CC BY
29
УДК 621.383.522
С.Н. Филиппов1,2, К.О. БолтарЬ
1 Московский физико-технический институт (государственный университет)
2 Физико-технологический институт РАН 3 НПО «Орион»
Исследование механизмов переноса заряда в фотодиодах на основе эпитаксиальных слоёв CdHgTe
Исследованы фотодиоды с р-те-переходом, изготовленные на основе эпитаксиальных слоёв CdzHg!_^Te (КРТ), выращенных методами жидкофазной и молекулярно-лучевой эпитаксии и предназначенных для спектральных диапазонов 3-5 мкм и 8-12 мкм. Анализ механизмов протекания тока проведён по вольт-амперным характеристикам и зависимостям дифференциального сопротивления от напряжения смещения, измеренным в широком температурном диапазоне (70-300 К). Построены математические модели этих зависимостей, учитывающие вклады диффузионного, генерационно-рекомбинационного, туннельного, омического токов, а также тока шунтирующей утечки и фонового тока. Численное моделирование экспериментальных характеристик позволило разбить ток на составляющие и определить диапазоны температур и напряжений смещения, при которых конкретный механизм является преобладающим. При исследовании температурных зависимостей токовых составляющих определён ряд основных характеристик материала КРТ, таких, как уровень примесей, время жизни носителей, уровень залегания ловушечных центров в запрещённой зоне.
Ключевые слова: твёрдый раствор кадмий-ртуть-теллур, эпитаксиальный слой КРТ, инфракрасный фотодиод, механизмы токообразования.
I. Введение
Тепловизионная техника, основанная на применении фотоприёмников инфракрасного (ИК) диапазона, требуется в медицине, сельском хозяйстве, химической промышленности, металлургии чёрных и цветных металлов, топливодобывающей промышленности и других областях народного хозяйства, не говоря про важность её использования в оборонных целях. На сегодняшний день узкозонные полупроводниковые твёрдые растворы теллуридов кадмия и ртути (КРТ) являются одним из лидеров среди материалов, используемых для создания современной оптоэлектронной аппаратуры ИК-диапазона спектра. Это обусловлено как физическими свойствами самого раствора, в частности, большим быстродействием и высокой квантовой эффективностью, так и успехами в развиваемых технологиях выращивания объёмных кристаллов и эпитаксиальных слоёв (ЭС) КРТ. Особый интерес представляют изготовленные из этого материала фотоприёмники на основе р-п-переходов. Вольт-амперные характеристики (ВАХ) и зависимости дифференциального сопротивления от приложенного напряжения позволяют провести анализ механизмов переноса заряда в фотодиодах, что имеет огромное значение для изготовления фотоприёмников высокого качества. Кроме того, простые количественные модели необходимы для того, чтобы характеризовать исходный материал и отдельные процессы обработки, а также, чтобы установить соответствие
между различными измеряемыми параметрами и характеристиками прибора, в частности, величиной темнового тока и связанного с ним шума.
ВАХ достаточно широко применяются для исследования фотодиодов, однако их использование без привлечения численных методов даёт информацию лишь о превалирующих процессах, протекающих в приборе. Моделирование ВАХ проводилось в работе [1], но в ней не учитывались ток при положительном напряжении смещения и объёмное сопротивление полупроводника, которое оказывает значительное влияние на форму ВАХ при высоких температурах. Кроме того, моделирование дифференциального сопротивления также имеет большую важность, так как оно непосредственно определяет шумовые характеристики прибора. Предлагаемый вариант совместной обработки экспериментальных ВАХ и зависимостей дифференциального сопротивления от напряжения смещения позволяет разделить токовые составляющие, определить области их доминирования, а также проследить за их поведением при изменении температуры [2]. В свою очередь, изучение температурных зависимостей протекающих в приборе процессов является необходимым шагом для дальнейшего усовершенствования приёмников излучения, особенно в связи с тенденцией развития детекторов, работающих при относительно высокой температуре.
II. Свойства КРТ
Объектами исследования данной работы являются фотодиоды, изготовленные из ЭС КРТ.
По этой причине особого внимания заслуживают специфические характеристики материала и конструктивные методы создания таких структур [3-6].
Современная оптоэлектроника ИК-диапазона немыслима без использования КРТ [7, 8]. Хотя получение этого материала связано с большими технологическими трудностями, его свойства действительно являются уникальными [3, 9]:
1) прямозонный полупроводниковый твёрдый раствор со структурой цинковой обманки;
2) изменяя соотношение кадмия и ртути, можно получить материал, оптимально подходящий для регистрации ИК-излучения в основных окнах прозрачности земной атмосферы (то есть свойства КРТ меняются непрерывно с изменением состава x между фазами бинарных соединений);
3) большое быстродействие (низкая диэлектрическая проницаемость);
4) высокая квантовая эффективность;
5) возможность выращивания как объёмных кристаллов, так и эпитаксиальных слоёв;
6) создание КРТ n-типа проводимости с малой концентрацией носителей, а также p-типа с высоким структурным совершенством, что способствует изготовлению фоторезисторов, фотодиодов, транзисторов.
Для последующего анализа результатов нам потребуются уже известные температурные зависимости следующих физических величин (T — температура):
1) ширина запрещённой зоны [10]:
Eg (x,T )[эВ] = -0,303(1-x)+1,606x-0,132x(1-x)+
+
6,3(1 — х) — 3,25ж — 5,92ж(1 — х) 11(1 — х) + 78,7ж + Т[К]
10~4T 2 [К];
(1)
2) эффективные массы электронов и тяжёлых дырок, рассчитанные на основе модели Кейна [11]:
1
д
1
mp = 0,443m,
(2)
(3)
где Р = 8,49 • 10~8 эВ • см, Д = 0,9 эВ, т = 9,11 • 10~31 кг — масса свободного электрона (наряду с приведёнными часто используются другие аппроксимированные выражения: т*е/т « 0,071 • Ед [эВ], т*к = 0,55т);
3) собственная концентрация носителей, полученная Шмитом [12, 13]:
щ(х,Т)[см~3] = [5,585 - 3,82х + 1,753 • 10~3Т[К] + +1,364 • 10~3Т[К]х] • 1014х
х^3/4[эВ].т3/2[к].ехР
(4)
4) коэффициент диффузии носителей при T > 50 К, полученный на основе [12]:
П г 2 -ъ 7,74 • 104&
п [см С ] — у2а-1[к] ’
/0,2\0,6 7 /0,2\‘,а
гДе«=(-т) ’ь=(-г) .
0^2 \ 7>5 x
Dp « 0,01 • Dn;
(5)
(6)
5) статическая и высокочастотная диэлектрические проницаемости [11, 13]:
eS = 20,5 - 15,6x + 5,7x2,
(7)
ето = 15,2 - 15,6x + 8,2x2; (8)
6) собственное время жизни носителей при Оже-рекомбинации [9, 11]:
TA7 = YtA1:
(9)
t'ai = 3,8 • 10-18^ I —
m
m
mn
1 _|-------n
mP
1/2
1 + 2<V|)
m,
m
3/2
exp
1 +
2m*/m* Eg
_ 1 + mn/mp kT
x IF1F2I
2
где 7 « 6 при Т ~ 300 К, ето определяется формулой (8), тП и тр — формулами (2) и (3), и ^2 — интегралы перекрытия периодических составляющих функций Блоха (|^1^2| « 0,2).
