Научная статья на тему 'Электрические характеристики твердотельного вакуумного планарного триода'

Электрические характеристики твердотельного вакуумного планарного триода Текст научной статьи по специальности «Физика»

CC BY
283
45
i Надоели баннеры? Вы всегда можете отключить рекламу.
Ключевые слова
МИКРОЭЛЕКТРОНИКА / ВАКУУМНЫЙ МИКРОТРИОД / ПОЛЕВАЯ ЭМИССИЯ / MICROELECTRONICS / VACUUM MICROTRIODE / FIELD EMISSION

Аннотация научной статьи по физике, автор научной работы — Столяр Н.Ф., Данилюк А.Л., Борисенко В.Е.

В данной работе произведено моделирование анодных и сеточных характеристик для твердотельного вакуумного микроразмерного твердотельного триода. Было произведено сравнение экспериментальных и рассчитанных характеристик. Рассчитаны зависимости для крутизны и внутреннего сопротивления структуры. Определен коэффициент усиления микротриода.

i Надоели баннеры? Вы всегда можете отключить рекламу.

Похожие темы научных работ по физике , автор научной работы — Столяр Н.Ф., Данилюк А.Л., Борисенко В.Е.

iНе можете найти то, что вам нужно? Попробуйте сервис подбора литературы.
i Надоели баннеры? Вы всегда можете отключить рекламу.

Modeling of anode and gate characteristics of solid-state vacuum microtriode was made in this work. The calculated characteristics were compared with experimental ones. Dependencies of steepness and internal resistance were calculated. Microtriode gain was found.

Текст научной работы на тему «Электрические характеристики твердотельного вакуумного планарного триода»

Доклады БГУИР_DokladyBGUIR

2017, № 8 (110) 2017, No. 8 (110)

УДК 621.382.2/.3

ЭЛЕКТРИЧЕСКИЕ ХАРАКТЕРИСТИКИ ТВЕРДОТЕЛЬНОГО ВАКУУМНОГО ПЛАНАРНОГО ТРИОДА

Н.Ф. СТОЛЯР, АЛ. ДАНИЛЮК, В.Е. БОРИСЕНКО

Белорусский государственный университет информатики и радиоэлектроники, Республика Беларусь

Поступила в редакцию 2 октября 2017

Аннотация. В данной работе произведено моделирование анодных и сеточных характеристик для твердотельного вакуумного микроразмерного твердотельного триода. Было произведено сравнение экспериментальных и рассчитанных характеристик. Рассчитаны зависимости для крутизны и внутреннего сопротивления структуры. Определен коэффициент усиления микротриода.

Ключевые слова: микроэлектроника, вакуумный микротриод, полевая эмиссия.

Abstract. Modeling of anode and gate characteristics of solid-state vacuum microtriode was made in this work. The calculated characteristics were compared with experimental ones. Dependencies of steepness and internal resistance were calculated. Microtriode gain was found.

Keywords: microelectronics, vacuum microtriode, field emission.

Doklady BGUIR. 2017, Vol. 110, ]\о. 8, pp. 41-47

Electrical characteristics of vacuum planar triode with four electrodes

M.F. Stoliar, A.L. Daniliuk, V.E. Borisenko

Введение

К 1980-м годам полупроводники вытеснили вакуумные лампы из электроники благодаря своей технологичности, миниатюрности, экономичности, невысокой стоимости и низкому энергопотреблению. Однако в настоящее время частотные характеристики полупроводниковых приборов приближаются к своему пределу и актуальность альтернативных электронных приборов с каждым годом возрастает.

Несмотря на указанные выше преимущества, полупроводники все же не являются идеальной средой для переноса носителей заряда. При протекании тока в полупроводниках происходит рассеяние носителей заряда на колебаниях кристаллической решетки и ее дефектах. В то время как в вакууме возможен перенос носителей заряда без существенного рассеяния. Максимальная скорость движения носителей заряда в полупроводниках составляет 5-105 м/с, а скорость электронов в вакууме теоретически может достигать 3-108 м/с. Кроме того, вакуумные устройства более устойчивые, чем полупроводниковые приборы, к экстремальным условиям, например, для работы при повышенных температурах и воздействии радиации [1].

