CC BY
98
ОПТИЧЕСКИЕ ХАРАКТЕРИСТИКИ МИКРОЛИНЗ, ПОЛУЧЕННЫХ МЕТОДОМ ЛАЗЕРНО-ИНДУЦИРОВАННОЙ АМОРФИЗАЦИИ СТЕКЛОКЕРАМИК Б.Ю. Новиков Научный руководитель - д.т.н., профессор В.П. Вейко
Продемонстрирована перспективность изготовления оптических микролинз методом лазерно-индуцированной аморфизации стеклокерамического материала. Показано влияние параметров лазерного излучения на оптические характеристики и особенности формируемых микролинз, описаны способы определения фокусного расстояния таких микролинз.
Введение
Тенденция к миниатюризации и усложнению технических устройств требует производства различных микроэлементов. В частности, в системах обработки и передачи информации, в интегральных оптических схемах, в волоконно-оптических устройствах требуются микроэлементы с определенными оптическими и геометрическими параметрами.
Традиционный механический способ не позволяет изготовить оптические элементы размером менее 1 мм. Существующие методы изготовления микрооптики можно разделить на следующие группы:
1) избирательное удаление отдельных участков оптического материала (лазерная абляция [1]; травление пучком частиц [2, 3] и др.) - профиль оптической поверхности задается оператором за счет интенсивности и направления обработки;
2) отпечатывание профиля элемента в восприимчивом оптическом материале [4] (в основном для массивов элементов) - профиль оптической поверхности повторяет профиль штампа (изготовление которого становится отдельной проблемой);
3) локальная модификация материала за счет деформации (например, под влиянием сил поверхностного натяжения [5-7]) или смены фазово-структурного состояния (молекулярная диффузия [8]; фазово-структурная перестройка за счет активации фотохимических реакций [9, 10], при термическом воздействии лазерного излучения [11, 12] и др.) - профиль оптической поверхности формируется под действием физических эффектов, может требоваться измерение параметров сформированного элемента.
К методам третьей группы относится лазерно-индуцированная локальная фазово-структурная модификация стеклокерамических материалов, которая является перспективной технологией формирования микроэлементов. Стеклокерамики обладают двумя фазовыми состояниями, радикально различными по оптическим, механическим, химическим свойствам. Использование лазерного излучения имеет ряд преимуществ перед другими инструментами обработки, а именно локальность и бесконтакность воздействия, высокоэнергетический характер излучения, возможность задания энергетических и геометрических параметров воздействия. Благодаря этим особенностям лазерного излучения модификация стеклокерамик может быть осуществлена локально, за короткий период (1-100 с), за один этап.
Такое направление данной технологии, как локальная фазово-структурная модификация ситалла СТ-50-1, возможная только под действием лазерного излучения, имеет множество практических приложений в области изготовления микрооптики. Локальная аморфизация ситалла СТ-50-1 позволяет получить оптические микроэлементы разных типов, в том числе различные микролинзы. Варьирование характеристик лазерного излучения дает широкий диапазон параметров формируемых элементов, задание определенных условий обработки обеспечивает воспроизводимость изделий. В работе проанализированы оптические характеристики микролинз, полученных данным методом.
В частности, оценено влияние параметров лазерного излучения, описаны методики определения их фокусного расстояния.
Методика формирования микролинз
Ситалл СТ-50-1 представляет собой промышленно выпускаемый материал, характеризующийся большим количеством хаотично расположенных по отношению друг к другу микрокристаллов размером 1-2 мкм и отсутствием пористости. В составе ситалла преобладает БЮ2 - распространенный оптический материал. Однако ситалл непрозрачен в видимом и ближнем ИК диапазоне за счет сильного рассеяния на границах микрокристаллов, размер которых эквивалентен этим длинам волн [13].