III. Фотодиоды на основе КРТ
Исследуемые диоды были изготовлены на основе ЭС КРТ р-типа проводимости, выращенных методами жидкофазной (ЖФЭ) и молекулярнолучевой (МЛЭ) эпитаксии. Концентрация дырок составляет порядка 1016 см~3. Состав по кадмию у исследуемых образцов находится в пределах от х = 0,216 до х = 0,276 (то есть фотоприёмники рассчитаны на диапазоны 8-14 мкм и 3-5 мкм). Толщина плёнок составляет Ь ~ 10 мкм, что соответствует аЬ ~ 1, где а ~ 5 • 103 см~3 — коэффициент поглощения в максимуме спектральной чувствительности (для х ~ 0,2). Непосредственно сами диоды получены низкоэнергетической ионной имплантацией в нелегированный материал.
На рис. 1 представлен наиболее доступный вариант р-п-перехода на основе ЭС КРТ. Исходный эпитаксиальный слой С<^^1_жТе толщиной 10 мкм р-типа проводимости выращен на подложке CdZnTe (ЖФЭ) или GaAs (МЛЭ) толщиной ~ 0,6-0,8 мм. Подложка должна быть высокоомной (р > 107 Ом • см) и прозрачной в требуемом диапазоне спектра. При использовании ЖФЭ из-за высокой температуры роста (Т ~ 500 °С) между подложкой и CdжHgl_жТе образуется ва-ризонный слой толщиной ~ 3 мкм с плавно меняющимся составом: от х « 0,95-1,00 на подложке до х « 0,2 для КРТ фотодиодов на спектральный диапазон 8-12 мкм или х « 0,3 —
х
х
х
на диапазон 3-5 мкм. В случае МЛЭ, чтобы уменьшить рассогласование постоянных решёток СіИ^Те и GaAs, на поверхность наносится буферный слой СіТе толщиной 6-7 мкм [4]. Слой КРТ р-типа покрывается широкозонным СіТе со свойствами, близкими к диэлектрическим покрытиям. В СіТе открываются окна размерами ~ 20 мкм и с малым шагом (от 40 до 70 мкм) создаются п-области в КРТ р-типа. Для контактирования каждого р-п-перехода с каналом кремниевого мультиплексора формируется индиевый столбик толщиной 6-9 мкм и размером 30-40 мкм. Поскольку структура освещается с обратной стороны р-п-перехода, для уменьшения отражения на поверхность подложки CіZnTe(GaAs) наносится «просветляющее» покрытие.
ОйТе
ІП
р-ОйНдТв
Варизонный слой, CdHgTe или CdTe
Антиотражающее покрытие
Рис. 1. Вариант матрицы фотодиодов на основе ЭС КРТ
Слой КРТ р-типа имеет концентрацию дырок (0,8-1,0) • 1016 см~3 и холловскую подвижность выше, чем 400 см2/В • с. КРТ п-типа, созданный низкоэнергетической ионной имплантацией в окна CdTe, по результатам отдельных исследований на структурах большого размера показывает концентрацию электронов ~ 1016-1017 см~3 и холловскую подвижность электронов (1-2) • 104см2/В • с.
IV. Математическая модель ВАХ
Исследование ВАХ проводится в три этапа:
1. Исходя из фундаментальных теоретических зависимостей токовых составляющих от напряжения смещения, строится математическая модель ВАХ, содержащая ряд параметров.
2. Вариацией параметров достигается минимум отклонения теоретической кривой от заданной экспериментальной.
3. Полученные значения параметров (отвечающие некоторым физическим величинам, характеризующим диод и материал КРТ) подвергаются дальнейшему анализу, в частности, строятся их температурные зависимости.
Для построения математической модели ВАХ необходимо сложить вклады токов от различных областей диода. Эти токи могут быть разбиты на три группы с различными составляющими внутри каждой из них [12, 13].
1. Тепловой ток в объёмной и обеднённой областях: диффузионный ток в объёмных р и п-областях; рекомбинационный ток обеднённой области; аномальный лавинный ток; ток межзон-ного туннелирования; туннелирование типа «ловушка-ловушка» и «ловушка-зона»; омическая
утечка через обеднённую область; дрейфовый ток в объёмных р и п областях.
2. Ток поверхностной утечки: ток поверхностной генерации через поверхностные состояния; генерационный ток в индуцированной полем поверхностной области обеднения; вынужденное туннелирование вблизи поверхности; омическая (или неомическая) шунтирующая утечка; лавинное увеличение тока полем, вызванным поверхностной областью.
3. Токи оптического происхождения: токи, вызванные сигналом; токи, вызванные инфракрасным фоновым излучением.
Каждая из вышеприведённых составляющих оказывает свой эффект на вольт-амперную характеристику диода и на зависимость дифференциального сопротивления от напряжения смещения. Однако вклад многих перечисленных компонент в суммарный ток настолько несуществен, что им можно пренебречь. К тому же, не для всех токовых составляющих имеются приемлемые теоретические зависимости. Наконец, даже теоретические зависимости превалирующих компонент являются приближёнными (основываются на некоторых предположениях), поэтому в математическую модель вошли только ток тепловой диффузии, дрейфовый ток, рекомбинационный ток в обеднённой области, ток межзонного туннелирования, ток туннелирования через уровни ловушек, фоновый ток и ток шунтирующей утечки. Рассмотрим теперь каждый из них по отдельности.
ГУ.1. Диффузионный ток
Диффузионный ток — фундаментальный механизм переноса заряда в фотодиодах на основе р-п-переходов. Численное выражение для этого тока определяется уравнением диффузии, физический смысл которого состоит в соблюдении взаимной компенсации процессов диффузии и рекомбинации в каждом элементарном слое при стационарном состоянии, то есть приход в любой элементарный слой полупроводника избыточных диффундирующих носителей должен компенсироваться их убылью вследствие рекомбинации [7].
Выражение для диффузионного тока получено при следующих предположениях [14]:
1) справедливо приближение одномерной модели;
2) пренебрегаем рекомбинационными процессами на границе ЭС — варизонный слой;
3) контакты полупроводника с металлом сделаны антизапорными.
Решение уравнения непрерывности в таком случае имеет вид [12]:
11 > — 11 >і* І 11 >п — ' ( у- Рро9р I Т п„0д„
Вп
х ехр
еУьЛ кТ )
(10)
X
где 1ор — диффузионный ток в п-области, 1^п — диффузионный ток в р-области, е — модуль заряда электрона, А — площадь перехода, Вр — коэффициент диффузии дырок в п-области (6), Пп — коэффициент диффузии электронов в р-области (5), Ьр — длина диффузии дырок в п-области, Ьп — длина диффузии электронов в р-области, рро — равновесная концентрация дырок в р-области, ппо — равновесная концентрация электронов в п-области,
др = [^р + (^р/Ьр) ^апЬ (йп/Ьр)] х
х [^р ((1п/Ьр) + ^р/Ьр]
— геометрический фактор п-области, Бр — скорость поверхностной рекомбинации дырок (на поверхности п-области), с!п — эффективная толщина п-области (за вычетом части, входящей в ОПЗ), дп — геометрический фактор р-области (записывается аналогично геометрическому фактору п-области), Уы — встроенный потенциал, к — постоянная Больцмана, У — напряжение смещения (непосредственно на переходе).
В математической модели величина диффузионного тока определяется выражением
во
ехр (І) -1
(11)
во — варьируемый параметр.