На данный момент в большинстве современных вакуумных ламп, которые все еще применяются в мощных радиосистемах, используется термоэлектронная эмиссия. Такой тип эмиссии требует больших энергозатрат, затрудняет использование вакуумных ламп в маломощных системах. Однако была найдена возможность совместить достоинства приборов обоих типов при миниатюризации триода в микромасштабе [1, 2, 4-7].

Целью данной работы является разработка модели, позволяющей прогнозировать электрические характеристики вакуумных твердотельных триодов в зависимости от размеров составляющих их элементов.

Описание структуры

В качестве объекта моделирования выбрана экспериментальная структура, описанная в [2]. Она содержит катод, анод и два управляющих электрода (рис. 1). Электроды состоят из адгезионного и эмиссионного слоев. Эмиссионный слой выполнен из пленки золота толщиной 300 нм. Оба слоя осаждаются на кремниевую подложку, после чего с помощью литографии формируется рисунок структуры. Расстояние между катодом и анодом - 90 мкм, между управляющими электродами - 270 мкм. Горизонтальная ось симметрии управляющих электродов удалена от катода на 40 мкм. Для избежания столкновения носителей заряда с молекулами воздуха во время экпериментальных измерений структура помещалась в вакуумную камеру с давлением 10-3 Па. Для данной структуры в ходе экспериментальных измерений в [2] были получены анодные характеристики (зависимость анодного тока от разности потенциалов анод-катод), что важно для оценки адекватности предлагаемой модели.

Рис. 1. Структура вакуумного микротриода

Методика расчета вольт-амперных характеристик вакуумной планарной микроструктуры

Для расчета вольт-амперных характеристик необходимо было решить следующие задачи: 1) найти распределение напряженности электрического поля в зависимости от величин потенциалов на электродах структуры с использованием уравнения Лапласа; 2) определить эмиссионный ток на катоде с помощью уравнения Фаулера-Нортгейма; 3) рассчитать траектории эмиттированных электронов с помощью уравнения Лоуренса для действующей

на электроны силы со стороны электрического поля в зазоре и Второго закона Ньютона, а далее определить долю электронов, которая достигнет анода. Определив долю электронов, достигших анода, можно найти анодный ток.

Для расчета распределения напряженности электрического поля уравнение Лапласа решали методом конечных элементов, где в качестве граничных условий брали потенциалы на электродах структуры:

Ё = У¥, (1)

здесь V- электростатический потенциал; Е - вектор напряженности электростатического поля.

В результате решения уравнения Лапласа получили карту распределения напряженности электростатического поля в структуре (рис. 2). Зная напряженность электростатического поля вблизи катода, используя формулу Фаулера-Нортгейма, рассчитывали плотность тока на поверхности катода [5]:

т е Е

J =-;-ехр

8лйФ?2 (у)

-8 у)

3кеЕ

(2)

где е - заряд электрона; Е - напряженность электрического поля на катоде; к - постоянная Планка; Ф - работа выхода материала катода; т - эффективная масса электрона в материале катода; ¿(у) и у(у) - функции Нортгейма аргумента у.

У =

е3 Е

еЕ (3)

4тсе0 Ф

Проинтегрировав плотность тока по поверхности катода, получили ток эмиссии: 1С =| Jds . (4)

Рис. 2. Распределение напряженности электростатического поля в микроразмерной структуре

при Пае = 30 В и = -15 В

Для определения анодного тока необходимо рассчитать траектории движения электронов, которые эмиттированы катодом, а затем найти, какая их часть достигнет анода. Для этого решали следующее уравнение:

- = -, (5)

& ш0

где V - скорость движения электрона; ^ - время; то - масса покоя электрона.

Начальные скорости электронов принимали равными нулю. Распределение сгенерированных электронов по поверхности катода пропорционально плотности эмиссионного тока. После построения траекторий (рис. 3) и вычисления количества электронов, которые попали на анод, получили анодный ток.

м

Рис. 3. Траектории движения электронов в моделируемом триоде

Для корректировки отклонений расчетных от экспериментальных данных был введен специальный коэффициент пропорциональности к, определяемый соотношением

Iэкс 7рас • (6)

В данной модели анод подключался к заземленной шине, т. е. потенциал анода равен нулю.

Результаты расчета характеристик структуры

В результате расчетов получили анодные характеристики для рассмотренной структуры. При сравнении рассчитанных данных с экспериментальными значениями был определен поправочный коэффициент к. Для наглядности на рис. 4 для каждого из рассмотренных сеточных потенциалов П были представлены: зависимости, полученные экспериментально; полученные в ходе расчетов; зависимости с учетом поправочного коэффициента.

