CC BY
24
Р =
(E -1)2 + F' (3)
(E +1)2 + F2
Зависимость р от I представляет собой осциллирующую и затухающую кривую, которая при I ^ го приближается к своему предельному значению рго. При этом положение ее экстремальных точек описывается уравнением
У
th(2 лхэ y) tg(2nx3 )
tg(2nx3 ) thI 2nx3y)
= (1 + y2)2n2 -(1 -y2), (4)
где хэ = /э /; /Э - толщина слоя вещества в точках экстремума [4].
Экспериментальным путем было установлено, что экстремальные значения зависимости р(/) реализуются при толщинах слоя вещества, несколько отличных от значений, кратных Xd/4. При этом минимальные значения р реализуются при толщинах вещества /min:
/ 2 N -1
x = /mn = __i + д (5)
xmin ^ ^ min, (5)
1 л/1 + 4 A2 — 1 У где Л=1, 2, 3,.„; дmin = — arrtg^rth^miny)]; В =-—-; A = 2У --.
2п 2A (1 + y )n — (1 — y )
При снижении поглощающей способности вещества до y < yk функция р(/) распадается на две области, которые различаются характером изменения ее экстремальных значений р с ростом / [4]. В этих случаях при значениях х, больших некоторой критической величины Xk, ее нормальная область имеет традиционный вид, когда величины максимумов Ртах уменьшаются, а величины минимумов pmin возрастают с ростом / и в пределе достигают рда. В отличие от нее, в аномальной области функции р(/) при х < Xk величины максимумов и минимумов синхронно уменьшаются с ростом /.
Таким образом, при каком-то избирательном значении у может оказаться, что один из минимумов функции р(/) при х = Xk может достичь нулевого значения.
Границей нормальной и аномальной областей функции р(/) может оказаться один из её минимумов. В этом случае р = 0, ZBX =Z0 и E = 1, F = 0. Тогда из уравнения (1) следует, что
sh4nxy = n(ch4nxy + cos 4nx), (6)
ysh4nxy + sh4nxy = 0. (7)
Так как, согласно уравнению (5), минимумы функции р(/) располагаются на расстояниях больших величин, кратных ^¿/4, то из уравнений (6) и (7) следует:
Ш4лД = , 2ny-, th4nxy = ——-. (8)
n 2(1 + y2) — 1 n 2(1 + y2) +1 W
Исключив из обоих уравнений (8) величину А, получим выражение, определяющее условие полного поглощения электромагнитной волны в веществе покрытия:
(2N — 1) — ф = — ln — , (9)
y r
70
Р.М.КАСИМОВ, С.Р.КАСИМОВА
где г =
(1 - п)2 + (пу)2
ф =
2пу
- соответственно модуль и фаза коэффициента
(1 + п)2 + (пу)2 ' т 1 -п2(1 + у2) отражения волны от границы вакуум-диэлектрик.
Полученные результаты оценим с использованием круговых диаграмм, применяемых для анализа зависимостей 2ВХ(/) и р(/) [3]. На рис. 1 и 2 эти зависимости применены для построения функций р(/), имеющих нулевые минимумы при N = 1 (п = 3, у = 0.3) и N = 2 (п = 3, у = 0.07). При их построении в уравнении (1) использовалось не х = /ГХх, а г = х - А, где в качестве А применялись значения отклонений соответственно для нулевых минимумов N = 1 (рис. 1) и N = 2 (рис. 2). Обе зависимости р(/) имеют вид спиралей и при значениях г = 1/4 и 3/4 соответственно для первого и второго нулевых минимумов проходят через нулевую точку.