ТУ.2. Дрейфовый ток
В [15] показывается, что в асимметричном п+ -р-переходе омический ток всегда можно не учитывать в более легированной области, тогда как в менее легированной части его можно не учитывать лишь до тех пор, пока уровень инжекции мал. Условие малости инжекции сводится к условию У < (2кТ/е) 1п (рр/щ). Основная зависимость от температуры находится в подлогарифмическом выражении. Если концентрация акцепторов равна Ма , то при малых напряжениях смещения омической составляющей тока можно пренебречь при п < Ма. Воспользовавшись выражением (4) и положив, что х = 0,22, Ма ~ 1016 см~3, получим следующее ограничение на температуру: Т < 200 К. Если х = 0,28, то Т < 300 К.
Полное падение напряжения в объёме равно иу = jрpdp, где ] — плотность тока, рр — удельное сопротивление р-области, с!р — эффективная толщина р-области. Выражение для напряжения, падающего в объёме, используемое в математической модели фотодиода на дальний ИК-диапазон (8-12 мкм):
иу = 0 при Т < 200 К,
иу = I • Я при Т> 200 К, (12)
где Я — параметр, I — полный ток, протекающий через фотодиод. Выражением (12) можно пользоваться и в случае более низких температур, если
это не приводит к расходимости значений параметра Я. Теперь в выражении (11) для диффузионного тока полное напряжение V необходимо заменить напряжением V' = V — Цу, которое падает на самом р-п-переходе:
во
ехр
еУ
~кТ
1
Г”У.3. Генерационно-рекомбинационный ток
Предполагается, что процессы генерации-рекомбинации в обеднённом слое могут давать существенный вклад в темновой ток, особенно при низких температурах (хотя ширина области пространственного заряда (ОПЗ) намного меньше диффузионной длины неосновных носителей). Выражение для генерационно-рекомбинационного тока [12, 16], полученное для резкого асимметричного перехода, имеет следующий вид:
1п
є IV Ащ
2 та
ехр (Зг) “1
(13)
где Ш — ширина обеднённого слоя:
то — эффективное время жизни носителей заряда в обеднённом слое.
В математической модели используется следующее выражение для генерационно-рекомбинационного тока:
Ід-Г = ■1аЯ0У/Уы - У
ехр
ґєУ V 2кТ
1
где .1аяо, Уы — варьируемые параметры.
ГУ.4. Ток туннелирования через уровни ловушек
Результаты исследований фотодиодов, проведённые в работе [1], показывают, что при напряжении смещения У « —0,4 В и температуре Т ^ 80 К существенным механизмом туннелирования является механизм туннелирования через уровни ловушек. Для туннелирования через уровни ловушек характерно, что примеси и дефекты в области пространственного заряда выступают как промежуточное звено.
Такое туннелирование является двухступенчатым процессом, в котором первый этап — тепловой переход между одной из зон и ловушкой, а второй — туннелирование между ловушкой и другой зоной. Процесс туннелирования в этом случае происходит при меньших полях по сравнению с прямым межзонным туннелированием, поскольку электроны туннелируют на меньшее расстояние. Полученный в приближении треугольного потенциального барьера ток туннелирования через
уровни ловушек, расположенных в запрещённой зоне, определяется выражением [17]:
Ь-г = Jтто ехр —
С .-г
Vх Уы ~ V
(15)
где Jтто — не зависящая от У постоянная, Сг-г — постоянная, вычисляемая по формуле
- 4,3-10 ™ ■ Е?2 ■ (Ед - Ег)3/2
, (10]
N
1/2
А^ер1еЫоп)
Ег [эВ] — энергетический уровень ловушек,
отсчитанный от потолка валентной зоны, NА{аерШЛоп) [см-3] — концентрация акцепторов в обеднённой области перехода. В математической модели используется то же самое выражение (15).
ГУ.5. Ток межзонного туннелирования
Ток туннелирования зона-зона (то есть ток, вызванный электронами, непосредственно туннелирующими через переход из валентной зоны в зону проводимости) описывается теоретически моделью Зенера [18]:
ео,А(Уы — У )2 1ъ-ъ =---------^--------ехр
Сь-ь • \У ' Уы - V
где а — не зависящая от У постоянная, определяемая формулой а = е2тп/2/18пЙ2Ед/2, Сь-ь — константа, которая задаётся выражением
Сь-ь = птп/2Е3/2/2еН.
(17)
В математической модели для тока межзонного туннелирования используется выражение
1ь-ь = -Вво(Уи — У)3/2 ехр ( —
Сь-
Vх Уы - V
В котором учтено, что согласно (14) ширина ОПЗ IV прямо пропорциональна а/Уы — V (случай резкого р-п-перехода). Параметры .1вво и Сь-ь являются варьируемыми.
ГУ.6. Ток шунтирующей утечки
Не рассматривая отдельно ток омической утечки через обеднённую область и ток поверхностной шунтирующей утечки, представим суммарный ток в виде
1з = дз У',
где дз — проводимость утечки. В математической модели этот параметр является варьируемым.
Г”У.7. Ток, вызванный инфракрасным фоновым излучением
Выражение для фонового тока имеет вид [19]:
1рн = АепФО,
где п — квантовая эффективность, Ф — поток фотонов с длиной волны Л ^ Ас (Лс — граничная длина волны: Ас « кс/Ед, с — скорость света), О — коэффициент фотоэлектрического усиления, который в нелавинных фотодиодах равен 1.
Здесь мы пренебрегаем спектральной зависимостью квантовой эффективности при Л ^ Ас и считаем её равной нулю при Л > Лс .В математической модели для фонового тока используется выражение
1рН ^рЪо-, где Jphо — варьируемый параметр.
ГУ.8. Ток при положительном напряжении смещения
Согласно [16] экспериментальные зависимости тока от приложенного положительного напряжения можно представить в общем виде в следующей эмпирической форме (за вычетом тока утечки):
Трое = Зроя ехр ^ 7 (^)
где Jpos — не зависящая от У постоянная, п — коэффициент неидеальности (п =1 в случае преобладания диффузионного тока, п = 2 в случае преобладания генерационно-рекомбинационного тока, если эти токи сравнимы по величине, то п лежит между 1 и 2).
Такое же выражение используется и в математической модели.
V. Дифференциальное сопротивление
Всем перечисленным составляющим тем-нового тока можно поставить в соответствие дифференциальные сопротивления, определяемые как На.уп = (М7) ■ Обозначим
1гога1 = 1Б + 1д-г + 1г-г + 1ь-ь + 1з + 1рк сум-
марный темновой ток, тогда
1 З1гога1 (У') З1гога1 (У — 1гога1Я)
Я
dyn
(1У
ЫоШ (У')
ЗУ ' У ' = У-1ьоЬа1 Я
с!ша1 (У')
ЗУ'
ЗУ
З1гога1 т-,
1-^гК 1- д
откуда
у'=у-1и
Я
dyn
1
У ' = У-ЬаЬа1 Я
Исходя из написанных ранее выражений для токов, легко найти используемые в математической модели значения дифференциального сопротивления:
ь
Я
1) для диффузионного механизма
л*М
[сіу]
-1
кТ
eV1
2) для генерационно-рекомбинационного меха-
низма
Яп
вїд—т
вУ'
(Уы ~ У')е кТ
1
2(УЫ.-У')112
1ояо
-1|ехр(йг) + 1
1
3) для механизма туннелирования через уровни ловушек
вТг-Л _ 2 — V')
3/2
dVЧ С— • Ь-^О ’
4) для механизма межзонного туннелирования
Я
Ъ—Ъ
СІІЬ—І
ЗУ'
1
2 (Vъi — V')
') • [3 +Сь-ь(Уі — V')-1/2
5) для механизма шунтирующей утечки
Яз =
= [^У= —■
ЛУ’) дз'
6) для механизма тока, вызываемого ИК-излу-
чением, Нрь = (^уг^ = оо; используя кото-
рые, можно найти полное дифференциальное сопротивление
1 1
Дь-ь
1
VI. Алгоритм обработки ВАХ
Суммарный ток ї^аі может быть представлен в виде функции переменной V1 и ряда параметров Рі, ..., Рм (в который не входит параметр Я):
їіоіаі = 1ЬоЬа1{У ,Р1: ..., РМ).
