Очищение поверхности детали в плазме объемного разряда между разными электродами Текст научной статьи по специальности «Нанотехнологии»

МЕЖДУНАРОДНЫЙ НАУЧНЫЙ ЖУРНАЛ «СИМВОЛ НАУКИ» №4/2016 ISSN 2410-700Х

определении тонкой структуры. При учете кинематической части квазипотенциала УЫп поправка к тонкому сдвигу определяется следующим образом:

AE = (<РС \ЬУ1г + Уш + АУ2у + ГА Vly + ViJF(A VXy + Уш)\çc) =

7/1 IV • (12)

= AE2 +(çc \AVlyF Vkin + V^F A V^|çe)

Анализ показывает, что слагаемое, пропорциональное ß 1, из выражения (11) компенсируется выражением, содержащим кинематическую часть квазипотенциала.

Заключение

Исследование величины тонкого сдвига с точностью до пятого порядка по константе а было проведено на основе двух вариантов определения квазипотенциала. В первом случае возникает необходимость введения нефизического параметра Л и низко- и высокочастотные области исследовались отдельно друг от друга. Во втором способе используются естественные параметры - полная энергия и относительные импульсы - характеризующие систему двух частиц. Теория связанных состояний частиц в этом случае зависит только от целочисленных степеней а . В то же время полная энергия E Ф mY + m2 и импульсы взаимодействующих частиц отличны от нуля. Учитывая это при описании связанных состояний, наряду с целочисленными по а поправками получаем логарифмические. Однако, часть логарифмических поправок может компенсироваться при суммировании, а часть входить в конечные результаты.

Разработанный ранее способ устранения инфракрасных особенностей введением параметра обрезания позволяет решать поставленные задачи только с точностью а5. Следовательно, для повышения точности теоретических результатов [7, 127] необходим учет точной зависимости амплитуды рассеяния от энергии и импульсов взаимодействующих частиц.

Список использованной литературы

1. P.J. Mohr, B.N. Taylor, D.V. Newell //Review of modern physic. 2008, Vol.80, p.633-730.

2. 3. Л.И. Меньшиков, Р. Ландау //Физика элементарных частиц и атомного ядра. 2003, Т.173, №3, с.233-263.

3. M. Eides, H. Grotch, V.A. Shelyuto //Physical reports. 2001. Vol.342. р.63-261.

4. С.Г. Каршенбойм //Успехи физических наук. 2008, Т.178, №10, с.1057-1064.

5. О.А. Бойкова, Ю.Н. Тюхтяев //Известия Саратовского университета. 2011, Т.11, вып.1, с.31-37.

6. Н.Е. Нюнько, Ю.Н. Тюхтяев, Р.Н. Фаустов //Теоретическая и математическая физика. 1973, 16с.

7. Н.А. Бойкова, О.А. Бойкова, С.В. Клещевская, Ю.Н. Тюхтяев //Теоретическая физика. 2007, Т.8, с.124-129.

© Бойкова Н А, 2016

УДК 533

Валиев Марат Рафилович

аспирант Валиев Ранис Рафилович

Студент 3 курса Научный руководитель: Шакиров Ю.И. к.т.н., доцент кафедры «Электроэнергетика и Электротехника» Отделение информационных технологий и энергетических систем

Набережночелнинский институт КФУ г. Набережные Челны, Российская федерация

ОЧИЩЕНИЕ ПОВЕРХНОСТИ ДЕТАЛИ В ПЛАЗМЕ ОБЪЕМНОГО РАЗРЯДА МЕЖДУ РАЗНЫМИ

ЭЛЕКТРОДАМИ

Очистка поверхности, уменьшение шероховатости поверхности, снятие заусенцев с поверхности

_МЕЖДУНАРОДНЫЙ НАУЧНЫЙ ЖУРНАЛ «СИМВОЛ НАУКИ» №4/2016 ISSN 2410-700Х_

деталей является важным технологическим процессом многих производств промышленности. Технологии, связанные с этими процессами, экономять энергию, реагенты, сырье, время, а также повышают производительность труда и качество изготавливаемых деталей. Большой интерес вызывают процессы в неравновесной газоразрядной плазме. В такой плазме температура атомов и молекул близка к температуре окружающей среды, в то время, как электроны обладают энергией, достаточной для возбуждения, диссоциации и ионизации атомов и молекул.

При использовании плазмы такого вида повышается эффективность многих технологических процессов, такие как осаждение полимерных и неорганических пленок.

