Научная статья на тему 'НЕКОТОРЫЕ ОСОБЕННОСТИ АНОДНОГО ПОВЕДЕНИЯ CO2SI-ЭЛЕКТРОДА В РАСТВОРЕ СЕРНОЙ КИСЛОТЫ'

НЕКОТОРЫЕ ОСОБЕННОСТИ АНОДНОГО ПОВЕДЕНИЯ CO2SI-ЭЛЕКТРОДА В РАСТВОРЕ СЕРНОЙ КИСЛОТЫ Текст научной статьи по специальности «Химические науки»

CC BY
35
7
i Надоели баннеры? Вы всегда можете отключить рекламу.
Ключевые слова
СИЛИЦИД ТОБАЛЬТА / АТОДНЫЙ OКСИД / РOСТ OКСИДA / ИМПЕДАНС / COBALT SILICIDE / ANODIC OXIDE / OXIDE GROWTH / IMPEDANCE

Аннотация научной статьи по химическим наукам, автор научной работы — Кичигин В.И., Шеин А.Б.

Изучено влияние условий формирования анодного оксида на электрохимическое поведение CoSi-электрода в 0,5 M H2SO4. Показано, что если переход Co2Si в пассивную область осуществляется без задержки в области активного растворения, то скорость пассивного растворения Co2Si лишь ненамного превышает скорость растворения CoSi2. По кривым спада тока при E = const сделан вывод, что в середине пассивной области оксидная пленка на Co2Si растет по закону, близкому к логарифмическому. Проанализированы спектры импеданса, полученные при измерениях от различных начальных потенциалов электрода.

i Надоели баннеры? Вы всегда можете отключить рекламу.
iНе можете найти то, что вам нужно? Попробуйте сервис подбора литературы.
i Надоели баннеры? Вы всегда можете отключить рекламу.

SOME PECULIARITIES OF THE ANODIC BEHAVIOR OF CO2SI ELECTRODE IN SULFURIC ACID SOLUTION

The effect of anodic film formation conditions on the electrochemical behavior of Co2Si electrode in 0.5 M H2SO4 has been studied. It was shown that the rate of passive dissolution of Co2Si is only moderately greater than that of CoSi2 provided the Co2Si electrode passes through the active dissolution region very quickly. From the current decay curves at E = const, it was deduced that in the middle part of the passive region the oxide film on Co2Si grows according to near logarithmic law. Impedance spectra obtained in measurements at different initial electrode potentials were analyzed.

Текст научной работы на тему «НЕКОТОРЫЕ ОСОБЕННОСТИ АНОДНОГО ПОВЕДЕНИЯ CO2SI-ЭЛЕКТРОДА В РАСТВОРЕ СЕРНОЙ КИСЛОТЫ»

ВЕСТНИК ПЕРМСКОГО УНИВЕРСИТЕТА

Том 10 Химия Вып. 2

УДК 541.138.2

DOI: 10.17072/2223-1838-2020-2-212-220

В.И. Кичигин, А.Б. Шеин

Пермский государственный национальный исследовательский университет, Пермь, Россия

НЕКОТОРЫЕ ОСОБЕННОСТИ АНОДНОГО ПОВЕДЕНИЯ Со^-ЭЛЕКТРОДА

В РАСТВОРЕ СЕРНОЙ КИСЛОТЫ

Изучено влияние условий формирования анодного оксида на электрохимическое поведение CoiSi-электрода в 0,5 М H2SO4. Показано, что если переход Co2Si в пассивную область осуществляется без задержки в области активного растворения, то скорость пассивного растворения CoiSi лишь ненамного превышает скорость растворения CoSi2. По кривым спада тока при Е = const сделан вывод, что в середине пассивной области оксидная пленка на Co^Si растет по закону, близкому к логарифмическому. Проанализированы спектры импеданса, полученные при измерениях от различных начальных потенциалов электрода.

Ключевые слова: силицид кобальта; анодный оксид; рост оксида; импеданс

V.l. Kichigin, A.B. Shein

Perm State University, Perm, Russia

SOME PECULIARITIES OF THE ANODIC BEHAVIOR OF Co2Si ELECTRODE

IN SULFURIC ACID SOLUTION

The effect of anodic film formation conditions on the electrochemical behavior of CoiSi electrode in 0.5 M HiSO4 has been studied. It was shown that the rate of passive dissolution of Co^Si is only moderately greater than that of CoSh provided the Co^Si electrode passes through the active dissolution region vety quickly. From the current decay curves at E = const, it was deduced that in the middle part of the passive region the oxide film on Co^Si grows according to near logarithmic law. Impedance spectra obtained in measurements at different initial electrode potentials were analyzed.

