CC BY
11
Разработка скрипта автоматической расстановки CD меток на изображении
кадра
Маркелов М. А.1, Будин Д. И.2, Татарчук А. В.3
'Маркелов Максим Алексеевич /Markelov Maksim Alexeevich — магистр, кафедра проектирования и конструирования интегральных микросхем, факультет электроники и компьютерных технологий;
2Будин Дмитрий Иванович /Budin Dmitry Ivanovich — магистр, кафедра систем автоматического управления и контроля, факультет интеллектуальных технических систем;
3Татарчук ААлександр Викторович / Tatarchuk Alexandr Viktorovich — магистр, кафедра проектирования и конструирования интегральных микросхем, факультет электроники и компьютерных технологий, Московский институт электронной техники Национальный исследовательский университет, г. Москва
Аннотация: статья посвящена разработке метода автоматической расстановки меток контроля критических размеров. Предложена реализация на основе волнового алгоритма поиска, позволяющая реализовать метод и добиться выполнения требований, предъявляемых к расстановке CD меток. Ключевые слова: автоматизация, фотошаблоны, метки контроля, волновой алгоритм.
Фотолитография - ключевой технологический процесс в производстве полупроводниковых приборов и микросхем. Суть процесса заключается в переносе оригинала топологии интегральной схемы на поверхность полупроводниковой пластины. Характеристики микросхем зависят от точности изготовления их минимальных элементов. Задача фотолитографии - обеспечить качественное формирование элементов на всем поле кремниевой пластины с соблюдением допускаемых отклонений размеров элементов и их расположения [1].
В производственной практике такие минимальные размеры называются критическими (critical dimension - CD). Контроль критических размеров предполагает измерение определённого числа точек и сравнение получившихся размеров с номинальными значениями. Чем меньше разница - тем качественнее фотошаблон. Разницу в размерах можно заметить только замерами в различных местах шаблона. Чем более критичный слой, тем больше точек нужно расставить для достоверного контроля, причем точки контроля должны быть расставлены максимально равномерно по полю кадра (с одной плотностью). Расстановка меток требует внимания и длительных временных затрат.
В данной работе было разработано и рассмотрено программное решение для автоматизации расстановки меток контроля. Разработка велась с помощью скриптового языка высокого уровня - Tcl, который нашел широкое применение в сфере САПР [2]. Полученная реализация стала возможной благодаря встроенному в систему автоматизированного проектирования Calibre WORKbench компании Mentor Graphics интерпретатору Tcl.
Выбор продукта Calibre WORKbench оправдан его широкими возможностями. Данная платформа отвечает всем основным современным требованиям, реализуя комплексный подход к задаче подготовки проекта к производству [3]. Следует отметить, что программный продукт имеет специальный режим командной строки (называемый batch-mode в официальной документации). Этот режим позволяет выполнять все доступные из графического интерфейса пользователя (Graphics User Interface, GUI) команды редактирования топологии. Всего Calibre WORKbench дает доступ к более чем 100 различным командам, связанных с обработкой топологии.
Таким образом, возможно создание различных расширений, позволяющих в значительной степени автоматизировать процесс как проектирования непосредственно самих СБИС, тестовых структур, а также их подготовку к производству.
Для поиска мест расположения меток контроля были рассмотрены различные алгоритмы, такие как алгоритм поиска A*, алгоритм Дейкстры, волновой алгоритм [4]. В связи с надежностью и простотой работы был выбран волновой алгоритм. Реализация алгоритма позволила добиться необходимого результата. На рис. 1 приведен результат работы предложенного решения.
Рис. 1. Результат автоматической расстановки CD меток
Внедрение предложенного решения позволяет автоматизировать процесс расстановки большого числа CD меток, уменьшить число ошибок при ручной расстановки меток, сократить общее время подготовки управляющей информации для изготовления фотошаблонов.
Литература
1. Трапашко Г. Контроль микроразмеров в производстве ИС. Задачи и особенности: Электроника: НТБ Выпуск #3, 2011. 96 с.
2. Гладких А. А. Использование языка программирования PYTHON для разработки расширений систем автоматизированного проектирования: Вестник Екатерининского института, 2014. № 3 (27). 7 с.
3. Лохов А. Главный калибр компании Mentor Graphics: Электроника: НТБ Выпуск № 2, 2006. 64 с.
4. Goldberg A. V., Harrelson C. Computing the shortest path: A »-search meets graph theory: Proc. Sixteenth Annual ACM—SIAM Symp. on Discrete Algorithms, January 23—25. Vancouver. BC, (2005). P. 156.
5. Козадаев А. С., Дубовицкий Е. В. Реализация волнового алгоритма для определения кратчайшего маршрута на плоскости при моделировании трасс с препятствиями: Вестник Тамбовского университета. Серия: Естественные и технические науки, 2010. № 6. Т. 15. 196 с.
Здания середины XIX века Беляев К. Д.1, Маркина М. В.2, Пляшник Т. В.3
'Беляев Константин Дмитриевич /Beljaev Konstantin Dmitrievich — магистрант, кафедра технологии и организации строительного производства; 2Маркина Марина Валерьевна / Markina Marina Valer'evna — студент,
кафедра архитектуры гражданских и промышленных зданий; 3Пляшник Татьяна Валерьевна /Plyashnik Tatiana Valer'evna - студент, кафедра металлоконструкций, факультет промышленного и гражданского строительства, Московский государственный строительный университет, г. Москва
Аннотация: в статье анализируется разнообразие конструктивных элементов и схем исторических зданий. Рассматриваются здания XVII - XIX вв.
Ключевые слова: здание, перекрытие, лестница, инструмент, строительство, структура, дефект, конструкция.
Конструктивные схемы не очень разнообразны и в основном зависят от времени строительства объекта. Здания XVIII - начала XIX вв. представляют собой обычно сочетание замкнутых капитальными стенами помещений. Такая схема характерна для зданий анфиладной планировки.
48
