ПОЛУПРОВОДНИКОВЫЕ МАТЕРИАЛЫ И ЭЛЕМЕНТЫ
УДК 539.219.621
ПОГЛОЩЕНИЕ СВЕТА В МНОГОСЛОЙНЫХ СТРУКТУРАХ AlGaAs^As ПРИ МЕЖПОДЗОННЫХ ПЕРЕХОДАХ В КВАНТОВЫХ ЯМАХ
© 2005 г. А.В. Благин, О.Е. Драка
Введение
Классическим примером применения межподзон-ных переходов в оптике являются фотодетекторы среднего ИК диапазона [1]. Одним из значительных успехов в исследовании оптики межподзонных переходов является разработка лазера на квантовом каскаде [2], который позволил существенно продвинуть длину волны излучения полупроводниковых лазеров в длинноволновую область. Длины волн, соответствующие межподзонным (т.е. происходящим в пределах валентной зоны или зоны проводимости) переходам в квантовых ямах полупроводниковых гетеро-структур, обычно лежат в средней и дальней инфракрасной (ИК) областях спектра (X >5 мкм). Изменение конструкции квантовых ям приводит к изменению энергетического спектра, что позволяет исследовать новые явления и создавать оптоэлектронные приборы на межподзонных переходах, работающие в заданной области спектра. Межподзонные переходы электронов в квантовых ямах также используются для модуляции интенсивности излучения, прошедшего через структуру. Известны модуляторы на основе пары туннельно-связанных квантовых ям, работающие на эффектах пространственного переноса электронов между ямами в поперечном (направленном вдоль оси роста структуры) электрическом поле [3]. В настоящей работе предлагается исследование модуляции коэффициента поглощения в системе туннельно-связанных квантовых ям АЮаАБ/ОаАБ.
Результаты расчета спектров поглощения и пропускания
В работе был произведен расчет спектров отражения и пропускания для многослойной структуры А1хОа1-хА8/ваА8 с показателем преломления, не зависящим от частоты. Данные слои характеризуются толщиной ё (действительное число) и показателем преломления п (комплексное число). Матрица переноса,
согласно работе [1], определяется для ^-поляризованной волны следующим образом:
(
T =
cos /г
n, cos Q
"sin /г
А
-ini cos Q г sin / cos /
где /, - фаза, набранная волной при движении от одной границы слоя к другой, п, - показатель преломления 1-го слоя, ^ , - угол распространения света в /-м
слое.
В случае Р-поляризации матрица переноса формируется следующим образом [4]:
f
T=
cos /г
cos Q
sin /г
А
-i cos Q г sin /г cos /г
Амплитудные коэффициенты отражения и пропускания имеют смысл отношения амплитуд магнитного поля в прошедшей (или отраженной) волне к падающей волне и вычисляются с использованием элементов матрицы переноса согласно выражениям (1), (2):
r =
(M ц + M12 Р1) Р 0 - (M 2! + M 22 Pi) . (M11 + M12 P1) p 0 + (M 21 + M 22 P1) '
t = -
_2Po_
(M11 + M12 P1) p 0 + (M 21 + M 22 P1)
(1)
(2)
Для ^-поляризованного света p 0 = n 0 cos Q 0 и p1 = nj cos Q j; для P-поляризованного света p 0 = = cosQ0/n0, pj = cosQj/nj, где n0 - показатель преломления полубесконечной среды, ограничивающей структуру, из которой падает свет, Q 0 - угол падения света, n и Q j - соответствующие параметры
-г
-гп
n
для последней полубесконечной среды. Энергетический коэффициент отражения вычислялся как квадрат модуля амплитудного коэффициента отражения, а энергетический коэффициент пропускания был найден как квадрат модуля амплитудного коэффициента пропускания, помноженный на отношение р р 0. Фаза отраженной волны рассчитывалась как фаза комплексного числа для соответствующего коэффициента отражения. Аналогично рассчитывалась фаза прошедшей через структуру волны.
Показатель преломления А1хОа1-;1:АБ был рассчитан согласно методике [5]:
п = 3,3 - 0,53х + 0,09х2
при х = 0,3 и составил 3,15. Показатель преломления ПоаАв = 3,3 был взят из работы [6].