Под действием высокоэнергетического лазерного излучения локальная область ситалла может быть нагрета до температуры плавления (1473 К), тогда все упорядоченные связи между атомами исчезают, и ситалл просветляется. При этом модифицированная область занимает весьма малый участок по сравнению с объемом всей заготовки, что позволяет сохранить аморфное состояния материала за счет особенностей остывания ванны расплава. Теплопроводность в твердом теле является значительно более эффективным механизмом охлаждения, чем естественное воздушное охлаждение или водяное (жидкостное) охлаждение. После прекращения лазерного воздействия за счет теплоотвода в окружающие участки исходного материала модифицированная область ситалла охлаждается до температуры стеклования (1033 К) настолько быстро (50-100 К/с), что атомы не успевают перегруппироваться в упорядоченную структуру и высокотемпературное аморфное состояние «замораживается» [13-18].
Первоначальная кристаллическая структура обладает более высокой удельной плотностью по сравнению с аморфной структурой, поэтому объем материала в лазерно-модифицированной зоне увеличивается. За счет влияния сил поверхностного натяжения образуется линзообразная форма поверхности аморфизированной области [14, 17, 18].
Н1
Ь Н2
¿раст2
Рис. 1. Схематическое изображение поперечного среза локальной лазерно-аморфизированной области на пластине ситалла СТ-50-1, где г - радиус аморфизированной области (г1 может быть больше г2), Ь раст - размер области растекания расплава по поверхности пластины, Н - стрелка прогиба, 1_ - толщина пластины. Стрелкой показана сторона, с которой производилось воздействие
лазерного излучения
Таким образом, под действием лазерного излучения в непрозрачном исходном си-талле может быть сформирована оптически прозрачная область с линзообразной поверхностью. При сквозной аморфизации тонких плоскопараллельных пластин могут быть сформированы двояковыпуклые микролинзы [13, 14, 17, 18-20] (рис. 1), получение которых возможно только с использованием данного метода. Данный метод также
может быть использован для формирования геодезических микролинз [13, 14] и линз с различной формой зрачка (при использовании маски) [13, 14, 17]. Сканирование лазерного луча по поверхности ситалла позволяет получить просветленные каналы и цилиндрические линзы [13, 14, 17, 18]. Воздействие лазерного излучения на вращающуюся заготовку ситалла позволяет формировать аморфизированные области с геометрическими профилями поверхностей, соответствующих рассеивающим линзам, линзам, обладающим кольцевым фокусом, с асферическими выпуклостями (например, параболическими) [13].
Влияние параметров лазерного излучения
Форма оптических поверхностей микролинз определяет их фокусное расстояние, размер микролинзы (окруженной непрозрачным исходным ситаллом) - размер области пропускания. Эти геометрические параметры могут варьироваться при лазерно-индуцированном формировании микролинз.
На геометрические параметры аморфизованных областей ситалла СТ-50-1 оказывают влияние следующие параметры лазерного излучения:
• длина волны излучения выбранного лазера;
• плотность мощности излучения;
• размер и форма поперечного сечения пучка излучения в плоскости обработки;
• время воздействия.
В настоящее время локальная аморфизация ситалла СТ-50-1 исследована при использовании излучений С02-лазера (10,6 мкм) [13-21] и УЛО:Кё-лазера (1,06 мкм) [22, 23]. Разные механизмы взаимодействия излучений этих лазеров с различными фазами ситалла СТ-50-1 влияют на протекание процесса модификации и обусловливают получение аморфизированных областей с различными геометрическими параметрами. На рис. 2 приведена кинетика (на начальном этапе модификации) диаметра и глубины аморфизованных областей от времени при одинаковых условиях воздействия излучений СО2- и УЛО:Кё-лазеров. Были приложены эквивалентные поглощенные плотности мощности излучений q, определенные из соотношения: #С02АС02^С02 = #уЛо:шАуЛо:ш^¥Ло:ш, где А - коэффициент отражения, ё - глубина проникновения излучения. Тогда при Асо2 = 0,9; Ауло:Ш = 0,5; ёсо2 = 1,25 мкм; ёуЛО:Ш = 105 мкм [13, 15, 17] имеем qC02 = 107 Вт/м2 и qYЛG:Nd = 18-107 Вт/м2. Размер поперечных сечений пучков излучений в плоскости обработки составлял 1,5 мм, для предотвращения терморазрушений (из-за высоких температурных градиентов) производился дополнительный подогрев до температуры ~ 850 К. Различия в кинетике роста аморфизированных областей под действием рассматриваемых излучений очевидны.