Для оптимизации процесса очистки и снятие заусенцев в лабораторных целях используется экспериментальная плазменная электротермическая установка с жидким электродом [1, С.161., 2, С.131-138.], показанная на рисунке 1. Ванна изготовлена из медных пластин и имеет рубашку охлаждения. Она заполняется электролитом различной концентрации, необходимой для исследования. Ванна соединена с одной из клемм источника питания. Верхний твердый электрод присоединяется к другой клемме источника. Этот электрод установлен на координатном устройстве и позволяет регулировать межэлектродное расстояние. В качестве электролита используются NaCl, CuSÜ4. В основном используются электролиты с 3% и 5% концентрацией.

Экспериментальная установка предназначена для исследования электрического разряда в диапазоне параметров Up =0,3 - 3000В, токов 1=0,01-200А, j =0,1 - 25А/см, межэлектродных расстояний l = 0,1 - 100мм [3 С.36-38.]. Система охлаждения установки служит для охлаждения электролита. Она питается из магистральной водопроводной сети, а подача электролита осуществляется из специального бака.

Рисунок 1 - Функциональная схема экспериментальной установки

1 - электролитная ванна; 2 - рубашка водяного охлаждения; 3 - барботер;

4 - электролит; 5 - деталь; 6 - воздушный компрессор; 7 - фильтр; 8, 9, 11 - запорная арматура; 10 -насос; 12 - бак с теплообменником; 13-вытяжной зонт;

14 - вытяжной вентилятор; 15 - источник питания; 16 - координатное устройство; 17-термометр; 18-

_МЕЖДУНАРОДНЫЙ НАУЧНЫЙ ЖУРНАЛ «СИМВОЛ НАУКИ» №4/2016 ISSN 2410-700Х_

токопровод; 19 - обратный клапан.

При использовании данной экспериментальной установки были выявлены следующие факторы которые влияют на качество обработки деталей плазмой. Величина рН влияет на анодную плотность тока ja и на шероховатость поверхности Ra. Плотность же анодного тока влияет и на качество обработки, и на продолжительность обработки. Также на качество обработанной поверхности влияет температура электролита. Исследования показали, что с увеличением температуры электролита уменьшается производительность процесса. Время для достижения нужного (требуемого) качества обработки поверхности составляет около 20 - 35 секунд.

Для обработки деталей необходим источник питания выпрямленным напряжением U = 400 - 550 В мощностью до 100 кВт. Величина напряжения разряда практически не влияет на параметры качества поверхности и на скорость очистки деталей. В процессе анализа установлены режимы, при которых производительность снятия заусенцев повышается в 2 - 2,5 раза по сравнению с электроэрозионным способом.

Список использованной литературы:

1. Гайсин Ф.М., Шакиров Ю.И., Хакимов Р.Г. Исследование разряда между твердым и жидким электродами // тезисы докл. Респуб. научнотехнической конф. (Наб. Челны, 1990г.). - С.161.

2. Валиев Р.И., Шакиров Ю.И., Ильин В.И., Шакиров Б.Ю. Система управления процессом обработки поверхности изделий плазменной электротермической установкой с жидким электродом // Научно -технический вестник Поволжья. - 2012. - №1. - С.131-138.

3. Шакиров Ю.И., Валиев Р.И., Хафизов А.А., Шакирова Г.Ю. Многоканальная плазменная установка с электролитическим катодом // Автомобильная промышленность. - 2011. - №2. - С.36-38.

© Валиев М.Р., Валиев Р.Р., 2016

УДК 532.546

Лысенко Дарья Владимировна

студент Стерлитамакского филиала БашГУ

г. Стерлитамак, РФ Дмитриев Владислав Леонидович к.ф.-м.н., доцент Стерлитамакского филиала БашГУ

г. Стерлитамак, РФ E-mail: [email protected]

ДИНАМИКА АКУСТИЧЕСКИХ ВОЛН В НАСЫЩЕННОЙ ЖИДКОСТЬЮ ПОРИСТОЙ СРЕДЕ

Аннотация

В работе исследован процесс распространения акустических волн во влажных насыщенных газом пористых средах в двухскоростном приближении. Получено дисперсионное соотношение, учитывающее межфазные силы взаимодействия и теплообмен между скелетом пористой среды, жидкостью и газом

Ключевые слова Динамика акустических волн, насыщенная жидкость, пористая среда.

Рассмотрим пористую среду, материал скелета которой полностью смачивается водой (стенки пор покрыты тонкой водной пленкой) и насыщен газом. Запишем макроскопические линеаризованные уравнения массы для скелета пористой среды, водной пленки и газа в порах в двухскоростном приближении:

др ди, — + Р, 0 — = 0, dt 30 дх