Профиль потенциала многослойной структуры был получен методом огибающей волновой функции. Для конечной высоты барьера значение энергии локализованного состояния определялось из решения трансцендентного уравнения
где
2а cos(ßh) +
^ а2
Л
T-ß
sin (ßh ) = 0,
(3)
Mn -
c0s ß ndn ß-lsinß ndn
n n
-p„ Sin Pn^n COSPn^n В случае барьера
Mn -
ch аndn а -1sha ndn а n sha ndn cha ndn
" n n n
2m (Vs - E) ¡2mE где а = 4|-2-, в = J—m - эффективная
й2 V й2
масса электрона, Е - значение энергии локализованного состояния.
Для многоямных структур уравнение (3) решается численными методами. В отсутствие внешнего поля потенциал (3) является кусочно-постоянным. В каждом слое его постоянства решение можно представить в виде линейной комбинации плоских волн.
/п (г) = Ап ехР(/апг)+ Вп ехр(-апг),
В результате получаем дисперсионное уравнение, определяющее дискретные уровни энергии
тпа + т12а2 + т21 + т22а = 0 .
Выводы
На рис. 1 показан профиль потенциала 8-слойной структуры А10,зОа0,7АБ/ОаАБ с толщинами слоев 150 нм, полученный методом огибающей волновой функции. Из рисунка видно, что в зоне проводимости образуются 2 разрешенные минизоны.
х=0,3
! di ¡ d2 ¡ d3 ¡
I*----■>!<•----■>!<■---->1
Рис. i. Профиль потенциала 8-слойной структуры Al0,3Ga0,7As/GaAs. d1=d2=^d8=i50 нм
где а = 2m (е - U n), Un - потенциал в n-слое.
h2
В случае если электрон находится в яме, (3) можно записать в виде
fn (z )= Un COS P n (z - zn ^^ sin P n (z - zn );
в n
a n (z )s dfM = -P nUn Sin в n (z - zn ) +
+ancosßn(z-zn )
2m
г п - координата начала п-го слоя, Р п = —— г.
й2
В матричном виде (4) будет выглядеть следующим образом:
in(dn) = Mn Un
СТn(dn) n CT n
10
А, см-1
0 0,1 0,2 0,3 0,4 0,5
hv, эВ
Рис. 2. Коэффициент поглощения в случае ^ (сплошная линия) и р (штриховая линия) поляризации 8-слойной структуры А10,3Оа0,7А8/ОаА8. й0 = 45°
-200
0,1 0,2 hv, эВ
0,3
0,1
0,2
0,3
hv, эВ
Рис. 3. Фаза проходящей волны через 8-слойную структуру А10)3Оа0)7А8/ОаА8. й0 = 45°
Переходы внутри этих минизон соответствуют 1-му пику коэффициента поглощения (рис. 2). Переход 2 (рис. 1) соответствует 2-му пику коэффициента поглощения (рис. 2). Третий пик коэффициента поглощения соответствует переходам в ваАБ.
На рис. 3, 4 показаны коэффициенты пропускания данной структуры и фаза проходящей волны, полученные методом матрицы переноса. Периодичность их изменения обусловлена квантово-размерными эффектами в данной структуре, в частности, наличием двух разрешенных минизон (рис. 1).
Рис. 4. Коэффициенты пропускания в случае s (сплошная линия) и p (штриховая линия) поляризации 8-слойной структуры Al0,3Ga0,7As/GaAs. Q0 = 45°
Литература
1. Levine B.F. // J. Appl Phys. 74, R1 (1993).
2. Faist J., Capasso F., Sivko D.L., Sirtori C., Hutchinson A.L., ChoA.Y. // Science. 1994. Vol. 264. P. 533.
3. DupontE., DelacourtD., Berger V., Vodjdani N., Papuchon M. // Appl. Phys. Lett. 1993. Vol. 62, P. 1907.
4. Борн М., Вольф Э. Основы оптики. М., 1970.
5. Jenkins D.W. // J. Appl Phys. 1990. Vol. 68, № 4. Р. 1848-
1853.
6. Blakemore J.S. // J. Appl. Phys 1982. Vol. 53. № 10. R 123-R 181.
Волгодонский институт (филиал) Южно-Российского государственного технического университета (НПИ)
21 октября 2004 г.
0