аб Рис. 2. Качественный ход зависимостей диаметра (а) и глубины (б) аморфизованной области (на начальном этапе модификации) от времени при одинаковых условиях воздействия излучений СО2- и УЛО^-лазеров
Излучение СО2-лазера поглощается в поверхностном слое ситалла СТ-50-1 (1,25 мкм [13]), поэтому расплавление материала в этом случае происходит исключительно за счет теплопроводности. Изотерма плавления движется (т.е. области аморфи-зации развиваются) одинаково по всем направлениям.
Под действием излучения УЛО:Кё-лазера сообщение материалу энергии, необходимой для нагрева до температуры плавления, происходит за счет остаточного поглощения при многократном отражении излучения от границ микрокристаллов. Аморфная фаза (расплав) свободно пропускает излучение данной длины волны. Взаимодействие излучения УЛО:Кё-лазера с ситаллом происходит на границе поликристаллического материала в основном по ходу луча. Такое смещение зоны поглощения (и изотермы плавления) преимущественно вглубь материала под действием излучения УЛО:Кё-лазера позволяет формировать аморфизированные области без ограничений их геометрических параметров.
Стрелки прогиба могут уменьшаться при превышении некоторых значений плотности мощности излучения и времени воздействия за счет постепенного растекания расплава по поверхности пластины.
Размер аморфизированной области прямо пропорционально зависит от времени воздействия, размера пучка и плотности мощности излучения. Это объясняется тем, что данные параметры эквивалентны общему количеству сообщенной материалу энергии. По сравнению с теплопроводностным характером взаимодействия излучения СО2-лазера с ситаллом СТ-50-1, при поэтапном просветлении ситалла под действием излучения УЛО:Кё-лазера эти параметры оказывают менее интенсивное влияние. Поглощение в расплаве на длине волны излучения УЛО:Кё-лазера мало, следовательно, сформированная ванна расплава под действием данного излучения перестает нагреваться, и теплоотвод в прилегающие боковые зоны ситалла будет недостаточен для достижения плавления.
Отметим, что прекращение нагрева и остывание ванны расплава под действием излучения УЛО:Кё-лазера также может приводить к ухудшению оптического качества формируемых микроэлементов из-за разделения фаз, формирования вторичных кристаллических структур, возникновения градиента показателя преломления.
Оптические характеристики микролинз
Полученные под действием лазерного излучения аморфизированные области си-талла СТ-50-1 обладают пропусканием в видимом и ближнем инфракрасном диапазоне
Рис. 3. Спектр пропускания в аморфизированной области ситалла СТ-50-1 толщиной
0,3 мм [20]
Наши исследования показали независимость величины пропускания аморфизиро-ванных областей данного ситалла от условий их лазерно-индуцированного формирова-
ния: длины волны (применялись излучения СО2- и УЛО:Кё-лазеров), плотности мощности, диаметра пучка лазерного излучения, времени воздействия. Можно сказать, что все остальные физико-химические свойства аморфизированных областей (т.е. свойства самой аморфной фазы) также будут одинаковы вне зависимости от характеристик используемого лазерного излучения.
Идентичность изображений, снятых при помощи растра двояковыпуклых микролинз (рис. 4), показывает высокие информационные характеристики линз и подтверждает воспроизводимость, обеспечиваемую описанным методом.
^ц
а б в
Рис. 4. Растр двояковыпуклых микролинз, полученный в пластине ситалла СТ-50-1 методом лазерно-индуцированной локальной аморфизации (а), и изображения объектов, снятых с его помощью (б, в). Фокусное расстояние микролинз « 21 мм. Параметры режима обработки: плотность мощности излучения СО2-лазера « 2106 Вт/м2; перед облучением используется дополнительный подогрев до температуры 1000 К. Толщина пластин ситалла 0,6 мм [14]
В наших экспериментах при определенных условиях освещения в аморфизован-ных областях ситалла СТ-50-1 наблюдался градиент показателя преломления, который может возникнуть под действием излучения УЛО:Кё-лазера (рис. 5). Отметим, что в аморфизованных областях ситалла, сформированных под действием излучения СО2-лазера, подобной оптической неоднородности аморфной фазы не обнаружено.