0.4
0.35
0.А, г = - А1т1П 0.10
.0.8
0.15
0.25
0
Рис. 1. Круговая диаграмма с зависимостью модуля коэффициента отражения волны р от приведенной толщины г = 1Гк& - А1т1П слоя вещества покрытия с коэффициентом преломления волны п = 3 и фактором диэлектрических потерь у = 0.3; А1т1П - величина отклонения первого минимума функции р(/) от четверти длины волны вещества покрытия
0
Рис. 2. Круговая диаграмма с зависимостью модуля коэффициента отражения волны р от приведенной толщины г = - Д2тт слоя вещества покрытия с коэффициентом преломления волны п = 3 и фактором диэлектрических потерь у = 0.07; Д2тш - величина отклонения второго минимума функции р(1) от трех четвертей длины волны вещества покрытия
СПИСОК ЛИТЕРАТУРЫ
1. Касимов Р.М. // Измерительная техника. 1970. № 10. С. 48-49.
2. Касимов Р.М. // Инженерно-физический журнал. 1994. Т. 67. № 5-6. С. 489-492.
3. Харвей А.Ф. Техника сверхвысоких частот. М.: Сов. Радио. 1965. Т. 1. 784 с.
4. Касимов Р.М. // Метрология. 1987. № 7. С. 45-51.
72
Р.М.КАСИМОВ, С.Р.КАСИМОВА
YASTI ÎKÎLAYLI DÎELEKTRÎK-METAL SÎSTEML3RÎNÎN ELEKTROMAQNÎT ÇUALANMANI TAM UDMASI §3RAÎTÎ
R.M.Qasimov, S.R.Qasimova
Elektromagnit §ùalarinin (aks olunmadan) ideal keçirici metal sathina çakilmi§ uducu yasti dielektrik gatinda tam udulmasi çaraiti mùayyanla§dirilmi§dir. Onlar dalganin anomal va normal sahalarinin sarhadinda yerla§an aks olunan siqnalin minimum noqtasinda nisbatan zaif sonmasi zamani meydana çixir.
Açar sozfor: elektromaqnit dalga, dalganin tam udulmasi, dielektrik—metal sistemi.
CONDITIONS OF FULL ABSORPTION OF ELECTROMAGNETIC IRRADIATION OF A FLAT TWO-STAGED SYSTEM DIELECTRIC-METAL
R.M.Kasimov, S.R.Kasimova
There have been determined conditions of full (unreflective) absorption of electromagnetic irradiation of a flat layer of absorbing dielectric, covering on ideally conducting metal substrate. They appear of rather a weak wave damping in the point of minimum reflected sign, which is situated at the border of its abnormal and normal fields.
Keywords: electromagnetic wave, full absorption of wave, dielectric-metal system.
AZ9RBAYCAN KÍMYA JURNALI № 3 2014
73
UOT 665.7.038.678.744.325
DESÍLMETAKRÍLATIN DESEN-1-ЬЭ BÍRG9 POLÍMERÍNÍN SÍNTEZÍ УЭ ÓZLÜLÜK A§QARI KÍMÍ T8DQÍQÍ
9.L9hmadov, E.LHasanova, C.§.Hamidova, E.U.isakov
Azdrbaycan Milli EA Э.Ы. Quliyev adina A§qarlar Kimyasi institutu
aki05@mail.ru
Redaksiyaya daxil olmu§dur 06.02.2014
Desilmetakrilatin desen-Ыэ birga polimerla§masi yolu ila birga polimerin sintezi va onun neft yaglarina ozlülük a§qari kimi tadqiqi aparilmi§dir. Birga polimerin lazimi xarakteristikalarla alinmasini tamin edan §arait tapilmi§dir. Sintez edilmi§ birga polimerin yaglarin ozlülük-temperatur xassalarina tasiri oyranilmi§dir. Tadqiq olunan birga polimerin bifunksional a§qar kimi istifadasi üfün tovsiyalar hazirlanmi§dir.
Agar sozlsr: birga polimerbgma, desilmetakrilat, desen, ozlülük a§qarlari.
