Научная статья на тему 'Связь структурных параметров с процентом выхода и качеством многомезовых кремниевых лавинопролетных диодов миллиметрового диапазона'

Связь структурных параметров с процентом выхода и качеством многомезовых кремниевых лавинопролетных диодов миллиметрового диапазона Текст научной статьи по специальности «Физика»

CC BY
48
8
i Надоели баннеры? Вы всегда можете отключить рекламу.
Область наук

Аннотация научной статьи по физике, автор научной работы — Ташилов А. С., Барашев М. Н., Хапачев Ю. П.

Использование рентгенодифрактометрического метода определения деформации и ее градиента привело к корректировке конструктивных размеров монтируемых при сборке прибора кристаллов, и к определенным технологическим требованиям к классу поверхности теплоотвода. В итоге рекордные характеристики многомезовых ЛПД миллиметрового диапазона достигаются при большей надежности работы приборов и большем их проценте выхода.

i Надоели баннеры? Вы всегда можете отключить рекламу.

Похожие темы научных работ по физике , автор научной работы — Ташилов А. С., Барашев М. Н., Хапачев Ю. П.

iНе можете найти то, что вам нужно? Попробуйте сервис подбора литературы.
i Надоели баннеры? Вы всегда можете отключить рекламу.

Link of structural parameters with exit percent and quality multimesa silicon impatt diodes mm waves band

Usage X-Ray diffractometry method of definition of deformation and its gradient has reduced in adjustment of design sizes installed at assembly of chips, and to the particular technological requirements to the class of a surface of the heat sink. In the total the record characteristics multimesa impatt diodes are achieved at the greater reliability of operation of diodes and their greater exit percent.

Текст научной работы на тему «Связь структурных параметров с процентом выхода и качеством многомезовых кремниевых лавинопролетных диодов миллиметрового диапазона»

Связь структурных параметров с процентом выхода и качеством многомезовых кремниевых лавинопролетных диодов миллиметрового диапазона

Ташилов А.С. ([email protected] ), Барашев М.Н., Хапачев Ю.П.

Кабардино-Балкарский государственный университет

Резкое улучшение качества традиционных, а также освоение новых полупроводниковых материалов позволили в последние годы перейти к созданию больших, сверхбольших и сверхбыстродействующих интегральных схем, принципиально новых оптоэлектронных и СВЧ-приборов, существенно повысить степень миниатюризации микроэлектронных устройств. При изготовлении целого ряда СВЧ приборов и лавинопролетных диодов, в частности, к качеству кремния, предъявляются достаточно жесткие требования: необходимы бездислокационные монокристаллы больших размеров с равномерным распределением легирующих примесей и собственных точечных дефектов. К эпитаксиальным пленкам предъявляются еще и свои, специфические требования. Так одним из необходимых условий является заданное значение градиента деформации пленки в приповерхностном слое и глубина изменения деформации.

Контроль качества таких структур с заданными физическими свойствами осуществляется различными способами, однако рентгеновская дифрактометрия является пока одним из наиболее экспрессных и эффективных неразрушающих методов определения параметров реальной структуры [1].

В принципе, определение этих величин возможно путем расчета по профилю примеси, определенному каким-либо другим методом. Например, вторично-ионная масс-спектроскопия (ВИМС), резерфордовское обратное рассеяние ионов (РОР), активационный анализ (АА), послойная электронная Оже-спектроскопия (ЭОС) [2,3], а также электрическими методами. Однако, использованный нами РД метод [4,5] имеет ряд преимуществ. Он универсален в отношении легирующей примеси; поскольку чувствителен к деформации

решетки, вызываемой легирующей примесью. В то же время электрические методы определения профиля (методы С- V характеристик, сопротивления растекания, дифференциальной проводимости) чувствительны лишь к электрически активной примеси. Из-за малых эффективных сечений неупругого рассеяния легких элементов РОР применим только для элементов с 2 > 10 и ограниченно используется для элементов, распределенных внутри матрицы тяжелого элемента. В связи с тем, что в настоящее время наиболее широко используются ускорители с энергиями до 5 МэВ, метод АА применяется только для определения легких элементов с 2 < 20.

