CC BY
50
Раднаев Баир Владимирович, аспирант, отдел физических проблем, Бурятский научный центр СО РАН. 670047, Улан-Удэ, ул. Сахьяновой, 8
Раднаев Бато Владимирович, аспирант, отдел физических проблем, Бурятский научный центр СО РАН. 670047, Улан-Удэ, ул. Сахьяновой, 8
Милонов Александр Станиславович, кандидат технических наук, младший научный сотрудник, лаборатория электрофизики, отдел физических проблем, Бурятский научный центр СО РАН. 670047, Улан-Удэ, ул. Сахьяновой, 8
Смирнягина Наталья Назаровна, доктор технических наук, главный научный сотрудник, лаборатория электрофизики, отдел физических проблем, Бурятский научный центр СО РАН. 670047, Улан-Удэ, ул. Сахьяновой, 8, e-mail: ion-beam@pres.bscnet.ru
Radnaev Bair Vladimirivich, postgraduate student, department of physical problems, Buryat Scientific Center SB RAS.
Radnaev Bato Vladimirovich, postgraduate student, department of physical problems, Buryat Scientific Center SB RAS.
Milonov Alexandr Stanislavovich, candidate of engineering, junior researcher, laboratory of electrophysics, department of physical problems, Buryat Scientific Center SB RAS.
Smirnyagina Natalya Nazarovna, doctor of engineering, chief researcher, laboratory of electrophysics, department of physical problems, Buryat Scientific Center SB RAS.
УДК 621.9.048.7:669.15’74
ОСОБЕННОСТИ ФАЗОВОГО СОСТАВА И СТРОЕНИЕ СЛОЕВ НА ОСНОВЕ ДИБОРИДА
Т1В2, СФОРМИРОВАННЫХ В ПОВЕРХНОСТНЫХ СЛОЯХ УГЛЕРОДИСТЫХ СТАЛЕЙ ПРИ ВОЗДЕЙСТВИИ ИНТЕНСИВНЫХ ЭЛЕКТРОННЫХ ПУЧКОВ В ВАКУУМЕ
З.М. Халтаров, А.С. Милонов, Н.Н. Смирнягина, В.М. Халтанова
Рассмотрены некоторые особенности кристаллического строения слоев TiB2. Слои были сформированы на углеродистых сталях С20 и У8А с использованием реакционных обмазок, содержащих оксид титана, бор и углерод. Слои получены под действием электронных пучков импульсного и непрерывного действий. Сопоставлены свойства и структура слоев в зависимости от способа образования. Проанализированы и сравнены условия инициирования самораспространяющегося высокотемпературного синтеза и электронно-лучевой наплавки его продуктов.
Ключевые слова: электронно-лучевое борирование, электронно-лучевая наплавка продуктов СВС процесса, микроструктура.
PECULIARITIES OF PHASE COMPOSITION AND STRUCTURE OF LAYERS ON DIBORIDE TiB2, FORMED IN SURFACE LAYERS OF CARBON STEELS UNDER THE INFLUENCE OF INTENSE
ELECTRON BEAMS IN VACUUM Z.M. Khaltarov, A.S. Milonov, N.N. Smirnyagina, V.M. Khaltanova
Some features of TiB2 layers crystal structure are presented. Layers were generated on carbonaceous steels S20 and ША with use of reactionary daub containing the titan oxide, boron and carbon. Layers have been received under the influence of pulse and continuous action electron beam processing in vacuum. Properties and structure are compared in depence on way of forming. The conditions of initiation the self-extending high-temperature synthesis and electron beam surfacing of its products are analyzed and compared.
Keywords: electron beam boriding, electron beam surface alloys of high temperature self synthesis products, microstruture.
Насыщение поверхностных слоев металлов и сплавов бором проводят с целью повышения их поверхностной твердости, износостойкости и т.д. Применение электронного нагрева с высокой (>109 Вт/м2) удельной мощностью в вакууме благодаря быстрому безынерционному достижению предельно высоких температур и легкости регулирования нагрева в широком диапазоне температур открывает широкие возможности для создания защитных слоев на основе боридов тугоплавких металлов. В [1] сообщалось о формировании упрочняющих покрытий на основе TiB2, CrB2, VB2, W2B5 в углеродистых сталях под воздействием электронного пучка на борсодержащие реакционные обмазки в вакууме. Было сделано предположение об активной роли поверхности металлического образца при электронно-лучевой наплавке продуктов СВС процесса, протекающего в реакционных обмазках стехиометрических смесей, инициируемого электронным пучком.