0,5 мм
Рис. 5. Градиент показателя преломления (граница зон с разными показателями преломления отмечена пунктиром) аморфизованной области ситалла СТ-50-1, сформированной под действием излучения УЛо^-лазера. Фотография поперечного шлифа аморфизованной области на пластине. Стрелкой показана сторона, с которой производилось воздействие излучения УЛО^-лазера
Наличие градиента показателя преломления как в радиальном, так и осевом направлениях может быть объяснено, исходя из особенностей формирования аморфизо-ванных областей ситалла СТ-50-1 под действием излучения УЛО:Кё-лазера. Аморфизо-ванная область формируется послойно, температура каждого слоя ненамного превышает температуру плавления. Вероятно, при сквозном просветлении пластины ситалла уменьшается нагрев той части ванны расплава, которая противоположна воздействию лазерного излучения. Разные участки аморфной области подвергаются различному отжигу. Эксперименты показывают, что максимальный градиент показателя преломления возникает в слое, граничащем с той поверхностью пластины, с которой производилось воздействие лазерного излучения при формировании микролинзы, а минимальный - в слое, граничащем с противоположной поверхностью пластины. Наличие градиента показателя преломления оказывает некоторое влияние на фокусное расстояние микролинз.
Определение фокусного расстояния микролинз очень важно для их практического применения. Как уже говорилось, оптическая сила микролинз определяется кривизной их оптических поверхностей, форма которых определяется поведением расплава. Поведение расплава, помимо действия сил поверхностного натяжения, обуславливается размером ванны расплава (который, в свою очередь, зависит от параметров лазерного излучения: диаметра пучка и плотности мощности излучения, времени облучения материала).
В [20] предложен метод определения фокусных расстояний двояковыпуклых микролинз, исходя из размера аморфизированной области и отношения плотностей исходного материала ро и аморфной фазы р. Для простоты рассуждений принимались следующие допущения: (1) форма свободной поверхности расплава в поле силы тяжести мало отличается от сферической; (2) аморфизированная область имеет цилиндрическую форму радиуса г; (3) вследствие быстрого затвердевания расплава р = рр, где рр -плотность расплава. Тогда из условия сохранения энергии при изменении величины площади свободной поверхности расплава под действием силы тяжести фокусное расстояние линзы приближенно может быть определено из соотношения:
п0 - показатель преломления аморфной фазы ситалла СТ-50-1 (п0 = 1,585 [20]), ё - толщина пластины; g - гравитационная постоянная; а - коэффициент поверхностного натяжения расплава.
Аналогичный способ определения фокусных расстояний микролинз, основанный на законах сохранения, предложен в [13, 14]. Радиусы кривизны поверхностей Я1 и Я2 микролинзы вычисляются, исходя из уравнения баланса сил, действующих на облученную зону во время лазерного воздействия,
Определение фокусного расстояния микролинз
^ =
г2 + (к - И')2 г2 + (к + И')2
4 (п0 - 1)(г2 + к2)к
где
с7& mg = с7&2
="К"
и уравнения сохранения масс
таморф ткрист т;
где т - масса расплава, равная массе аморфной фазы таморф, полученной при модификации, и массе исходной кристаллической фазы ткрист, подвергшейся модификации; & и &2 - площади верхней и нижней расплавленных поверхностей. Алгоритм нахождения К1 и К2 из приведенных соотношений подробно разобран в [13].
Автором также были проведены исследования по определению фокусного расстояния двояковыпуклых микролинз, которые были экспериментально сформированы на пластине ситалла СТ-50-1 под действием лазерного излучения. Как и в других методиках, было допущено, что геометрический профиль поверхности сформированной линзы близок к сферическому. При помощи методов микроскопии было проведено измерение таких параметров микролинзы, как стрелка прогиба Н и размер области растекания расплава по поверхности пластины ёраст (ёраст может быть больше 2г, см. рис. 1). Значения К1 и К2 определялись по формуле, полученной на основе геометрических соотношений:
ё2 + 4Н2
Т-х _ раст
К--.
