTB, Ств, Si02TB> *). Если рассматривать процессы, протекающие в обратном направлении - нагревание твердых шихтовых смесей (производство кремния, кремнистых сплавов, карбида кремния), то окажется, что для шихтовой смеси соответствующей стехиометрии уравнения (1) (точка 2), после протекания реакции (5) карбидообразования, при температуре 1800 К (точка Gi) и при дальнейшем нагревании продуктов реакции Si02TB + 2SiCTB, диоксид кремния израсходуется по реакции (6) уже при температуре около 1900 К (точка 2" на кривой Gi - G2). Конода 2" - 2 - SiC показывает, что в этих условиях в конденсированной фазе остается только карбид кремния и при дальнейшем нагревании от 1800 до 2500 К состав газовой фазы должен изме-до 2 при этом соотношение Хзю : ХС0 в газовой фазе остается практически постоянным, газ обогащается парами карбида кремния и продуктами его диссоциации по реакциям (9), (12), (13), а количество конденсированного карбида кремния незначительно уменьшается. Достижение инвариантного равновесия Si* - Si02* - SiCTB - газ (точка G2) при 2080 К, характеризующего начальные условия

(

XSiO

Л

2

образования жидкого кремния, при

V хсо

такой интерпретации процесса практически невозможно, а появление жидкого кремния в этом случае возможно лишь при достижении температуры 2500 К (точка 2"').

Очевидно в процессах, протекающих в открытых реакторах (например, в руднотермических печах) или в вакуумных установках, необходимо учитывать постоянное удаление газа

и изменение состава исходной шихтовой смеси в процессе нагревания.

Так, при взаимодействии Si02 + SiC каждой точке состава смеси на кривой G) - G2 (G). 2', 2", 4', Г, G2) соответствует твердая смесь, лежащая на другом конце конод на линии Si02 -SiC (G", N4', N2", G2”), а соответствующий каждой температуре валовый состав реагентов отобразится точкой, лежащей на соответствующей коноде (с учетом непрерывного удаления газов). Изменение состава шихтовой смеси представится кривой G”- N'r - N'2. - N'4 - N'g a

длины отрезков N'r - N'r, Nr - N'r ,N4-N'4 пропорциональны количеству газа, образовавшегося при нагревании смеси от температуры, соответствующей точке 2' до 2", от 2' до 4' и т.д.

Состав твердой смеси, образующейся при достижении температуры 2080 К (точка G2), отобразится точкой G", при этой температуре остаточный расплав диоксида кремния реагирует по реакции (5) до полного исчезновения диоксида кремния. Состав газовой фазы практически не изменяется, а состав твердой смеси изменяется от точки G" до /'(SiC).

При непрерывном удалении газа кислород в системе исчезает и рассматриваемая трехкомпонентная система Si - О - С превращается в двухкомпонентную Si - SiC (Si - С), в которой паровая фаза по мере повышения температуры обогащается парами кремния за счет его испарения и диссоциации карбида, последний при температуре 3400 К полностью исчезает и в конденсированной фазе остается насыщенный углеродом кремний в равновесии с паровой фазой, состоящей из атомов и молекул кремния, углерода и карбида (Si, Si2, Si3, SiC, SiC2, Si2C, Cb C2, C3).

С помощью диаграммы состояния можно теоретически обосновать целесообразность введения в шихтовые смеси при выплавке кремнистых сплавов карбидкремниевых материалов (карбидкремниевых брикетов, закар-биженных графитов пересыпки углеграфитового производства, аморфа и сростков производства карбида кремния, бой карбидкремниевых и шамотокарбидных огнеупоров и абразивного инструмента на основе карбида кремния) [9 - 13]. Так, например, если в шихтовой смеси (Si02 + 2С) часть углерода кокса заменить карбидом кремния, т.е. восстановительная смесь будет состоять из кокса и карбида, то точка состава шихтовой смеси на диаграмме покажется точкой, лежащей на пересечении прямой Si + СО с линией пересечения координаты кремния xSl, рассчитанной исходя из стехиометрических коэффициентов ниже пред-