Многочисленные эффекты, связанные с распылением образцов ионным пучком - атомное перемешивание, избирательное травление и изменение состава соединений, усиление диффузии и образование сегрегаций, электронно-стимулированная десорбция и ряд других - в методах ВИМС и послойной ЭОС затрудняют адекватное построение профиля примеси и его количественную интерпретацию [2,3]. Следует также отметить, что эти методы значительно менее чувствительны к тяжелым элементам, а максимальная чувствительность

20 19 3

ЭОС ограничивается концентрациями атомов 10 ^10 см , что не позволяет анализировать большинство структур, сформированных диффузией и ионной имплантацией.

Сущность использованного РД метода [4,5] заключается в том, что КДО от двухслойной гетероструктуры с сильно размытой гетерограницей (слабый градиент деформации) должна содержать достаточно интенсивные интерференционные максимумы, расположенные между пиками пленки и подложки. Таким образом, форма КДО от такой гетеросистемы становится сложной и резко асимметричной по интенсивности. Все это, конечно, относится к пленке постоянного состава, но с переходной областью на гетерогранице.

Для пленки переменного состава должны выполняться следующие условия. Толщина переходной области й должна быть много меньше толщина пленки к (й << И). Поскольку амплитуда деформации Ае = е, то градиент

деформации в пленке As/h, как правило, меньше градиента деформации в переходной области, то есть должно выполняться соотношение As/h << s/d. Особенности КДО от такой системы будут определяться, в основном, градиентом деформации в пленке, а не градиентом деформации в переходной области.

Теоретический анализ КДО [4,5] в приближении постоянного градиента деформации (Рис.1) показывает, что она будет представлять собой резко асимметричную по интенсивности кривую. Причем, интерференционные максимумы будут расположены преимущественно с одной стороны от РД пика пленки и монотонно убывать по интенсивности. Угловое положение РД пика пленки относительно РД пика подложки зависит теперь не только от среднего значения деформации в пленке, но и от градиента деформации в ней. Поэтому для гетероструктуры с градиентом деформации в пленке определение НПР и напряжений по деформации, вычисленной непосредственно из углового расстояния между пиками пленки и подложки, оказывается уже не корректным. Следовательно, предыдущие рассуждения приводят нас к выводу, что для пленок с неоднородным изменением состава необходимо определять значение градиента деформации, амплитуды деформации As, среднее значение деформации и уже потом вычислять по соответствующим формулам НПР и напряжения. Для нахождения указанных характеристик необходимо решать задачу рентгеновской дифракции с конкретной функциональной зависимостью от координаты z компоненты тензора деформации szz(z), что и было сделано в [4,5].

)

0

Ае

£0

Рис.1. Закон изменения деформации 8и(г) в автоэпитаксиальной пленке кремния с диффузией бора.

Следуя этим работам были определены градиент деформации, величина А8 и толщину пленки к для ряда образцов.

Исследованные образцы представляли собой кремниевые диски толщиной 350 мкм с ориентацией (111) с автоэпитаксиальной пленкой кремния (с различными толщинами, от 0,1 мкм до 3,5 мкм), в которую на разные глубины проводилась диффузия бора, концентрация которого в поверхностном слое не

19 2

превышала 4- 10 см .

Кривые качания от исследуемых образцов различных партий были получены на двухкристальном спектрометре в геометрии Брэгга. Типичная КДО от образцов этих партий приведена на рис 2.