8Н
Для расчета фокусного расстояния микролинз /'расч по известным К1 и К2 можно использовать известное выражение (в [4] данное выражение упрощено):
1
• = (W
(1 1 ^
(п0 - ni)2
, --------- + 7
J ра
где п1 - показатель преломления окружающей среды (воздух, п1 = 1), Z - толщина микролинзы. В нашем случае Z = L + H1 + H2, где L = 0,6 мм - толщина пластины. Способ определения фокусных расстояний плосковыпуклых микролинз методом расчета на основании геометрических параметров также был предложен в [24].
Также автором были выполнены измерения фокальных отрезков тех же микролинз по методике, описанной в [25], установка для проведения измерений показана на рис. 6. Для удобства визуального наблюдения измерительный пучок излучения He-Ne лазера (1) пропускается через ослабитель (2). Пройдя через микролинзу (4), измерительный пучок фокусируется на подвижный просвечивающий экран (5), который может перемещаться вдоль оптической оси. Расстояние между задней поверхностью микролинзы (4) и экраном (5), при котором диаметр поперечного сечения пятна излучения будет минимален, будет являться фокальным отрезком. Скрепленный с экраном (5) микрометр (6) позволяет определить величину перемещения экрана. Недостатком данного метода является визуальное определение момента фокусировки, но это облегчается тем, что фотокамера (7) делает снимки на каждом шаге экрана. Этот способ измерения фокальных отрезков микролинз также позволяет одновременно определить диаметр dU3M поперечного сечения пучка излучения, прошедшего через микролинзу (4), на любом расстоянии от нее до экрана (5).
Измерения фокальных отрезков проводились при следующих условиях:
а) измерительный пучок сфокусирован посредством вспомогательной линзы (3) в пятно размером 0,35 мм и проходит через микролинзу (4) без потерь (Sfo);
б) несфокусированный измерительный пучок диафрагмировался на исходной непрозрачной фазе ситалла СТ-50-1 при вводе с разных сторон микролинзы (SF1 и SF2).
двояковыпуклых микролинз
Расчетные и измеренные параметры микролинз приведены в табл. 1 и 2. Для полноты картины здесь также приведены диаметры поперечного сечения пучка излучения в фокальной плоскости ^изм0, ^изм 1 и $изМ2, которые соответствуют измеренным и
£га, и размер микролинзы на просвет (т.е. наименьший диаметр аморфной области в осевом направлении) Б (Б = 2г2, см. рис. 1).
№ п/п /' ± ^ расч ± А /' , расч мм ± ± 0,5, мм ± ± 0,5, мм ± ± 0,5, мм Б ± ± 0,05, мм ^изм0 ± ± 0,17, мм ^изм1 ± ± 0,17, мм ^иззм! ± ± 0,17, мм
1 4,8 ± 0,3 4 5 5 0,56 0,27 0,25 0,29
2 5,4 ± 0,5 4 7 10 0,7 0,31 0,28 0,31
3 6,6 ±0,6 5 7 6 0,7 0,33 0,26 0,27
4 7,9 ± 0,8 6 8 6 0,61 0,34 0,29 0,35
5 8,5 ± 0,8 7 9 7 0,85 0,33 0,34 0,43
6 10,6 ± 1,1 6 11 11 0,85 0,3 0,28 0,28
Таблица 1. Параметры микролинз, сформированных под действием излучения
УДО:1\1С-лазера
№ п/п /' ± ^ расч ± А /' , расч мм ± 5, со- ^ * ± ± 0,25, мм / ± ^ изм1 ± А /изм1 , мм /изм2 ± ± А /изм2 , мм Б ± ± 0,05, мм dизм1 ± ± 0,17, мм <^изм2 ± ± 0,17, мм
1 4 ± 0,1 3,5 3,5 3,7 ± 0,1 3,7 ± 0,1 0,94 0,31 0,22
2 4,3 ± 0,2 3,5 3,5 3,6 ± 0,1 3,6 ± 0,1 1,13 0,29 0,17
3 14,7 ±1,1 14,5 14 14,6 ± 0,8 14,1 ± 0,8 0,66 0,24 0,22
Таблица 2. Параметры микролинз, сформированных под действием излучения
СО2-лазера
Для микролинз, сформированных под действием излучения YAG:Nd-лазера, существенное расхождение и может быть объяснено наличием градиента показателя преломления. В этом случае анизотропность аморфной области заранее обуславливает неточность расчета /асч и не допускает возможности на основе измерения корректно определить фокусные расстояния /'м микролинз.