Ma§in va mexanizmlarin uzun müddatli va etibarli istismarini tamin etmak ü9ün istifada edilan sürtkü yaglari yüksak keyfiyyata malik olmalidir. Sürtkü yaglarinin keyfiyyati isa onlarin tarkibinda istifada edilan a§qarlarin keyfiyyati ila müayyan edilir. Bu a§qarlar i9arisinda ozlülük a§qarlarinin xüsusi yeri var. Bela ki, onlar yüksak ozlülük-temperatur xassalarina, yani yüksak ozlülük indeksina malik yaglar alinmasinda istifada edilirlar. Ogar sürtkü kompozisiyasi hazirla-maq ü9ün istifada edilan baza yagi ozlülük indeksinin qiymatina gora talabata cavab vermirsa, onda bela yag asasinda sürtkü kompozisiyasi hazirlanmir. Ona gora da ilk novbada yagin ozlülük-temperatur xassalari yax§ila§dirilmalidir. Bu maqsadla adatan ozlülük a§qarlarindan istifada edilir, 9ünki ki9ik miqdarda (1-2%) polimer birla§madan istifada etmakla qar§iya qoyulan maq-sada nail olunur, ham da bu yol sinanmi§ va sada yol hesab edilir.
Ozlülük a§qarlari kimi bir sira vinil monomerlarindan - poliizobutilen, polialkilmetak-rilatlar, vinipol va s. istifada olunmu§dur [1-3]. Lakin gostarilan polimerlar bugünkü talabata cavab vermadiklarindan, artiq istifada edilmirlar. Ancaq polialkilmetakrilat tipli ozlülük a§qarla-rinin malum üstünlüklarini nazara alaraq, dünya miqyasinda kimyavi modifikasiya edilmi§ polialkilmetakrilat tipli ozlülük a§qarlari alinmasi istiqamatinda tadqiqatlar aparilir. Deyilanlari nazara alaraq bu istiqamatda, yani kimyavi modifikasiya edilmi§ polialkilmetakrilat tipli ozlülük a§qarlari alinmasi istiqamatinda tadqiqatlar aparilmi§dir. Bela ki, bu a§qarlar sada texnologiya üzra alinirlar, asan kimyavi modifikasiya edilirlar va yaglarin ozlülük-temperatur (xüsusila a§agi temperatur) xassalarini yax§ila§dirmaga gora digar ozlülük a§qarlarindan üstündürlar. Ancaq polimer zancirinda dordlü karbon atomu oldugundan, onlar destruksiyaya qar§i davamli deyillar. Ona gora da polialkilmetakrilatlari kimyavi modifikasiya edarak stabil ozlülük a§qarlari almaq maqsadila ilkin metakrilatlar bazi stabilla§dirici monomerlarla birga polimerla§dirilirlar. Bela monomerlardan biri da a-olefinlardir.
Tadqiqatlarda alkilmetakrilat kimi desilmetakrilatdan, a-olefin kimi desen-1-dan istifada etmi§ik.
Desilmetakrilatin (DMAK) desen-1-la (Dn-1) birga polimerla§masi radikal mexanizmi üzra inisiator olaraq gotürülmü§ izoyag tur§usunun dinitrilinin i§tiraki ila aparilmi§dir.
Desilmetakrilat laboratoriya §araitnda metakril tur§usuna desil spirtinin tasirindan alin-mi§dir. Desen-1 isa etilenin oliqomerla§ma mahsullarindan ayrilmi§dir. Har iki monomer taza qovulmu§ halda istifada edilmi§dir.
Prosesa temperaturun, reaksiyanin davametma müddatinin, birga monomerlar nisbatinin, inisiatorun qatiliginin va halledicinin tasiri oyranilmi§dir. Naticalar cadval 1-da verilmi§dir.
Naticalardan goründüyü kimi, reaksiya müddatinin 1 saatdan 3 saata qadar artirdiqda birga polimerin 9iximi 60%-dan 93%-a qadar artir. Reaksiya müddatinin sonraki artimi (4 saat) birga polimerin 9iximina az tasir edir (95%).