-30-

Вестник Сибирского государственного индустриального университета № 4 (10), 2014

ставленной реакции. При этом процесс восстановления может быть описан следующим уравнением:

xSi02 + (1 - x)SiC + (Зх - 1)С = Si + 2хСО. (14)

При замене 10 % углерода кокса углеродом карбида кремния (CSlC ч С0бщ = ОД), состав шихтовой смеси на диаграмме Si - О - С отобразится точкой 10, для которой при составе газовой фазы, соответствующему точке 2" (где для шихтовой смеси состава точки 2 диоксид кремния исчезает), в равновесии будет находиться твердая смесь Si02 + SiC состава точки 10" на линии Si02 - SiC (рис. 2).

В этом случае диоксид кремния в процессе взаимодействия Si02 и SiC израсходуется полностью при более высоких температуре и равновесной концентрации монооксида кремния в газовой фазе (точка 10' на кривой Gi - G2), а кремний начнет конденсироваться из газовой фазы при более низкой температуре (точка 10").

В таблице рассчитаны стехиометрические коэффициенты и валовые концентрации (%) компонентов в шихтовой смеси для соотношений Csic : С0бщ = 0,1 ч- 0,8, соответствующим доле замены углерода восстановителя (кокса) углеродом карбида кремния 10 - 80 %, обозначенных на рис. 2 точками 10-80 на линии Si -СО, 10' - 70' на кривой Gi - G2, 10"' - 70'” на кривой G2 — G3 и 10"- 70" на линии Si02 - SiC.

При увеличении доли карбида кремния в шихтовой смеси равновесная концентрация монооксида кремния в газовой фазе повышается, а температура начала конденсации кремния из газовой фазы снижается: точки 10', 20', 40', 50\ 70' на кривой Gi - G2, точки 10" - 70" на кривой G2 — G3.

Уменьшение энергетических затрат на нагрев газовой фазы и восстановление кремния (часть кремния вносится карбидом в восстановленном виде) обусловливает значительное сокращение расхода электроэнергии и повышение производительности печей.

Рис. 2. Схема изменения количества и состава газовой и конденсированных фаз в системе Si - О - С при замене в шихтовой

смеси части углерода карбидом кремния

-31 -

Вестник Сибирского государственного индустриального университета № 4 (10), 2014

Результаты замены углерода и диоксида кремния карбидом кремния для реакции xSi02 + (1 - x)SiC + (Зх - 1)С = xSi + 2хСО

г

^SiC

Zc

Стехиометрические коэффициенты

Компонентный состав

X

1-х

Зх - 1

*Si

*Si

Хс

х0

0 1 0 2 1 2,0 0,200 0,400 0,400

0,1 0,833 0,167 1,500 1 1,667 0,23 0,385 0,385

0,2 0,714 0,286 1,438 1 1,438 0,262 0,379 0,379

0,4 0,550 0,450 0,650 1 0,650 0,312 0,344 0,344

0,5 0,500 0,500 0,500 1 1,0 0,333 0,333 0,333

0,7 0,416 0,584 1,248 1 0,832 0,374 0,313 0,313

0,8 0,384 0,616 0,352 1 0,400 0,400 0,300 0,300

При введении в систему дополнительных компонентов, образующих металлические высококремнистые расплавы Me - Si и высококремнеземистые шлаки за счет уменьшения активности кремния в сплаве и возможного снижения активности оксида кремния в оксидном расплаве, область термодинамически стабильного сосуществования карбида кремния сужается - линия моновариантного равновесия Si - SiC - газ смещается в сторону более низких температур, а линии моновариантных равновесий Si - Si02 - газ и SiC - Si02 - газ - в сторону более высоких температур. На рис. 1, 2 эти состояния показаны штриховыми линиями для значений aSl = 0,8 и oSiq2 =0,8.

Следует заметить, что при введении дополнительных компонентов в систему количественные расчеты с использованием диаграмм состояния трехкомпонентных систем становятся недостаточно корректными.