Для микролинз, сформированных под действием излучения СО2-лазера, определение /'зм производилось на основе известного соотношения:
(п-1)
SF= f '
i—
nR
Отдельные незначительные расхождения SF1 и SF2 могут объясняться конусообразной формой аморфизированной области, обусловленной механизмом взаимодействия излучений данного лазера с ситаллом. Некоторые незначительные расхождения /расч и f'3M,
вероятно, связаны с погрешностями использованных методов измерения. В [26] говорится о незначительном микрорельефе, возникающем на границах области лазерно-индуцированной модификации силикатного материала. Наличие такого микрорельефа может оказывать влияние на поведение расплава, тогда для наиболее точного определения профиля поверхности микролинз лучше применять не методы микроскопии, а получать профилограммы.
Заключение
Лазерно-индуцированная локальная аморфизация ситалла СТ-50-1 является перспективным методом для формирования разных типов оптических микроэлементов. Такие микроэлементы обладают пропусканием в оптическом диапазоне, их геометрические параметры (некоторые из которых определяют оптическую силу микролинз) могут варьироваться за счет задания характеристик лазерного излучения. Данный метод показывает высокую воспроизводимость.
Может быть предложено несколько способов определения фокусного расстояния микролинз, сформированных данным методом. Показано, что существенный вклад в фокусное расстояние микролинз вносит наличие градиента показателя преломления, который может возникать при использовании излучения УЛО:Кё-лазера.
Задание определенных условий обработки позволит формировать оптические микроэлементы с заданными параметрами.
Литература
1. K. Naessens, H. Ottevaere, R. Baets, P. Van Daele, H. Thienpont. Direct writing of mi-crolenses in polycarbonate with eximer laser ablation // Appl. Opt. - 2003. - Vol. 42, № 31. - P. 6349-6359.
2. ME. Motamedi, W.H. Southwell, R.J. Anderson, L.G. Hale, W.J. Gunning. High speed binary optic microlens array in GaAs // Proc. SPIE. - 1991. - Vol. 1544. - P. 33-44.
3. T. Werner, J. A. Cox, S. Swanson. Microlens array for staring infrared imager // Proc. SPIE. - 1991. - Vol. 1544. - P. 46-52.
4. U. Teubner. Micro-optical components and systems in polymers for optical networks and sensors // Proc. SPIE. - 2004. - Vol. 5454. - P. 31-40.
5. T. Yamabe, H. Murotani, K. Nakamoto, M. Wakaki. Composition change of glass materials in microlens formed by CO2 laser //J. Laser Micro/Nanoeng. - 2007. - Vol. 2, № 1. - Р. 40-43.
6. Вейко В.П., Вознесенский Н.Б., Вознесенская Н.Н., Пашин В.Ф., Петров А.А. Гибридные оптические схемы: исследование проблемы оптических межсоединений на основе классического подхода // Изв. вузов. Приборостр-е. - 2004. - Т. 47, № 10. - С. 5-14.
7. Вейко В.П., Kieu K., Rho S. Лазерное изготовление оптических микролинз и микросфер //Изв. вузов. Приборостр-е. - 2004. - Т. 47, № 10. - С. 30-35.
8. B. Volckaerts, P. Vynck, M. Vervaeke, al. Basic aspects of deep lithography with particles for the fabrication of micro-optical and micro-mechanical structures // Proc. SPIE. - 2004. - Vol. 5454. - P. 52-63.
9. Y. Cheng, K. Sugioka, K. Midorikawa. Freestanding optical fibers fabricated in a glass chip using femtosecond laser micromachining for lab-on-a-chip application // Opt. Exp. -2005. -V. 13, № 18. - Р. 7225-7232.