В настоящей работе изучены некоторые особенности кристаллического строения слоев на основе TiB2, сформированных при электронно-лучевой обработке в импульсном и непрерывном режимах.
Методика эксперимента
Схема эксперимента. На рис. 1 представлены схемы электронно-лучевой обработки. Особенностью установки с электронным пучком микросекундной длительности является вертикальное размещение обрабатываемых образцов при горизонтальном вводе электронного пучка и отводе тепла (рис. 1а) [2, 3]. В экспериментальной установке непрерывного действия [4] образцы размещаются горизонтально (рис. 1б), а электронный пучок вводится и тепло отводится вертикально.
Различное размещение образцов относительно характера ввода электронного пучка, по нашему мнению, должно приводить к разным условиям формирования боридных покрытий. Вертикальное размещение образцов не должно приводить к четкой границе раздела слой-металл. При непрерывном отводе тепла расплав должен «стекать» по поверхности обрабатываемого металлического образца. В результате циклической обработки (импульсной) должна формироваться нечеткая (не резкая) граница раздела слой-металл. Горизонтальное размещение образца не влияет на процесс формирования покрытия и характер границы раздела слой-металл.
Нагрев образцов осуществляли электронным пучком в трех импульсных режимах с параметрами: ускоряющее напряжение - и=12-45 кВ; ток пучка - 1г=30-145 А. Обработку проводили с длительностью одного импульса - 1=50- 75 мкс; количество импульсов - Ы= от 3 до 2600; частота следования импульсов тока пучка - 7=0.3 Гц; и плотность энергии до W=1-18Дж/см2 (табл. 1) [2, 3].
X
&
<и
-
(Я
«
(Я
X
<и
н
и
2
Электронный
пучок
Электронный пучок
2
\/ \ / \ / \ / \/
1
Стенка камеры
б) непрерывного действия
а) импульсная
Рис. 1. Схема электронно-лучевой обработки: 1 - металлический образец, 2 - обмазка
Таблица
Режимы импульсной электронно-лучевой обработки при формировании слоев боридов ТіВ2
Режимы обработки 1г, А и,В /, Гц 1, мкс Ы, кол-во импульсов W, Дж/см2
1 30 12 0,3 75 1600 1-2
2 40 15 0,3 75 2600 2-3
3 40 15 0,3 75 2600 2-3
145 25 0,3 50 3 18
Электронный нагрев в непрерывном режиме проводили с помощью электровакуумной энергоустановки специальной конструкции (рис. 2) [5], содержащей мощную плавильную электронную пушку ЭПА-60-04.2 с блоком управления БУЭЛ и высоковольтный выпрямитель В-ТПЕ-2-30к-2У ХЛ4. Вакуумная установка предельно компактна по конструкции. Блок управления электронным пучком обеспечивает фокусировку электронного пучка на объекте нагрева, перемещение пучка по окружности, прямой линии и разверстку в растр. Кроме того, электронный коммутатор, встроенный в блок, легко распределяет мощность нагрева, образуя одновременно несколько объектов нагрева, и задает определенное время задержки электронного пучка на каждом из них. Остаточное давления в вакуумной камере не превышало 2х10"3 Па.
Материалы и методы исследования
Исследования проводили на образцах диаметром 015 мм и высотой 7 мм, выполненных из углеродистых сталей Ст20 и У8А. Использовали насыщающие или реакционные обмазки. Насыщающие обмазки содержали борирующий компонент (аморфный бор или карбид бора) и органическое связующее. В состав реакционных обмазок входили стехиометрические смеси оксида Ті02, бора/карбида бора, углерод и органическое связующее. Кроме того, применяли защитные обмазки на основе оксида бора В2О3. В качестве исходных использовали оксид титана со структурой анатаза, бор аморфный «технический» и карбид бора «ч», березовый уголь. В состав обмазок входили борирующие компо-
ненты и органическое связующее в соотношении 1:1 по объему. В качестве органического связующего применяли раствор 1:10 клея БФ-6 в ацетоне.
Рентгенофазовый анализ (РФА) осуществляли на дифрактометре D-8 Advance фирмы Bruker AXS на Cu Ка-излучении, который комплектуется банком международного центра порошковых дифракто-грамм ICDD PDF-2 Data Base Card для идентификации различных фаз.