В случае высоких температур данное выражение записывается в виде
їЬоЬаІ = їЬоЬаІ (V їіоіаІЯ,Р1і ..., Рм).
Таким образом, їіоіаІі является неявной функцией переменной V и параметров Я,Рі, ..., Рм. Ьыа можно найти итерационным методом:
^(^ЯРи .., Рм) = Ьоьа^—ї(п-1)Я,Рі, ..., Рм),
ї(0) (V,R,Pl, ..., Рм) = їіоіаі (^1, ..., Рм).
Однако на практике этот метод оказался очень неустойчивым, вычислительно ёмким и давал заведомо ложные результаты.
Альтернативный метод заключается в следующем:
1) находятся начальное приближение Я(о) и на-
о(о) п(о)
чальные значения параметров Р{ , ..., Р^ ;
2) весь массив точек (У,1) преобразуется в (У — I • Я(о),1);
3) полученная таким образом кривая (У',1) приближается кривой I = 1гога1 (У',Р1, ..., Рм), откуда находятся следующие приближения
Р(1) р(1) ;
Р1 , ..., Рм ;
4) исходный массив точек (У,!) преобразуется: из каждого напряжения вычита-
ется У', соответствующее данному току I (соответствие устанавливается зависимостью
I = Ьога1 (У ',Р1(1), ..., Р^));
5) полученный массив (У — У'I) приближается кривой и = IЯ(1), откуда находится следующее приближение Я(1);
6) далее вся цепочка действий повторяется... Наблюдаемая сходимость параметров говорит
0 правильной работе такого метода, который хорошо зарекомендовал себя при обработке ВАХ, снятых при высокой температуре. При низких температурах, когда можно пренебречь дрейфовым током в р-области, метод упрощается:
1) исходная кривая (У^) приближается кривой
1 = ЬогаЬ(У,Р1, ..., Рм), откуда находятся следующие приближения Р1(1), ..., Р(1);
2) процедура повторяется до обрыва итерационного процесса (параметры меняются в пределах точности).
Процедура приближения экспериментальной кривой теоретической заключается в поиске минимума функционала отклонения одной кривой от другой. Существует несколько вариантов задания этого функционала, например:
Я(Р1, ..., Рм) =
= ИехрМ) — ио„аУ,Р1, ..., Рм)||,, =
\
К
-^2(1еХЖ)~1ш,аЛУ^РЪ РМ))2
к = 1
Я (Р1, ..., Рм
+й
= Н^ехр^О — їгогаі(У^,Р1, ..., РИ)\\Ь2 + 11
Яйуп exp(Уk:) ЯйупіКеоту (Vk,P1, ..., Рм )
\
(Іехр(УР ~ Ііоіаі(УІ,Р1, •••, РАт))~
ї 2 (V
швідНі^ к!
+
+<5
к=1
Яупexp(Уk) ^упіНвоту^кі^і .. Рм)
(19)
Яв
X
X
д-т
ь
2
1
2
1
1
В первом случае минимизируется квадрат отклонения теоретической кривой от экспериментальной (К — общее число точек минимизации). Во втором случае минимизируется сумма норм отклонения теоретической функции и её производной от заданных экспериментальных точек соответственно. Это обеспечивает не только «близость» кривых, но также их «параллельность». Кроме того, в функционал (19) входят весовые коэффициенты, суть которых заключается в том, чтобы выделить из массива экспериментальных точек наиболее «значимые» или «достоверные». Значение 6 выбирается таким образом, чтобы оба слагаемых в сумме были сходны по величине.
Второй вариант функционала более предпочтителен, так как обеспечивает большую гибкость в минимизации функционала отклонения. Именно он и использовался при обработке данных. Если математическая модель ВАХ построена правильно, а экспериментальные данные измерены корректно, то минимум функционала должен достигаться при истинных значениях параметров, которые характеризуют геометрию фотодиода и непосредственно материал КРТ.
Для решения задачи минимизации функционала использовался метод градиентного спуска в сочетании с методом возмущений [20]. Численные методы реализуются на электронно-вычислительной машине. При 1000 итерациях невязка отклонения теоретической кривой от экспериментальной составляет не более 0,5%, а весь процесс занимает не более 2-3 мин (вычислительная мощность — 1000 МГц).
VII. Выбор начальных значений параметров
Выбор начальных значений параметров играет значительную роль в процессе математического моделирования характеристик фотодиода. Процедура минимизации функционала отклонения теоретической кривой от экспериментальной является фактически задачей поиска экстремума функции многих переменных. Надлежащий выбор начальных значений параметров обеспечивает нахождение абсолютного минимума, в то время как некорректное задание параметров может привести в конечном итоге к бессмысленному поиску локальных экстремумов в соседних «долинах» [20].
Значение фонового тока принимается равным величине тока при нулевом напряжении смещения, так как темновая составляющая должна при этом обращаться в нуль. При умеренных напряжениях смещения (У « —200 мВ) к темново-му току добавляются диффузионная и генерационно-рекомбинационная составляющие. При выборе начальных значений их вклады можно считать равными [1]. Поскольку ВАХ снимались в широком диапазоне температур, а при высоких тем-
пературах преобладающим должен быть диффузионный ток, то в нашей модели отношение долей диффузионного и генерационно-рекомбинационного токов полагается равным (Т[К] — 30)/30. При максимальном в эксперименте напряжении (У = —400 мВ) к этим компонентам добавляются также туннельные составляющие. При выборе начальных значений параметров ток туннелирования через уровни ловушек равен току межзон-ного туннелирования. Коэффициент неидеально-сти считается равным 1. Проводимость утечки — обратной величине максимального значения дифференциального сопротивления. Встроенный потенциал — ширине запрещённой зоны (1). Объёмное сопротивление р-области определяется из наклона ВАХ при нулевом напряжении смещения ^ а) за вычетом диффузионной составляющей: Я = 1/tg а — кТ/eJD0■ Значения параметров Сг-г и Сь-ь определяются по формулам (16) и (17).
VIII. Результаты моделирования
На рис. 2 приведены примеры результатов моделирования ВАХ фотодиодов, предназначенных для регистрации излучения в дальнем и среднем ИК-диапазонах. Представлены экспериментальные и теоретические кривые, а также кривые, соответствующие отдельным механизмам тока. Результирующая теоретическая зависимость является суммой отдельных компонент и, следовательно, задаётся наибольшей из них. На рис. 3 показаны соответствующие результаты моделирования зависимостей дифференциального сопротивления от напряжения смещения. В данном случае результирующая кривая определяется наименьшей компонентой. Из рис. 3б видно, что в отличие от фотодиода на дальний спектральный диапазон существенную роль здесь играют процессы генерации-рекомбинации, которые, в частности, ограничивают сверху дифференциальное сопротивление диода.