Keywords: cobalt silicide; anodic oxide; oxide growth; impedance

© Кичигин В.И., Шеин А.Б., 2020

Введение

Силициды переходных металлов, в том числе силициды кобальта, проявляют высокую коррозионную стойкость в кислых средах. Показано, что силицид дикобальта Сс^К в отличие от кобальта, хорошо пассивируется в растворе серной кислоты и скорость анодного растворения Сог81 в области потенциалов Е от 0,5 до 1,5 В (н.в.э.) примерно на 4 порядка величины меньше скорости растворения кобальта [1]. При увеличении содержания кремния скорость пассивного растворения силицидов уменьшается в ряду Сог81 > Со81 > Со81г [1].

В дальнейшем анодное поведение силицида дикобальта в сернокислых растворах в широком интервале потенциалов изучалось также с использованием метода импедансной спектроскопии [2, 3]. Были получены некоторые характеристики анодных оксидных пленок на Со281 [2]. Установлено, что при Е > 2 В для СхъЗьэлектрода наблюдается область вторичной пассивации [3].

Несмотря на значительное число работ по коррозионно-электрохимическому поведению силицидов переходных металлов [1, 4, 5] некоторые вопросы остаются недостаточно изученными. В данной работе рассматривается влияние условий формирования анодного оксида на СхъЗ¡-электроде, имеющем область активного растворения, в 0,5 М Н2804 на электрохимическое поведение данного силицида в интервале потенциалов от коррозионного потенциала £'кор до 2 В.

Экспериментальная часть

Исследуемый электрод изготовлен из силицида €028 который был получен по методу Чохральского из кремния КПЗ-1 (99,99 мас.% 81) и электролитического кобальта К-0 (99,98 мас.% Со). Перед измерениями поверхность электрода последовательно шлифовали абразивными бумагами марки 1000 и 2000, очищали от загрязнений этиловым спиртом, промы-

вали в рабочем растворе. В некоторых случаях заданию определенного анодного потенциала предшествовала катодная активация электрода (плотность тока 7' = 1 мА/см2, 20 мин, как в [2]).

Измерения проведены при комнатной температуре (19-21 °С) в недеаэрированном растворе 0,5 М H2SO4 в ячейке ЯСЭ-2. Электрод сравнения - насыщенный хлориде ер ебряный электрод. Измеренные потенциалы электрода пересчитывали на водородную шкалу. Раствор готовили из серной кислоты марки «хч» и деи-онизованной воды (MilliQ).

Измерения поляризационных кривых и спектров импеданса проводили с различных начальных потенциалов электрода Еяач - с 0; 0,5; 1,0 и 1,5 В. Подобная методика измерений использовалась для NiSi-электрода в работе [6], где измерения проведены от потенциала коррозии Екор с медленным прохождением области активного растворения и от Е = 0,5 В.

Поляризационные и импедансные измерения были выполнены с помощью потенциоста-та Solartron 1287 и частотного анализатора So-lartron 1255 (Solartron Analytical). Диапазон частот/при измерении импеданса - от 10 кГц до 10 мГц (10 точек на декаду), амплитуда переменного сигнала 10 мВ. Перед измерением импеданса при заданном потенциале электрода проводили стабилизацию тока. Обычно выдержка при каждом потенциале составляла 20 мин, при Ешач (а также при некоторых Е в транспассивной области) время выдержки возрастало до 40-50 мин.

При измерениях и обработке данных использовались программы CorrWare2, ZPlot2 и ZView2 (Scribner Associates, Inc.).

Результаты и обсуждение

Анодные потенциостатические кривые приведены на рис. 1. Как видно, кривые, полученные при Енач > 0 В, значительно отличаются от кривой, полученной от потенциала коррозии (-0,25 В). Как и в [6], можно предположить,

что за довольно продолжительное время (выдержки до стабилизации тока в нескольких точках плюс время измерения частотных характеристик импеданса в каждой точке), в течение которого электрод находился в области активного растворения (плотности тока до 1 мА/см2) и активно-пассивного перехода, происходит растрав поверхности. Это приводит к увеличению истинной площади поверхности электрода и токов пассивного растворения. В то же время растрав поверхности не является единственной причиной различий полученных поляризационных кривых, поскольку имеются заметные различия между кривыми с Ешч = 0; 0,5; 1,0 и 1,5 В, когда электрод не находился какое-то время в области активного растворения. Важную роль играют также начальные стадии формирования анодного оксида на электроде. По-видимому, наиболее однородный оксид формируется в середине пассивной области [6], и если образование оксидной пленки начинается при ЕИЯЧ = 1,0 В, дефектность анодного оксида является минимальной. С этим согласуется и вид 1§/Д^~кривых (рис.2). При задании Еат = 0 В и Етч = 1,5 В (т.е. на краях области пассивного состояния электрода) на ^/,^/-кривых имеются различные искажения (рис. 2, а, г). При задании потенциалов 0,5 и 1,0 В получаются почти прямолинейные зависимости (рис. 2, б, в), при ^ > 30 с наклон прямых равен -0,88 при Енач = 0,5 В и -0,96 при Енач = 1,0 В. Наклон \gl.\gt-кривых, равный -1, соответствует логарифмическому закону роста оксидной пленки [7], при выполнении которого формируются более плотные пассивирующие слои.