Микротвердость измеряли на микротвердомере ПМТ-3. Нагрузка на алмазную пирамиду составляла 50 и 100 г.
Микроструктура поперечных шлифов образцов исследована на металлографическом микроскопе МЕТАМ РВ-21, укомплектованным цифровой камерой VEC-335 и программным комплексом ImageExpert Pro 3.0 для количественного металлографического анализа.
Результаты и обсуждение
1. Исходные металлические образцы. Рентгенографический анализ образцов показал, что в них независимо от режима электронно-лучевой обработки происходит поверхностная закалка, которая приводит к частичному формированию мартенсита на поверхности глубиной до 50-100 мкм. На рентгенограммах всех образцов присутствовали рефлексы отражений (200) и (002), имеющих интенсивность от 5 до 10% и принадлежащих мартенситу. Параметры тетрагональной элементарной ячейки зависели от режима электронного нагрева, в частности от продолжительности обработки. Наблюдали изменение параметров ячейки от а = 0.2867 нм и с = 2,924 нм (степень тетрагонального искажения с/a = 1,02) до a = 2,868 нм и с = 2,981 нм (c/a = 1,04) при увеличении продолжительности обработки электронным пучком от 90 до 180 с, например, при непрерывной электронно-лучевой обработке.
На рис. 3 представлены микроструктуры образцов стали Ст20, обработанных электронным пучком с оплавлением поверхности. Под тонким оплавленным слоем (5-70 мкм) наблюдали слабо травящийся (в 4% растворе HNO3 в этиловом спирте) переходный слой (рис. 3а), микротвердость которого несколько выше микротвердости основного металла: 175±5 и 160±5 кг/мм2 соответственно. Температура нагрева образцов была не ниже 1100-1200оС, что отразилось на процессах формирования микроструктуры. На рис. 3б и 3в можно видеть перлитные и ферритные составляющие, причем феррит имеет форму ориентированных видманштеттовых пластин, берущих начало от компактных выделений феррита.
Увеличение продолжительности обработки электронным пучком приводило к увеличению размеров зерен и длины ферритных пластин. Видманштеттова структура характеризуется присутствием пластинчатых выделений избыточного феррита. Она обычно появляется в сталях с крупными аустенитными зернами, образовавшимися вследствие сильно замедленной кристаллизации и последующего быстрого охлаждения в интервале А3-Аь Интервал температур А3-Аі (911-727оС) на диаграмме состояния системы Fe-Fe3C соответствует процессу полиморфного превращения аустенита (y-Fe) в феррит (a-Fe) [5]. Аустенит в стали Ст20 образуется при быстром нагревании образцов за счет взаимодействия электронного пучка с поверхностью металла. Весь объем образцов нагревается за счет теплопроводности материала. Зародыши аустенита могут возникать на границе как ферРис. 2. Конструкция установки с электронно-лучевым нагре- рита с цементитом (Fe3C), так и внутри феррито-
в°м: 1 - каг°дная камера; 2 - выс°к°вольтный ввод; 3 - вдку- вого зерна при температурах выше Аі > 727оС. В умный затвор; 4 -вакуумная камера; 5 - вакуумный агрегат ,
АВП-250; 6 -шкаф-стойка; 7 - пу^ьт управления; 8 - крошка изотермических условиях в ферритовом зерне стойки; 9 - блок управления электронным пучком; 10-пульт наблюдается диффузия углерода С, к°т°рая при-оператора; 11 - вакуумметр ВИТ-2; 12 - вакуумный агрегат водит к выделению на границе зерна феррита АВП-160; 13 - rnœc НВПр-40-066; 14 - предохрантетшый цементита, а при полиморфном превращении клапан феррит - аустенит образуется аустенит, для ко-
13
торого характерно высокая растворимость углерода. Скорость роста зерна аустенита контролируется диффузией углерода от границы феррит-цементит к границе феррит - аустенит. Образование аустенита в условиях непрерывного нагрева (электронно-лучевая обработка) может происходить по двум механизмам: кристаллографически упорядоченному и неупорядоченному. Это зависит от исходной структуры и скорости нагрева. При неупорядоченном механизме переход превращения феррита (а-Бе) в аустенит (у-Бе) сопровождается перекристаллизацией, а при упорядоченном - перекристаллизация происходит при высоких температурах выше А3 на 300-350оС (1100-1150оС).