Результаты моделирования характеристик фотодиодов при относительно высоких температурах приведены на рис. 4. На рис. 4а представлены исходная экспериментальная кривая, а также преобразованная согласно пункту 2 алгоритма обработки ВАХ кривая. Дифференциальное сопротивление ограничивается снизу последовательным сопротивлением р-области, что непосредственно видно на рис. 4б. Таким образом, графическое изображение позволяет определить, чем ограничивается сопротивление при каждом конкретном напряжении смещения. Использование этого обстоятельства может найти своё применение в системах контроля качества изготовляемых детекторов.
Полученные при минимизации функционала значения параметров могут быть использованы для исследований физических процессов, которые лежат в основе функционирования фотодиода.
Напряжение смещения, мВ □
эксперимент фоновый ток
ток туннелирования через ловушки ток межзонного туннелирования
-400 -300 -200 -100
Напряжение смещения, мВ =>диффузионныш ток - генерационно-рекомбинационныш ток ток утечки -результирующий ток
Рис. 2. Моделирование ВАХ фотодиодов: а) на диапазон 8-12 мкм (Т = 70 К); б) на диапазон 3-5 мкм (Т = 180 К)
Напряжение смещения, мВ эксперимент
генерационно-рекомбинационное сопротивление сопротивление утечки результирующее сопротивление
Напряжение смещения, мВ | |диффузионное сопротивление
сопротивление туннелирования через уровни ловушек
сопротивление межзонного туннелирования
Рис. 3. Моделирование дифференциального сопротивления фотодиодов: а) на диапазон 8-12 мкм (Т = 70 К); б) на диапазон 3-5 мкм (Т = 180 К)
Напряжение смещения мВ
Напряжение смещения мВ
а
0
а
а
-----исходная экспериментальная кривая
.....диффузионныгй механизм
-----туннелирование через уровни ловушек
■ ■ ■ ■ объёмное сопротивление р- области
|----модифицированная экспериментальная кривая
-----генерационно- рекомбинационныгй механизм
-----межзонное туннелирование
— результат моделирования
Рис. 4. Моделирование высокотемпературных характеристик фотодиода на диапазон 8-12 мкм (Т = 270 К): а) ВАХ; б) зависимость дифференциального сопротивления от напряжения смещения
Изучение температурных зависимостей этих процессов является необходимым шагом для дальнейшего развития приёмников излучения, особенно в связи с тенденцией развития детекторов, работающих при высокой температуре.
IX. Анализ фонового тока
Одной из наиболее важных особенностей ВАХ фотодиодов является наличие тока, вызванного инфракрасным фоновым излучением. В проведённом исследовании величина фонового излучения изменялась с помощью металлической заглушки, установка которой в окно охлаждаемого кожуха препятствовала проникновению излучения. Отсутствие заглушки, напротив, приводило к освещению фотодиода инфракрасным излучением комнаты. На рис. 5 показаны две ВАХ фотодиода на диапазон 8-12 мкм, которым соответствуют разные уровни фонового излучения.
Напряжение смещения, мВ
п0 со0
----- угол поля зрения 0 угол поля зрения 53
Рис. 5. ВАХ фотодиода на диапазон 8-12 мкм (Т = 75 К) при разных уровнях фонового излучения
Рассчитаем поток квантов фонового излучения, предполагая, что фоновое излучение является равновесным излучением абсолютно чёрного тела с температурой Твхі = 293 К. Спектральная ПЛОТНОСТЬ квантов р(ш) = ехр(?»ыДг„,)-1 •
Ввиду того, что нас интересуют кванты с энерги-
ей hw > Eg ~ 4kText, то p(w) Тогда поток фотонов равен
^ехр
Ксо
кТех-
Ф” = ЗЇ
2п sin ede cos в
p(w)dw
sin2 вт
4n2c2 h3
(kText)3
x2 e x
dx
1,52 • 1017
(Здесь мы приняли hwc « 4kText, #max = 0,46 (угол поля зрения 53°). Если взять в качестве температуры фона температуру охлаждённого кожуха Text ~ 75 К, 6max = (при этом угол поля зрения ИК-объекта равен 0°), тогда hwc « l5kText и Фо ~ 2,10 • 1012 см-2 с-1). Исходя из полученного выражения, можно оценить квантовую эффективность фотодиода как отношение: = е^ф ■ Для
исследуемого фотодиода получено оценочное зна-ченпе ■)] = е^ф ~ 0,92, что подтверждает утверждение о высокой квантовой эффективности материала КРТ.
Как мы увидели, ВАХ позволяет сделать суждение относительно восприимчивости фотодиода к внешнему излучению. Если бы ВАХ исследуемого образца не смещалась при облучении его ИК-излучением, то это означало бы, что данный фотодиод непригоден для регистрации излучения данного спектрального диапазона.
Для фотодиодов принципиально важно отношение тока, вызванного излучением, к темновому току. Чем больше этот показатель, тем более качественным является прибор. Это также накладывает ограничения на диапазон функционирования ИК-приборов [21]. В табл. 1 приведены значения отношения тока, вызванного излучением, к общему току для разных фотодиодов при разных температурах. Замечаем, что фотодиоды на основе ЖФЭ КРТ обладают более высокими показателями, чем фотодиоды на основе МЛЭ КРТ. Доля темнового тока в общем токе ЖФЭ фотодиода на 10-20% ниже доли темнового тока МЛЭ фотодиода.
Нельзя не упомянуть о влиянии фонового излучения на дифференциальное сопротивление фотодиода [12, 22]. Из рис. 5 видно, что при обратном смещении V = —200-0 мВ наклон ВАХ, соответствующей углу поля зрения 53°, слегка больше, чем наклон ВАХ, соответствующей углу поля зрения 0° . Разница тангенсов углов наклона составляет ~ 4,5 • 10-8 Ом-1, что соответствует сопротивлению Rbackground = 2,2 • 107 Ом. Причина увеличения наклона кривой ВАХ является фундаментальной и состоит в том, что квантовая эффективность слегка увеличивается при увеличении ширины ОПЗ, что имеет место при обратном напряжении смещения. Это происходит потому, что все фотоны, поглощённые в ОПЗ, дают вклад в фототок из-за наличия сильного электрического поля, в то время как носители, рождённые вне ОПЗ, должны диффундировать по направлению к переходу. Кроме того, носители, рождённые более коротковолновыми фотонами, поглощаемыми преимущественно вблизи поверхности, будут собираться более эффективно, если край перехода становится ближе к поверхности. Совместное действие этих двух эффектов приводит к ограничению дифференциального сопротивления в высокоомных приборах. В работе [12] подробно рассматривается воздействие фонового излучения на ВАХ фотоди-
в
0
см2 с
kT
ода, однако ввиду большой сложности вычислений в нашей модели фоновый ток считается независимым от напряжения смещения. При численном моделировании это может отразиться на завышенном значении проводимости утечки.
Рассмотрим далее темновые механизмы переноса заряда, то есть механизмы, действие которых не связано непосредственно с поглощаемым излучением.