В ходе расчетов было установлено, что максимальное отклонение экспериментальных данных от расчетных было при нулевом потенциале на управляющих электродах. Для этого случая значение поправочного коэффициента составило к = 5 (рис. 4, а). При уменьшении потенциала на управляющих электродах экспериментальные данные приближаются

к расчетным, а поправочный коэффициент приближается к единице. При -20 В поправочный коэффициент становится равным единице (рис. 4, г), а при дальнейшем уменьшении потенциалов на управляющих электродах практически не меняется (рис. 4, д).

Отклонение расчетных данных от экспериментальных можно объяснить тем, что после изготовления триода могли оставаться заусенцы, микровыступы и неровности, на которых могла концентрироваться напряженность электрического поля. Также в материале, из которого была выполнена структура, могли содержаться примесные центры. Такие места могут стать дополнительными источниками эмиссии, что увеличит катодный и, как следствие, анодный ток.

- Рассчитанные зависимости с учетом коэффициента к

- Зависимости полученные в ходе расчетов

Рис. 4. Сравнение рассчитанных и экспериментальных анодных характеристик структуры при ^ =0 В (а), -10 В (б), -15 В (в), -20 В (г), -25 В (д)

По полученным анодным характеристикам было рассчитано внутренне сопротивление структуры, которое уменьшается по мере возрастания разности потенциалов анод-катод. Полученные зависимости сопротивления представлены на рис. 5. Ввиду того, что вакуум является идеальным диэлектриком, сопротивление структуры при разности потенциалов анод-катод до 10 В стремится к очень большим значениям, при которых в структуре не протекает ток, что можно увидеть на рис. 5. При наращивании разности потенциалов анод-катод энергетический барьер понижается, и сопротивление структуры, соответственно, тоже уменьшается.

в

г

д

Рис. 5. Зависимость внутреннего сопротивления структуры от разности потенциалов анод-катод

Используя рассмотренную модель, были получены сеточные характеристики структуры (зависимость анодного тока от потенциалов на управляющих электродах). Сеточные характеристики представлены на рис. 6, а их крутизна - на рис. 7.

Исходя из полученных в работе [2] экспериментальных данных, реальные характеристики имеют большую крутизну. Это происходит при преодолении значения потенциала на управляющих электродах в -20 В, как уже говорилось выше, ввиду активации дополнительных центров эмиссии на катоде. По мере увеличения разности потенциалов крутизна сеточных характеристик увеличивается. Однако при достижении некоторого значения происходит их снижение из-за того, что все большая часть электронов попадает на управляющие электроды, которые в некоторый момент сами начинают выполнять роль анодов.

Рис. 6. Рассчитанные сеточные вольт-амперные характеристики структуры

о

-зи -20 -11) и 11) 20 ЗУ

и2[\'1

Рис. 7. Зависимости крутизны вольт-амперной характеристики структуры от значения потенциала на

управляющих электродах Судя по полученным зависимостям (рис. 6), следует искать компромиссное решение в выборе рабочего режима триода в случае использования его в реальных структурах. Если выбрана слишком большая разность потенциалов анод-катод, то для «запирания» триода

потребуется подать слишком большой потенциал на управляющие электроды. Однако если использовать слишком маленькую разность потенциалов, то на выходе структуры получится маленьких выходной ток.

Используя выражение ц = S ■ R (где S и R - соответственно крутизна вольт-амперной

характеристики и сопротивление триода при заданных Ug и Uac), был получен коэффициент усиления триода ц = 0,26.

Заключение

Предложена модель и рассчитаны анодные и сеточные вольт-амперные характеристики твердотельной планарной микроразмерной вакуумной триодной структуры, из которых получены внутреннее сопротивление и крутизна. В ходе сравнения имеющихся экспериментальных и расчетных данных установлено, что экспериментальный анодный ток имеет большие значения при тех же значениях Uac. Однако при увеличении отрицательного потенциала на управляющих электродах разница между расчетным и экспериментальным токами уменьшается. При Ug = -20В расчетные характеристики практически не отличаются

от экспериментальных. Представленная модель может быть использована при разработке устройств вакуумной электроники.

Список литературы

1. Jin-WooHan, JaeSubOh, Meyyappan M.Vacuum nanoelectronics: Back to future? - Gate insulated nanoscale vacuum channel transistor // Applied Physics Letters. 2012. Vol. 100. P. 213505.