а б в
Рис. 3. Микроструктура образцов из стали Ст20 ^ = 480 Вт) (х350): (а) т = 180 с; (б) т = 90 с; (в) т = 150 с
При повышенных температурах в сталях со структурой аустенита наблюдается рост зерна. Движущей силой этого процесса является стремление снизить поверхностную энергию путем уменьшения протяженности границ зерен, т.е. укрупнение зерна. Склонность стали к росту зерна при нагреве зависит от условий термообработки (рис. 3б и 3в). В зависимости от скорости охлаждения образцов в них могут образовываться и другие фазы, например, мартенсит. Образцы стали Ст20 после обработки электронным пучком в вакууме являются неравновесными, в них фазовые превращения не завершены. Следует отметить, что пластины мартенсита можно была наблюдать в поперечном срезе образцов, обработанных электронным пучком микросекундного действия. Особенно это было характерно для образцов, обработанных в условиях 3-го режима.
2. Диффузионное борирование. Согласно нашим данным, борирование углеродистых сталей при непрерывной электронно-лучевой обработке протекает по диффузионному механизму. Строение бо-ридных слоев зависит от состава борирующего компонента (рис. 6) и отличается от таковых, сформированных при химико-термической обработке (рис. 4).
штшшш
б)
Рис. 4. Микроструктуры слоев, сформированных на стали У 8 А: а) - обмазка на основе В4С; б) - обмазка на основе аморфного бора; х500
а) б)
Рис. 5. Микроструктуры боридных слоев, сформированных ХТО (насыщающая среда В4С+ КВБ4) на сталях: а)- 20; б)- У8А; а) - х250; б) - х500
РФА поверхностных слоев обнаружил присутствие боридов железа Бе2В и БеВ независимо от состава обмазок. Кроме того, на рентгенограммах присутствовали линии разной интенсивности, принадлежащие цементиту Бе3С и ферриту а-Бе. Образование карбоборидных фаз (например, бориро-ванного цементита (Бе3В), а также борированной фазы (Бе23(С,В)6) рентгенографически не зафикси-
ровано. Заметной диффузии атомов бора через сформированный слой не обнаружено. Металлографический анализ боридных покрытий показал ровную границу раздела слой-металл во всех исследованных образцах. Слои удерживались прочно, не откалывались при заметной деформации образцов, не выкрашивались при изготовлении поперечных микрошлифов.
На рис. 4б показана микроструктура боридного слоя толщиной 350-360 мкм, сформированного из бора аморфного на углеродистой стали У8А. Боридный слой состоит из двух фаз, различающихся по цвету и имеющих довольно четкую линию раздела, сложное строение. Бориды имеют различную форму: ромбическую, призматическую, дендритную. На поверхности располагается сплошная светлая пленка с иглами, направленными в глубь образца. Микротвердость ее составляет 1200-1250 кг/мм2. Внутри находятся включения овальной формы с микротвердостью 1750-1820 кг/мм2. Под пленкой располагаются бориды дендритного типа и эвтектика с микротвердостью 840-880 и 500-540 кг/мм2 соответственно. Мы попробовали сформировать боридные слои из насыщающих обмазок, содержащих аморфный бор или карбид бора, при импульсной электронно-лучевой обработке. Поскольку механизм борирования - диффузионный, то, по нашему мнению, формирование боридного слоя не должно зависеть от способов размещения образцов относительно ввода электронного пучка и отвода тепла.
По данным рентгенофазового анализа, во всех исследованных рентгенограммах присутствуют линии, принадлежащие рефлексам отражений, боридам БеВ и Бе2В. Соотношение боридных фаз зависит от состава исходного борирующего компонента (аморфного бора или карбида бора). Особо стоит отметить рентгенограммы образцов, обработанных по третьему режиму в насыщающих смесях на основе карбида бора. Кроме линий, принадлежащих боридам железа, на рентгенограммах присутствуют рефлексы в области углов 2Q от 15 до 20о. Вероятно, эти линии принадлежат бору (в-В РББ 01089-2777 или РББ 01-080-0323). Измерения микротвердости по глубине поперечного среза образца с шагом 30 мкм показали изменение с 1060 до 160 кг/мм2. Внутри слоя находятся включения овальной формы с микротвердостью 1650-1700 кг/мм2. Эвтектика имеет микротвердость 300-340 кг/мм2.