Таблица 1
Отношение тока, вызванного излучением, к общему току для разных фотодиодов при
напряжении смещения V = —50 мВ
ЖФЭ - 1ж = 0,218 ЖФЭ - 2х = 0,216 МЛЭ - 1х = 0,218 МЛЭ - 2х = 0,218 МЛЭ - Зж = 0,220
Т = 69 К Т = 72 К Т = 71 К
0,90 0,97 0,80 0,80 0,75
Т = 80 К
0,78 0,84 0,67 0,65 0,74
Т = 90 К
0,50 0,61 0,42 0,30 0,43
X. Сравнительная характеристика механизмов тока
Одной из важнейших задач при исследовании фотодиодов является задача определения доминирующего механизма токообразования [23]. Существует несколько способов решения этой задачи:
1. В настоящей работе проводилось непосредственное разбиение тока на составляющие, что позволяет определить вклад каждой компоненты в суммарный ток. Построив зависимости относительных долей тока от температуры для фотодиода на диапазон 8-12 мкм (ЖФЭ) при обратном смещении V = —200 мВ, мы замечаем, что в большом диапазоне температур Т > 80 К превалирующим является диффузионный ток. Он сравнивается с генерационно-рекомбинационным при Т ~ 70 К. Однако при этой температуре основной является компонента утечки. Вклад этой компоненты в темновой ток достигает величины 50%. При дальнейшем увеличении температуры ток шунтирующей утечки становится малым по сравнению с диффузионным и генерационно-рекомбинационным и не проявляет себя при Т > 100 К. Анализ подобной зависимости для фотодиода на диапазон 3-5 мкм (ЖФЭ) показывает, что при Т < 180 К доминирует генерационно-рекомбинационный ток, а при Т > 180 К преобладающей является диффузионная компонента. Ток утечки проявляется при Т < 150 К и при Т = 110 К составляет около 20% от темнового тока. Туннельные токи также заметны лишь при Т ~ 110 К, однако их вклад несуществен.
2. Для сравнения вкладов диффузионного и генерационно-рекомбинационного токов можно проанализировать температурную зависимость коэффициента неидеальности, полученного в качестве параметра для положительной ветви ВАХ (18). Диффузионная составляющая превалирует при Т > 90 К для фотодиода на диапазон 8-12 мкм и при Т > 200 К для фотодиода на диапазон
3 -5 мкм. В отличие от предыдущего пункта харак-
терные температуры оказались несколько выше, так как определение коэффициента неидеально-сти проводилось для положительной ветви ВАХ вблизи нулевого напряжения смещения.
3. Сравнить вклады различных компонент можно также путём рассмотрения дифференциального сопротивления фотодиода. Как уже упоминалось выше, дифференциальное сопротивление при каждом конкретном напряжении смещения определяется той компонентой тока, которая обладает наибольшей проводимостью. Основываясь на распределении дифференциального сопротивления по координатам (напряжение смещения, температура), а также используя найденные при моделировании данные о механизмах переноса заряда (рис. 3, 4б), на плоскости (V, T) можно построить области, отвечающие конкретному механизму, который ограничивает дифференциальное сопротивление в этой области. Ограничение дифференциального сопротивления имеет большое значение, так как оно определяет шумовые характеристики прибора [24]. На рис. 6 приведены диаграммы распределения ограничивающих дифференциальное сопротивление механизмов то-кообразования в различных видах фотодиодов. Сравнение ЖФЭ и МЛЭ фотодиодов на диапазон 8-12 мкм приведено в табл. 2.
Ранее для построения диаграмм мы использовали зависимости дифференциального сопротивления от напряжения смещения с температурой в качестве параметра. Однако к тому же результату можно прийти, если рассмотреть зависимость Rd от T при фиксированном напряжении смещения. В качестве примера мы рассмотрели фотодиод на диапазон 3-5 мкм при V = —50 мВ и обнаружили две области: а) при T < 210 К генерационно-рекомбинационный механизм является определяющим, при этом согласно (13) Rd ~ n-1 ~ exp (Eg/2kT); б) при T > 210 К доминирует диффузионный механизм, при этом из (10) получаем Rd ~ p— ~ n-2 ~ exp (Eg/kT). Экспериментальное отношение наклонов кривых в осях (1/T, ln Rd) равно 2,10 « 2, что согласуется с теоретическим значением.
Напряжение смещения, мВ Напряжение смещения, мВ Напряжение смещения, мВ
Рис. 6. Диаграмма ограничивающих дифференциальное сопротивление механизмов для различных фотодиодов: а) на диапазон 8-12 мкм (ЖФЭ); б) на диапазон 8-12 мкм (МЛЭ); в) на диапазон 3-5 мкм (ЖФЭ)
1000/Г, 1/К ♦ Рузультат выделения
диффузионной составляющей ----Полиномиальная аппроксимация
0,2
0,1
нер
^ 0,05
-0,05
0
?Хл
50
100 150
Температура, К
200
250 300
А Ширина запрещённой зоны (1)
<> Вычисленные значения наклона диффузионной кривой О Результат вычитания
Рис. 7. Анализ температурных зависимостей диффузионного тока для фотодио-
да на диапазон 8-12 мкм (МЛЭ): а) зависимость 1п ^во\/т1г/-0„у от обратной температуры; б) зависимость Э1п (-1 оо\/ тп / Пп ) /Э(1/кТ) от температуры
Таблица 2
Сравнение ЖФЭ и МЛЭ фотодиодов на диапазон 8—12 мкм по диаграммам ограничивающих механизмов переноса заряда
0
0
Механизм токообразования ЖФЭ МЛЭ
диффузионный Более низкие температуры и напряжения смещения (по модулю) Более высокие температуры в сочетании с широким диапазоном напряжений смещения
генерационно-рекомбинационный Узкий диапазон напряжений смещения, сохраняющийся до умеренных температур Более низкие температуры. Проявляется при нулевом напряжении смещения при Т ~ 70 К
туннелирования через уровни ловушек Занимает значительную часть диаграммы. Обнаруживается вплоть до комнатных температур Характерны более низкие температуры. При высоких температурах быстро вытесняется диффузионным механизмом
межзонного туннелирования Проявляется при Т ~ 70-100 К, V < 200 мВ. При увеличении температуры этот механизм вытесняется механизмом туннелирования через уровни ловушек Обнаруживается при больших напряжениях смещения и меньших температурах. Быстро замещается механизмом туннелирования через уровни ловушек (собственные дефекты)
Несомненным достоинством моделирования ВАХ характеристик фотодиодов является разбиение тока на составляющие, отвечающие определённому механизму переноса заряда. Это позволяет рассмотреть каждый механизм по отдельности, «независимо» от остальных.
XI. Анализ диффузионного тока
Как видно из (10), имеется следующая зависимость параметра 1^о от Т:
D.
Dn
Jdo = еА ( —Рродр + —пп0дп ) ехр ( ——
Ln
kT
где Dp,Dn,Lp,Ln,ppo,nno,gp,gn,Vbi также зависят от T. Исходя из геометрии фотодиода, в выражении для J do можно оставить только составляющую, отвечающую диффузии электронов в p-области, так как толщину n-области можно считать малой по сравнению с длиной диффузии. При относительно невысоких температурах, когда все примеси ионизованы и их концентрация меньше собственной концентрации носителей, основная зависимость Jdo от T находится в экспоненциальном множителе. Несмотря на это, для более верного вычисления учтём уже найденную (хотя и оценочную) зависимость времени жизни носителей от температуры, а также зависимость коэффициента диффузии от температуры (5). Тогда JD0 = const -у/^п/тп ■ РРо • exp {-eVu/кТ), откуда
In
находим liippo—eVbi/kT = const + ln {^Jdo\/тп/Dn^j .
Зависимость ln Jdo\/Ъг/Diij от 103/T для фотодиода на диапазон 8-12 мкм (МЛЭ) представлена на рис. 7а. Исходя из этого графика и его полиномиальной аппроксимации, можно найти следующую величину:
eVbi —
dlnppo _ д ( /г,
д(1/кТ) ~ д{1/кТ) П V D0 V D.