Выводы. Проанализирована возможность количественных оценок состояний равновесия в системе Si - О - С при нагревании твердых шихтовых смесей (диоксид кремния + углерод). Показана необходимость при термодинамическом анализе учета удаления газовой фазы в открытых реакторах или вакуумных установках при нагревании твердых шихтовых смесей. Теоретически обоснована целесообразность введения в состав шихтовых смесей для выплавки кремния и высококремнистых сплавов материалов, содержащих карбид кремния. Показано, что при плавке кремния в дуговых руднотермических печах с целью достижения оптимальных параметров технологического процесса необходимо, чтобы на поверхности реакционного тигля степень карби-дизации углеродистого восстановителя достигала 80 %. Отмечено, что в присутствии растворителя (при понижении активности крем-

ния в кремнистых расплавах) наилучшие показатели технологического процесса (минимальный расход электроэнергии, максимальная производительность печных агрегатов, минимальные потери кремния) могут быть достигнуты при более низких температурах.

iНе можете найти то, что вам нужно? Попробуйте сервис подбора литературы.

БИБЛИОГРАФИЧЕСКИЙ СПИСОК

1. К г i w s к у W.A., Schuman К. Deziva-tion of phase diagram for the silicon - oxyden - carbon // Trans of metals. Soc. AJME. 1961. Vol. 221. Pp. 898 -903.

2. Рябчиков И.В. Термодинамическое исследование системы Si - О - С при высоких температурах // Изв. АН СССР. Металлы. 1966. №2. С. 14-18.

3. Ростовцев С.Т., А ш и и А.К., Анкудинов Р.В. идр. Фазовые равновесия и некоторые кинетические особенности взаимодействий в системе Si - О - С // Изв. АН СССР. Металлы. 1972. № 6. С. 34 - 39.

4. Толстогузов Н.В. Теоретические основы и технология плавки кремнистых и марганцевых сплавов. - М.: Металлургия, 1992.-239 с.

5. Зубов В.Л., Г а с и к М.И. Электрометаллургия ферросилиция. - Днепропетровск: Системные технологии, 2002. - 704 с.

6. Якушевич Н.Ф., Б е р д и и к о в В.И. Диаграмма фазово-химических равновесий системы Si - О - С // Изв. вуз. Черная металлургия. 1984. № 10. С. 3 - 8.

7. Катков О.М., Ну й кин Ю.Л., Карпов И.К. Исследование механизма восстановления окислов кремния с помощью моделирования процесса на ЭВМ // Изв. вуз. Цветная металлургия. 1984. № 3. С. 65 -70.

-32-

Вестник Сибирского государственного индустриального университета № 4 (10), 2014

8. Якушевич Н.Ф., Г алевский Г.В. Взаимодействие углерода с оксидами кальция, кремния, алюминия. - Новокузнецк: изд. СибГИУ, 1999. - 250 с.

9. П олях О.А., Руднева В.В. Наноматериалы и нанотехнологии в производстве карбида кремния: монография: в 3-х т. Т. 1. Микрокремнезем в производстве карбида кремния. - М.: Флинта: Наука, 2007. - 248 с.

10. П олях О.А., Г алевский Г.В. Оценка микрокремнезема в качестве сырьевого материала технологических процессов // Вестник горно-металлургической секции РАЕН. Отделение металлургии. 2005. Вып. 15. С. 56-60.

11. Полях О.А., Г алевский Г.В., Якушевич Н.Ф. Анализ физико-химических процессов образования и исследование свойств микрокремнезема // Вестник горно-металлургической секции РАЕН. Отде-

ление металлургии. 2005. Вып. 15. С. 49 -55.

12. П о л я х О.А., Руднева В.В., Г а -л е в с к и й Е.В., Якушевич Н.Ф. Производство микро- и нанопорошка карбида кремния на основе техногенного микрокремнезема // Вестник горнометаллургической секции РАЕН. Отделение металлургии. 2013. Вып. 32. С. 112 — 131.

13. Якушевич Н.Ф, Коврова О.А. Физико-химические взаимодействия в руднотермических печах при плавке кремния // Изв. вуз. Черная металлургия. 1997. № 8. С. 3-8.

© 2014 г. О.А. Полях, Н.Ф. Якушевич, Г. В. Галевский Поступила 25 ноября 2014 г.

-33 -

i Надоели баннеры? Вы всегда можете отключить рекламу.