2. Tomasz Grzebyk, Anna Gorecka-Drzazga. Field-emission electron source for vacuum micropump // Vacuum. 2011. Vol. 86. P. 39-43.

3. Kenji Natori. Ballistic/quasi-ballistic transport in nanoscale transistor // Applied Surface Science. 2008. Vol. 254. P. 6194-6198.

4. Gallyamov Z.R., Nikiforov K.A. Model of electron transport in cell of a thin-film vacuum nanotriode // Journal of Physics: Conference Series. 2014. Vol. 541. P. 012035.

5. Фурсей Г.Н. Автоэлектронная эмиссия // Соровский образовательный журнал. 2000. Т. 6, № 11. С. 96-103.

6. Seok Woo Lee, Seung S. Lee, Eui-Hyeok Yang. A Study on Field Emission Characteristics of Planar Graphene Layers Obtained from a Highly Oriented Pyrolyzed Graphite Block // Nanoscale Res Lett. DOI 10.1007/s11671-009-9384-9.

7. Nitrogen-incorporated nanodiamond vacuum field emission transistor with vertically configured self-aligning gate/ S.H. Hsu [et al.] // Diamond & Related Materials. 2012. Vol. 22. P. 142-146.

References

1. Jin-WooHan, JaeSubOh, Meyyappan M.Vacuum nanoelectronics: Back to future? - Gate insulated nanoscale vacuum channel transistor // Applied Physics Letters. 2012. Vol. 100. P. 213505.

2. Tomasz Grzebyk, Anna Gorecka-Drzazga. Field-emission electron source for vacuum micropump // Vacuum. 2011. Vol. 86. P. 39-43.

3. Kenji Natori. Ballistic/quasi-ballistic transport in nanoscale transistor // Applied Surface Science. 2008. Vol. 254. P. 6194-6198.

4. Gallyamov Z.R., Nikiforov K.A. Model of electron transport in cell of a thin-film vacuum nanotriode // Journal of Physics: Conference Series. 2014. Vol. 541. P. 012035.

5. Fursej G.N. Avtojelektronnaja jemissija // Sorovskij obrazovatel'nyj zhurnal. 2000. T. 6, № 11. S. 96-103. (in Russ.)

6. Seok Woo Lee, Seung S. Lee, Eui-Hyeok Yang. A Study on Field Emission Characteristics of Planar Graphene Layers Obtained from a Highly Oriented Pyrolyzed Graphite Block // Nanoscale Res Lett. DOI 10.1007/s11671-009-9384-9.

7. Nitrogen-incorporated nanodiamond vacuum field emission transistor with vertically configured self-aligning gate/ S.H. Hsu [et al.] // Diamond & Related Materials. 2012. Vol. 22. P. 142-146.

Сведения об авторах

Столяр Н.Ф., м.т.н., аспирант Белорусского государственного университета информатики и радиоэлектроники.

Informationabouttheauthors

Stoliar M.F., master of engineering, PG student of Belarusian state university of informatics and radioelectronics.

Данилюк А.Л., к.ф.-м.н., доцент, доцент кафедры микро- и наноэлектроники Белорусского государственного университета информатики и радиоэлектроники.

iНе можете найти то, что вам нужно? Попробуйте сервис подбора литературы.

Борисенко В.Е., д.ф.-м.н., профессор, заведующий кафедрой микро- и наноэлектроники Белорусского государственного университета информатики и радиоэлектроники.

Daniliuk A.L., PhD, associate professor, associate professor of micro- and nanoelectronics department of Belarusian state university of informatics and radioelectronics.

Borisenko V.E., D.Sci., professor, head of micro- and nanoelectronics department of Belarusian state university of informatics and radioelectronics.

Адрес для корреспонденции

220013, Республика Беларусь, г. Минск, ул. П. Бровки, д. 6, Белорусский государственный университет информатики и радиоэлектроники тел. +375-33-674-78-01; e-mail: n.stolyar@list.ru. Столяр Николай Федорович

Address for correspondence

220013, Republic of Belarus, Minsk, P. Brovka st., 6, Belarusian state university of informatics and radioelectronics tel. +375-33-674-78-01; e-mail: n.stolyar@list.ru. Stoliar Mikalai Fedaravich

i Надоели баннеры? Вы всегда можете отключить рекламу.