Для этого достаточно взять производную от полиномиальной аппроксимации, что не представляет большого труда. Зависимость этого экспериментального значения от температуры изображена на рис. 7б.
Когда примеси ионизованы, то величина рро не зависит от температуры вплоть до наступления собственной проводимости. Поэтому можно считать, что графики на рис. 7б отражают поведение вУы при изменении температуры. Замечаем, что в широкой области температур вУы «отслеживает» изменение ширины запрещённой зоны. Это указывает на то, что разница значений Ед — вУы должна соответствовать энергии ионизации уровней примесей. Примечательным является то обстоятельство, что и для МЛЭ фотодиода (х = 0,220), и для ЖФЭ фотодиода (х = 0,216) энергия ионизации оказалась одной и той же и равной Еа = 0,015 эВ. В работе [11] указывается, что глубина залегания акцепторных уровней составляет около 10 мэВ,
что удовлетворительно согласуется с полученным значением. Кроме того, энергию ионизации примесных атомов можно оценить исходя из водородоподобной модели Ей-, = г^\Ну = 2 • 10~2 эВ,
т £3
где Ну = 13,6 эВ, тр и ез задаются формулами (3) и (7). Видим, что и эта оценка также находится в удовлетворительном согласии с полученным значением.
д
о
1000/Г ,1/К
-ЖФЭ фотодиод х =0,216; Ж=3 1016 см'3 -МЛЭ фотодиоды х =0,220;N = (5-6,4) 1016 см'3
....Собственное время жизни Оже
Рис. 8. Зависимость времени жизни носителей от температуры для различных фотодиодов
Исходя из полученного значения энергии ионизации акцепторов, можно оценить температуру Тз, при которой все примесные уровни ионизованы [15]: Тз ~ Еа/2к « 90 К. Заметим, что отклонение от горизонтального участка кривой на рис. 7б как раз происходит при температурах меньше найденной. Это означает, что при Т ^ 80-90 К уровни примесей ионизованы не полностью.
Отклонения от горизонтального участка кривых при высоких температурах можно приписать увеличению рро. Это происходит, когда концентрация акцепторов сравнивается с собственной концентрацией носителей. Приравнивая рро и вычисленную по формуле (4) собственную концентрацию щ, можно найти температуру, когда это имеет место. Получены значения температур 200 К и 240 К для МЛЭ и ЖФЭ фотодиодов соответственно. Хотя полученные значения и отличаются от экспериментальных температур излома кривых (150 К для МЛЭ фотодиода на рис. 7б), но они всё же позволяют провести сравнительный анализ концентрации дырок в материале.
Аналогичным образом можно построить зависимость вУы от температуры для фотодиода на диапазон 3-5 мкм и убедиться, что экспериментальные значения находятся в согласии со значениями ширины запрещённой зоны. Обсуждаемые ранее эффекты здесь менее заметны, так как полупроводник является значительно более широкозонным.
XII. Анализ генерационно-рекомбинационного тока
Исходя из теоретической формулы (13), можно утверждать, что основными параметрами, зависящими от температуры, являются собственная концентрация носителей и время жизни носителей в области пространственного заряда. Это обстоятельство даёт нам возможность оценить время жизни носителей, исходя из экспериментальных данных о генерационно-рекомбинационном токе. Из формулы (13) получаем то = е™Агч. Воспользовавшись теперь выражениями для ширины ОПЗ (14) (с учётом (1), (7)) и собственной концентрации (4), представляется возможным оценить то для различных фотодиодов (рис. 8).
Согласно [13], в настоящее время нет единого мнения по поводу преобладающего рекомбинационного механизма в материале р-типа. Однако так как рекомбинация через рекомбинационные центры проявляется при сравнительно низких температурах, а время жизни, определяемое процессами излучательной рекомбинации, т-^ ^ тгА7 [9], то в области рабочих температур механизм рекомбинации Оже будет определяющим. К тому же его роль возрастает с ростом концентрации носителей. На рис. 8 представлена рассчитанная по (9) теоретическая зависимость тгА7 = тгА7(103/Т). Из рисунка видно, что экспериментальные данные достаточно хорошо описываются этой зависимостью при высоких температурах, когда собственная концентрация носителей превышает концентрацию акцепторов. Чем больше концентрация акцепторов, тем при больших температурах происходит выход на теоретическую кривую.
Сравнение ЖФЭ и МЛЭ фотодиодов представлено в табл. 3. Из таблицы видно, что, несмотря на более высокую концентрацию акцепторов, вблизи азотных температур времена жизни в ЖФЭ фотодиодах выше, чем в МЛЭ приборах.
Таблица 3
Сравнение времён жизни носителей в ЖФЭ и МЛЭ фотодиодах
на диапазон 8—12 мкм
ЖФЭ МЛЭ
Концентрация акцепторов 3 • 1016 см-3 5-6,4 • 1015 см^3
Характерные времена жизнипри Т = 80-100 К 15-30 не 6-15 не
XIII. Анализ туннельных токов
Исходя из результатов рассмотрения ВАХ, очевидно, что туннельные механизмы проявляются тем сильнее, чем больше напряжение смещения. Два механизма туннельных токов проявляют себя в фотодиодах из КРТ: межзонное туннелирование и туннелирование через уровни ловушек. Однозначно разделить два механизма туннелирования — межзонное и через уровни ловушек — по зависимостям тока от напряжения удаётся не всегда из-за сходной экспоненциальной зависимости тока от напряжения.
Согласно [17] температурные зависимости этих токов различны. Для тока межзонного туннелирования характерно, что при уменьшении температуры ток возрастает, а дифференциальное сопротивление уменьшается (при заданном напряжении смещения). Это происходит вследствие уменьшения ширины запрещённой зоны [22]. Хотя температурная зависимость тока туннелирования через уровни ловушек ещё до конца не ясна [17], для этого механизма характерно, что при уменьшении температуры ток уменьшается, а дифференциальное сопротивле-
ние практически не изменяется. При температурах T > 100 К существенным становится пред-экспоненциальный коэффициент в формуле (15). Следуя [13], этот коэффициент должен быть пропорционален скорости теплового перехода на расположенный в запрещённой зоне ловушечный центр из валентной зоны. Следовательно, он должен быть пропорционален 'числу носителей в ловушках pt = Nv exp (— ~ Т3/2 ехр ( —|у),
где Nv — число состояний в валентной зоне [25]. На рис. 9 представлена зависимость величины ln (Itunneiing/т3/2) от обратной температуры при смещении V = —400 мВ, где Itunneiing — суммарный туннельный ток.
Для обоих диодов характерно, что при низких температурах доминирует ток межзонного туннелирования, а при более высоких главным туннельным механизмом становится туннелирование через уровни ловушек. Наклон кривой, отвечающей туннелированию через уровни ловушек, позволяет оценить уровень залегания ловушеч-ных центров в запрещённой зоне. Для обоих фотодиодов (на основе ЖФЭ и МЛЭ слоёв КРТ) этот уровень оказался одним и тем же и равен Et ж 0,068 эВ. Это значение находится в удовлетворительном согласии со значением локального
состояния « 0,062 эВ в запрещённой зоне по-
лупроводника, который был найден в работе [26]. Туннелирование с 3-го локального состояния отвечает тому обстоятельству, что при относительно малых напряжениях смещения туннелирование может осуществляться только через уровни вблизи зоны проводимости.