3. Электронно-лучевая наплавка продуктов СВС. Поскольку электронно-лучевая обработка в импульсном режиме протекает при давлении 10"4-10"5 Па, то реакция взаимодействия оксида ТЮ2 с бо-рирующими компонентами (В4С/В) и углеродом должна протекать при более низких температурах, чем при давлении Р=10"2-10"3 Па, т.е. в условиях непрерывной электронно-лучевой обработки [6, 7]. В диапазоне давлений от 10-4 до 10-5 Па снижается температура термического разложения и диссоциации промежуточного оксида бора В2О3, который играет существенную роль в химических превращениях, протекающих при синтезе борида Т1В2. Более того, в присутствии защитного слоя оксида В2О3, который специально вводится при синтезе и формировании слоя на основе борида Т1В2, термодинамически возможно образование свободного бора. Бор, как неконтролируемая примесь, может участвовать в формировании боридного покрытия и присутствовать в виде боридов железа Бе2В или БеВ.
Согласно рентгенофазовому анализу, на рентгенограммах всех образцов присутствуют линии в области 15-20о (2Q), которые, вероятно, связаны с появлением бора (высокотемпературной фазы - Р-В). Особенно заметно в присутствии оксида бора, который использовали в качестве защитного слоя, и в образцах, обработанных по 3-му импульсному режиму. Рентгенографически установлено, что бориды Бе2В и БеВ в слое отсутствуют. На рис. 5 представлены микроструктуры слоев, сформированных по 2-му и 3-му режимам из реакционных обмазок, содержащих ТЮ2, В, С, и под защитой оксида бора В203.
Толщина покрытий достигала 200-370 мкм. Слои повторяют рельеф исходной металлической основы, но при детальном рассмотрении имеют сложное строение эвтектического типа, с включением дендритов и отдельных частичек размером до 10 мкм. Дендриты наиболее строго организованы вблизи поверхности (рис. 8). В формировании покрытия и его кристаллизации большую роль играет отвод тепла. Электронно-лучевая обработка характеризуется высокими скоростями теплоотвода в основной объем материала *104-109 К/с, обеспечивая в материале предельные градиенты температур (до 107-108 К/м).
Это влияние можно продемонстрировать на примере покрытия Т1В2, сформированного при защитном слое оксида по 3-му режиму, в два этапа. На первом - синтез и формирование покрытия (энергия импульса 2-3 Дж/см2), затем дополнительная обработка с энергией в импульсе 18 Дж/см2 (всего их было 3) для оплавления и перемешивания расплавленной зоны вблизи поверхности.
а) б)
Рис. 5. Микроструктура образцов (Ті02-В-С + В203) на Ст20, обработанных по 2 (а) и 3-му (б) режимам
На рис. 7 представлены микроструктуры слоев. Полученная поверхность имеет меньшую шероховатость, чем в предыдущих образцах. Однако слои имеют более сложное строение. Четкая граница раздела металл - слой отсутствует. Более твердые частицы находятся в глубине покрытия на расстоянии до 150 мкм, вплоть до границы (рис. 9).
Измерения микротвердости показали неравномерное распределение ее по толщине слоя (рис. 7). Здесь представлены значения отдельных структурных составляющих в слое. Размеры их: светло-серая область - от 15 до 35 мкм; светлая область - от 10 до 20 мкм; темная область - от 10 до 40 мкм. Микротвердость
Рис. 6. Микроструктура образца (Ті02-В-С) на имеет максимальные значения вблизи поверхности
Ст20, сформированного по 2-му режиму пп л-,пп ,2 / ч
^ ^ ^ ^ ■’ 1200-1300 кг/мм (светло - серая область), светлая и
темная области имеют максимум от 500 до 570 кг/мм2, и наконец, основа - 100-150 кг/мм2. Для сравнения, представим кристаллическое строение слоя на основе ТіВ2, сформированного с использованием электронного пучка непрерывного действия. На рис. 8 представлена микроструктура слоя, сформированного из реакционной смеси Ті02-В-С, и приведены значения микротвердости отдельных фаз и включений.