При проведении предварительной катодной активации электрода и при Еяач = 1,0 В наблюдались наиболее низкие скорости пассивного растворения силицида (рис. 1, табл. 1). По-видимому, катодная активация создает более однородную поверхность, дает дополнительный эффект очистки поверхности электрода, и это приводит к нуклеации и росту менее дефектного оксида при анодной поляризации.

-0.5 0.0 0.5 1.0 1.5 2.0 2.5

Е, В

Рис. 1. Анодные потенциостатические кривые Со28ьэлектрода в 0,5 М Н2804. полученные от различных начальных потенциалов. О и ♦ - с предварительной катодной активацией электрода, остальные значки - без катодной активации электрода. Кривая с Етч = Екор взята из [8].

Если исключить фактор растравливания поверхности СхъЯьэлектрода, то различие скоростей пассивного растворения Со251 и С'с^з существенно уменьшается (табл. 1). В табл. 1 плотность тока в пассивной области для Со81з приводится для Ент = Екор, но поскольку для дисилицида кобальта область активного растворения не выражена, фактор растрава поверхности для него практически не проявляется.

Таблица 1

Минимальные значения плотности анодного тока в 0,5 М Н28С>4

Силицид р я /„„„, мкА/см"

СО281 Р ^кор 3,7

0 0,60

0,5 0,49

1,0 0,42

1,5 0,44

1,0* 0,34

СО812 -'-'кор 0,30

С предварительной катодной активацией электрода

lg I (I, мкА) 1.6 г

lg I (I, мкА)

Рис.

2.5 3.0 Igt(tc)

2.5 3.0

Igtftc)

(В) (Г)

2. Логарифмические кривые «ток-время» для СогЗьэлектрода в 0,5 М Н2804 при потенциалах 0 В (а); 0,5 В (б); 1,0 В (в); 1,5 В (г). Площадь поверхности электрода Я = 0,44 см2

lg I (I. мкА)

2.5 3.0

Igtftc)

lg I (I, мкА)

2.5 3.0 Igtftc)

При различных потенциалах электрода после установления стационарных значений тока были измерены спектры импеданса. Как показано в [2], для описания импедансных характеристик СлъЗьэлектрода в 0,5 М H2SO4 применима эквивалентная схема, приведенная на рис. 3. В этой схеме: Rs - сопротивление раствора, СРЕ - элемент постоянной фазы, импеданс которого равен Zcn, = [Qijcof]'1', одна R-CPE цепочка отвечает границе раздела оксид-электролит, другая - ок-

сидной пленке. Некоторые результаты аппроксимации экспериментальных спектров импеданса с помощью комплексного нелинейного метода наименьших квадратов (программа гУ1е\¥) представлены в табл. 2.

Рис. 3. Эквивалентная электрическая схема для пассивного С02Si-электрода

Одно из сопротивлений в эквивалентной схеме на несколько порядков величины меньше другого, что наблюдается и для других силицидов [6]. Был приведен [6] ряд аргументов в пользу того, что Я-СРЕ цепочка с высоким сопротивлением К соответствует оксидной пленке. Полученные результаты по анодному поведению СозБ! (при различных ¿'пач) согласуются с этим выводом. Например, при Е = 1,0 В при повышении Енач от 0 до 1,0 В меньшее сопротивление уменьшается, а большее сопротивление увеличивается. Учитывая вышеприведенные данные о том, что при повышении Ешт до 1,0 В улучшаются барьерные свойства анодного оксида, приходим к выводу, что именно 7?2-СРЕ цепочка описывает пассивирующий слой. Результаты при Е = 1,5 В также лучше согласуются с предположением, что 11-СРЕ цепочка с малым К соответствует границе раздела оксид-электролит, а цепочка с

большим Я соответствует оксидной пленке. Потенциал Е = 1,5 В отвечает концу области пассивного состояния, когда, согласно теоретическим представлениям [9], в пассивирующем слое накапливаются точечные дефекты и при превышении критической концентрации дефектов структура оксида утрачивает стабильность. Если задан Ект < 1,0 В, то сначала формируется малодефектный оксид; при приближении к£ = 1,5 В дефектность оксида возрастает, но сначала в наружном слое оксидной пленки [9], т.е. некоторая часть оксидной пленки может иметь еще почти не искаженные структуру и электрические свойства. Если же задан Еиач = 1,5 В, то сразу начинает формироваться более дефектный оксид (на всю толщину пассивирующей пленки). Вероятно, в связи с этим сопротивление оксидной пленки К2 имеет одно из наименьших значений при Е = ¿'„а,, = 1,5 В (табл. 2).