1000/Т, 1/К
Рис. 9. Зависимость туннельного тока от температуры при V = -400 мВ (ЖФЭ)
XIV. Заключение
Применение численных методов при математическом моделировании ВАХ и дифференциального сопротивления фотодиода позволяет выделить отдельные токовые составляющие и определить области их доминирования для каждой области температур и напряжений смещения. Использование специальной методики обработки экспериментальных данных с устранением влияния последовательного сопротивления p-области позволяет обрабатывать характеристики фотодиодов состава x ж 0,2 при высоких температурах вплоть до комнатных. Единая методика способствует проведению сравнительного анализа токов фотодиодов на основе слоёв КРТ, полученных различными способами эпитаксии (МЛЭ и ЖФЭ), а также фотодиодов, рассчитанных на различные спектральные диапазоны. Сравнение фотодиодов (8-12 мкм) на основе МЛЭ и ЖФЭ слоёв показывает, что последние удовлетворяют более высоким требованиям, предъявляемым к современным фотоэлектрическим полупроводниковым приёмникам излучения. Анализ температурных зависимостей токовых компонент позволяет сделать ряд важных выводов относительно свойств фотодиодов и материала, из которого они изготовлены, например, провести оценку времени жизни носителей.
Анализ результатов, полученных в ходе исследования экспериментальных данных, позволяет сделать следующие выводы относительно фотодиодов и материала КРТ: высокая квантовая эффективность ~ 0,9; существование конечного дифференциального сопротивления при высоком
уровне фонового излучения; уровни акцепторов Ea = 0,015 эВ; уровень залегания ловушечных центров в запрещённой зоне Et = 0,068 эВ.
Литература
1. Болтарь К.О., Яковлева Н.И. Моделирование вольт-амперных характеристик фотодиодов из КРТ // Прикладная физика. — 2004. — № 3. — С. 82-88.
2. Филиппов С.Н. Исследование механизмов переноса заряда в фотодиодах на основе эпитаксиальных слоёв твёрдых растворов кадмий-ртуть-теллур // Труды 50-й научной конференции МФТИ «Современные проблемы фундаментальных и прикладных наук». — 2007. — Т. 5. — С. 176-178.
3. Стафеев В.И., Болтарь К.О., Бурлаков И.Д., Акимов В.М., Климанов Е.А., Саги-нов Л.Д., Соляков В.Н., Мансветов Н.Г, Пономаренко В.П., Тимофеев А.А., Филачёв А.М. Матричные фотоприёмные устройства среднего и дальнего инфракрасного диапазонов спектра на основе фотодиодов из Cd^Hg^xTe // Физика и техника полупроводников. — 2005. — Т. 39, вып. 10. — С. 1257-1265.
4. Овсюк В.Н., Курышев Г.Л., Сидоров Ю.Г. [и др.]. Матричные фотоприёмные устройства инфракрасного диапазона. — Новосибирск: Наука, 2001.
5. Tidrow M.Z., Beck W.A., Clark W.W. [etal.]. Device physics and focal plane array applications of QWIP and MCT // SPIE. — 1999. — V. 3629. -P. 100-113.
6. Ajisawa A., Kawano M, Tomono M., Miyoshi M., Oda N. LWIR FPAs using MBE grown HgCdTe on Si substrates // SPIE. — 1997. — V. 3061. — P. 248-255.
7. Курбатов Л.Н. Оптоэлектроника видимого и инфракрасного диапазонов спектра. — М.: МФТИ, 1999.
8. Филачёв А.М., Таубкин И.И., Тришен-ков М.А. Твердотельная фотоэлектроника. Физические основы. — М.: Физматкнига, 2005.
9. Бовина Л.А., Стафеев В.И. Узкозонные растворы CdHgTe: Физика соединений A2B6. — М.: Наука, 1986.
10. Laurenti J.P., Camassel J, Bouhemadou A., Toulouse B, Legros R., Lusson A. Temperature dependence of the fundamental absorption edge of mercury cadmium telluride // J. Appl. Phys. — 1990. — V. 67, N. 10. — P. 6454-6460.
11. Rogalski A. Analysis of До A product in n+ —p Hg^xCdxTe photodiodes // Infrared Phys. — 1988. — V/. 28, N. 3. — P. 139-153.
12. Rosbeck J.P., Starr R.E., Price S.L., Riley K.J. Background and temperature dependent current-voltage characteristics of HgCdTe photodiodes // J. Appl. Phys. — 1982. — V. 53, N. 9. — P. 6430-6440.
13. Рогальский А. Инфракрасные детекторы. — Новосибирск: Наука, 2003.
14. Шалимова К.В. Физика полупроводников: учеб. пособие для вузов. — М.: Энергия, 1971.
15. Пикус Г.Е. Основы теории полупроводниковых приборов. — М.: Мир, 1965.
16. Зи С.М. Физика полупроводниковых приборов. — М.: Энергия, 1973.
17. Nemirovsky Y, Rosenfeld D, Adar R., Kornfeld A. Tunneling and dark currents in HgCdte photodiodes // J. Vac. Sci. Technol. A. — 1989. — V. 7, N. 2. — P. 528-535.
18. Bhan R.K., Gopal V. Analysis of surface leakage currents due to Zener tunneling in HgCdTe photovoltaic diodes // J. Semicond. Sci. Technol. — 1994. — N. 9. — P. 289-297.
19. Киес Р.Дж., Крузе П.В., Патли Э.Г., др. Фотоприёмники видимого и ИК-диапазонов. — М.: Радио и связь, 1985.
20. Корн Г., Корн Т. Справочник по математике для научных работников и инженеров. — М.: Наука, 1978.
21. Лысюк И.А., Голенков А.Г., Забуд-ский В.В., Сизов Ф.Ф., Бунчук С.Г. Определение температурного диапазона функционирования ИК-линеек (10 мкм) фотодиодов Cdo,22Hgo 78Te // Оптоэлектроника и полупроводниковая тех-
ника. Межведомственный сборник научных трудов. — 2005. — Вып. 40. — С. 223-227.
22. Болтарь К.О., Соляков В.Н., Петров И.Н., Стафеев В.И., Бовина Л.А., Саги-нов Л.Д. Вольт-амперные характеристики фотодиодов на основе Cdo^Hgo 78Te в диапазоне температур 8 K-100 K || Материалы В-го Всесоюзного симпозиума «Полупроводники с узкой запрещённой зоной и полуметаллы». — 1991. — T. 2. — С. 1Т-19.
23. D’Souza A.I., Dewames R.E., Wijewarnasuriya P.S., Hildebrandt G, Arias J.M. Current mechanisms in VLWIR Hg1 xCdxTe photodiodes || J. Electron. Mater. — 2001. — V. 30, N. 6. — P. 5В5-5В9.
24. Lubzens D., Rosenfeld D., Nemirovsky Y. The noise equivalent temperature difference performance of HgCdTe photodiode array || Infrared Phys. — 19ВВ. — V. 2В, N. 6. — P. 417-423.
25. Бонч-Бруевич В.Л., Калашников С.Г. Физика полупроводников. — М.: Наука, 1990.
26. Кравченко А.Ф., Овсюк В.Н., Ромашко Л.Н. Механизмы переноса носителей заряда в диффузионных n-р-переходах, изготовленных на основе CdHgTe || Автометрия. — 199В. — № 4. — С. ТВ-ВТ.
Поступила в редакцию 14.01.2008.