Для изучения кремниевых структур в качестве монохроматора использована пластина кремния с ориентацией (111), рефлекс (444) МоКа1 излучения. Для лучшего разрешения пиков на КДО для образцов третьей партии выбирались рефлексы с большими индексами Миллера, соответствующие малым межплоскостным расстояниям: (444), (555),

(551),(533) и (733). Размеры рентгеновского пучка на поверхности образцов не превышали 0,5 мм в плоскости дифракции и 1,0 мм в вертикальной плоскости.

Рис.2. Характерная экспериментальная КДО от автоэпитаксиальной системы кремния с диффузией бора. Рефлекс (551) MoKa1 излучения.

В таблице 1 по результатам РД эксперимента приведены для автоэпитаксиальных пленок кремния с диффузией бора рассчитанные значения величин As/h, s0 и h. Расчет подтверждается также и тем, что толщины диффузионных слоев для этих образцов, полученные по методу шар-шлифа, совпадают по порядку величины с данными, приведенными в таблице.

В этой же таблице 1 приведены результаты по проценту выхода годных 8-структурных ЛПД p+nn+ и p+pnn+ типа с разными значениями As/h, s0 и h на операциях сборка и электротермотренировка. Образцы с большими значениями деформации в p+ слое дают меньший процент выхода на операции сборка. Образцы с большим значением градиента деформации дают меньший процент выхода годных на операции электротермотренировка. Таким образом,

I

А в.

0,0 844 168,8

угл.с

использованный РД метод показал корреляцию между величиной деформации и ее градиентом и процентом выхода годных приборов.

Использованная методика РД анализа позволила в итоге с одной стороны, скорректировать конструктивные размеры монтируемых при сборке прибора кристаллов, с другой стороны привела к определенным технологическим требованиям к классу поверхности теплоотвода. В итоге удалось осуществить характеристики многомезовых ЛПД миллиметрового диапазона, приведенные в [7] при большей надежности работы приборов и большем их проценте выхода.

Таблица 1.

Образцы Де/А, е0, 10-4 А, Процент выхода

№ 10-4 мкм годных приборов.

партии -1 мкм

После После

сборки испытаний

1 -33,9 -12,0 0,35 48 23

+ + р пп -34,4 -11,9 0,35 50 18

2 -26,13 -14,4 0,55 34 60

++ р пп -25,9 -14,0 0,54 36 57

3 -65,2 -9,78 0,15 73 23

++ р рпп -96,4 -9,б4 0,10 74 20

ЛИТЕРАТУРА

1. Хапачев Ю.П., Чуховский Ф.Н. Развитие рентгенодифрактометрического метода определения деформаций, напряжений и несоответствия в гетероструктурах. // Методы структурного анализа. М.: Наука. 1989. С.188-204.

2. Анализ поверхности методами Оже-рентгеновской фотоэлектронной спектроскопии. // Под редакцией Д. Бриггса и М.П. Сиха. М: Мир, 1987. 432 с. 3.Электронная и ионная спектроскопия твердых тел. Под редакцией Л. Фирменса. М.: Мир.1981.-352 с.

4. Хапачев Ю.П., Чуховский Ф.Н. Развитие рентгенодифрактометрического метода определения деформаций, напряжений и несоответствия в гетероструктурах. // Методы структурного анализа. М.: Наука. 1989. С.188-204.

5.Хапачев Ю.П., Шухостанов А.К., Дышеков А.А., Барашев М.Н., Оранова Т.И. Рентгенодифракционный способ определения характеристик эпитаксиальных структур. // А.С. №1526383. Зарегистрировано 01.09.1989.

6. Барашев М.Н. Рентгенодифракционное исследование приповерхностных слоев кремния и гетероструктур АВ с градиентом деформации. Диссертация кандидата технических наук. Нальчик , КБГУ 2002. С.117.

7. Шухостанов А.К., Ташилов А.С. Успехи в конструировании мощных кремниевых лавинно-пролетных диодов миллиметрового диапазона. Электронная промышленность .1992. вып.6.С.53-56

i Надоели баннеры? Вы всегда можете отключить рекламу.