10. Yongkang Guo, Qinjun Peng, Jianhua Zhu, Yangsu Zeng, Shijie Liu. Micro optical elements made of silver-halide sensitized gelatin etched by enzyme with real-time mask // Proc. SPIE. - 2002. - Vol. 4924. - P. 69-75.
11. O. Chibulka, V. Chab. Phase transformations in CDZnTe crystals induced by nanosecond laser irradiation // Proc. SPIE. - 2006. - Vol. 6161. - P. 61610B-1-61610B-8.
12. Петров Д.В., Яковлев Е.Б., Костюк Г.К, Вейко В.П., Антропова Т.В. Исследование условий формирования областей с измененным показателем преломления на поверхности пластин пористого стекла излучением СО2-лазера //Изв. вузов. Прибо-ростр-е. - 2004. - Т. 47, № 10. - С. 26-29.
13. Скиба П. А. Лазерная модификация стекловидных материалов. - Минск: БГУ, 1999. - 131 с.
14. Вейко В.П., Киеу К.К. Лазерная аморфизация стеклокерамик: основные закономерности и новые возможности изготовления микрооптических элементов //Квант. эл-ка. - 2007. - Т. 37, № 1. - С. 92-98.
15. Вейко В.П., Никоноров Н.В., Скиба П.А. Фазово-структурная модификация стеклокерамики, индуцированная лазерным излучением // Опт. журнал. - 2006. - Т. 73, № 6. - С. 64-70.
16. Veiko V.P., Kieu Q.K, Nikonorov N.V., Skiba P.A. On the reversibility of laser-induced phase-structure modification of glass-ceramics // J. Laser Micro/Nanoeng. - 2006. - V. 1, № 2. - P. 149-154.
17. Veiko V.P., Kieu Q.K., Nikonorov N.V. Laser modification of glass-ceramics structure and properties: a new view to traditional materials // Proc. SPIE. - 2004. - V. 5662. -Р. 119-128.
18. Skiba P.A., Volkov V.P., Predko K.G., Veiko V.P. Laser-stimulated ^al change of glass-ceramic optical properties //Opt. Eng. - 1994. - Vol. 33, № 11. - P. 3572-3577.
19. Скиба П.А., Каранчук Д.Я. Оптимизация процессов лазерного формирования оптических элементов на основе стеклокерамики // Изв. вузов. Приборостр-е. - 2004. -Т. 47, № 10. - С. 14-20.
20. Скиба А.П., Волков В.П., Сечко А.Г., Непокойчицкий А.Г., Емельянов А.В., Бонда-ренко А.В. Оптические элементы, полученные методом аморфизации ситаллов //Опт.-мех. пром-ть. - 1991. - № 9. - C. 59-62.
21. Q.K. Kieu, B.Yu. Novikov, E.A. Shakhno, E.B. Yakovlev. Physical mechanisms of fast structure modification of glass-ceramics under CO2-laser action // Proc. SPIE. - 2007. -V. 6458. - Опубликовано online на сайте «SPIE.org». Режим доступа: http://spie.org/x10.xml, платный.
22. Вейко В.П., Новиков Б.Ю., Шахно Е.А., Яковлев Е.Б. Нелинейное просветление ситалла излучением YAG:Nd-лазера // Изв. вузов. Приборостр-е. - 2007. - Т. 50, № 7. - С. 14-19.
23. Новиков Б.Ю. Формирование микролинз методом аморфизации стеклокерамики при использовании YAGNd-лазера // Изв. РАН. Серия физ. - 2006. - Т. 70, № 9. -С. 1323-1326.
24. Ph. Nussbaumy, R. Volkel, H.P. Herzig, M. Eisner, S. Haselbeck. Design, fabrication and testing of microlens arrays for sensors and microsystems // Pure Appl. Opt. - 1997. -№ 6. - Р. 617-636.
25. Гвоздева Н.П., Коркина К.И. Прикладная оптика и оптические измерения (учебник для техникумов). - М.: Машиностроение, 1976. - 383 с.
26. Макин В.С., Пестов Ю.И. Особенности рельефа, формируемого на поверхности кварцевого стекла под действием движущего луча непрерывного CO2-лазера // Опт. журнал. - 2005. - Т. 72, № 11. - С. 78-81.