■ Светло - серая область
Н, мкм Светлая область •
“Темная область •
2
2
Н, мкм
-Светлая область н:нТемная область
а) б)
Рис. 7. Распределение микротвердости в образцах на Ст20 (Ті02-В-С) и (Ті02-В-С + В203), сформированных по 2-му (а) и 3-му (б) режимам
Фазовый состав
HV, кг/мм2
TiB2 28350
включения 2 2375
Ti2Fe 1850
эвтектика 600
a-Fe 290
Рис. 8. Строение и микротвердость слоя на основе TiB2, сформированного из TiB2-B-C при электронно-лучевой обработке непрерывного действия
Таким образом, представленные данные свидетельствуют о решающей роли взаимного расположения электронного пучка относительно поверхности обрабатываемого образца при формировании покрытий на основе боридов переходных металлов. Электронный пучок независимо от способа его формирования (импульсный или непрерывный режим) используется в качестве источника нагрева и инициатора СВС процесса образования тугоплавкого диборида титана. Слои на основе борид TiB2 имеют сложное строение эвтектического типа с дендритными включениями, причем в условиях направленной кристаллизации главная ось линейчатых дендритов ориентирована в направлении отвода тепла.
Литература
1. Смирнягина Н.Н., Сизов И.Г., Семенов А.П. Термодинамическое моделирование процесса синтеза боридов переходных металлов в вакууме // Неорган. материалы. - 2002. - T.138, №1. - C. 48-54.
2. Коваль Н.Н., Щанин П.М, Винтизенко Л.Г., Толкачев В.С. Установка для обработки поверхности металлов электронным пучком // ПТЭ. - 2005. - №1. - С. 135-140
3. Коваль Н.Н., Девятков В.Н., Григорьев С.В., Сочугов Н.Ч. Плазменный источник электронов «Соло» // Плазменная эмиссионная электроника: тр. II междунар. Крейнделевского семинара (г. Улан-Удэ. 17-24 июня 2006 г.). - Улан-Удэ, 2006. - С. 79-85.
4. Григорьев Ю.В., Семенов А.П., Нархинов В.П. и др. Мощная плавильная технологическая печь с электроннолучевым нагревом // Комплексное использование минерального сырья в Забайкалье. - Улан-Удэ, 1992. - С. 139-148.
5. Фазовые и структурные превращения, метастабильные состояния в металлах. - М.: Атомиздат, 1988. - 254 с.
6. Смирнягина Н.Н., Сизов И.Г., Семенов А.П., Ванданов А.Г. Термодинамический анализ синтеза боридов ванадия на поверхности углеродистых сталей в вакууме // Физика и химия обработки материалов. - 2001. - №2. - С. 63-67.
7. Tsyrynzhapov B.B., Smimyagina N.N., Semenov A.P. Synthesis, phase composition and microstructure of TiB2 and ZrB2 layers formed in vacuum under irradiation by power electron beam // Известия вузов. Физика. - 2006. - № 8. - С. 425-429.
Халтаров Зуртан Михайлович, техник, лаборатория электрофизики, отдел физических проблем, Бурятский научный центр СО РАН. 670047, Улан-Удэ, ул. Сахьяновой, 8
Милонов Александр Станиславович, кандидат технических наук, младший научный сотрудник, лаборатория электрофизики, отдел физических проблем, Бурятский научный центр СО РАН. 670047, Улан-Удэ, ул. Сахьяновой, 8
Смирнягина Наталья Назаровна, доктор технических наук, главный научный сотрудник, лаборатория электрофизики, отдел физических проблем, Бурятский научный центр СО РАН. 670047, Улан-Удэ, ул. Сахьяновой, 8, ion-beam@pres.bscnet.ru
Халтанова Валентина Михайлова, кандидат физико-математических наук, доцент, кафедра экспериментальной и теоретической физики, Бурятский госуниверситет. 670000, Улан-Удэ, ул. Смолина, 24а
Khaltarov Zurtan Mikhailovich, technichian, laboratory of electrophysics, department of physical problems, Buryat Scientific Center SB RAS.
Milonov Alexandr Stanislavovich, candidate of engineering, junior researcher, laboratory of electrophysics, department of physical problems, Buryat Scientific Center SB RAS.
Smirnyagina Natalya Nazarovna, doctor of engineering, chief researcher, laboratory of electrophysics, department of physical problems, Buryat Scientific Center SB RAS.
Khaltanova Valentina Mikhailovna, candidate of physics and mathematics, associate professor, department of experimental and theoretical physics, Buryat State University.