Таблица 2

Величины элементов эквивалентной электрической схемы для Сог8ьэлектрода

в 0,5 М Н2804

Р тз -'-'нач? л-' Е, В Ом см2 о6, Ф-см"2-^-11 Р\ Ом-см2 02-106, Ф-см-2-с<р4> Р2

Р ^кор 1,0 30 540 0,65 71200 8,9 0,92

1,5 63 106 0,84 180000 56 0,76

0 1,0 155 94 0,78 265000 12,7 0,88

1,5 40 48 0,94 163500 56 0,72

0,5 1,0 53 57 0,93 302000 11,4 0,88

1,5 170 164 0,84 60000 66 0,73

1,0 1,0 38 52 0,95 390000 10,3 0,90

1,5 300 56 0,86 83000 40 0,78

1,5 1,5 93 81 0,89 65800 50 0,75

1,0* 1,0 98 85 0,90 489000 10,2 0,89

Предварительная катодная активация электрода

Одним из методов получения информации о процессах, протекающих на границе электрод-раствор, является изучение зависимостей дифференциальной емкости С от потенциала электрода. На рис. 4 показаны С, ¿'-кривые при частоте переменного тока 10 кГц; эффективная

емкость рассчитана по формуле С = -1 /(соЯ'), где - мнимая составляющая импеданса. Емкостные кривые получены в тех же условиях, что и поляризационные кривые (рис. 1), от различных Еяач. На всех кривых имеется пик емкости при Е « 1,8 В, т.е. примерно в середи-

не области транспассивного растворения; высота Смакс и положение Ешакс пика слегка зависят от начального потенциала (табл. 3).

Возможной причиной появления максимума емкости (псевдоемкости) является обратимое изменение валентности в объеме поверхностной оксидной пленки [10-13]. Для процессов такого типа максимум емкости имеет место вблизи равновесного потенциала соответствующей реакции [10], высота емкостного максимума возрастает с толщиной пленки [10, 12], потенциал максимума емкости отвечает превращению половины частиц, участвующих в реакции [12, 13]. В соответствии с этим можно предположить, что появление максимума на С, ¿Г-кривых СхъЗьэлектрода обусловлено протеканием реакции где индекс «ок» показывает, что ионы находятся в твердой фазе смешанного оксида кремния и металла. Стандартный потенциал для реакции Со2 О Со3+ + е в водном растворе составляет Е° = 1,808 В [14]. В литературе сообщалось также более высокое значение Е° для пары Со3+/Со2+ (1,85 ± 0,02 В при 23°С в перхлоратной среде [15]). Небольшое отличие Емакс от 1,808 В (табл. 3), вероятно, связано с иной разностью энергий взаимодействия ионов Со2 и Со с окружающей средой в оксидной пленке (по сравнению с водным раствором, к которому относится Е° = 1,808 В) и с неодинаковыми активностями этих ионов в точке Е = Емакс. Кроме того, при определении ¿'чакс не вносилась поправка на диффузионный потенциал на границе КО (нас.)/0,5 М Н^Од (около 15 мВ), однако это не влияет на относительные положения максимумов емкости для различных Ешч.

ю

С, мкФ/см2

-0.5

0.0

0.5

1.0

1.5

2.0 2.5 Е, В

Рис. 4. Емкостные кривые СозБьэлектрода в 0,5 М

Н2804, полученные от различных начальных потенциалов. о - от Екор — -0,25 В. о и ♦ с предварительной катодной активацией электрода, остальные значки - без катодной активации электрода. Частота переменного тока 10 кГц.

Таблица 3

Положение и высота максимума дифференциальной емкости Со28ьэлектрода в 0,5 М Н2804 в зависимости от начального потенциала

н ^нач? -^макс? В Смаке, МКФ/см2

-0,25 В (Екор) 1,73 4,12

0 1,75 3,83

0,5 1,77 5,30

1,0 1,78 4,05

iНе можете найти то, что вам нужно? Попробуйте сервис подбора литературы.

1,5 1,75 4,48

1,0* 1,78 3,88

Предварительная катодная активация электрода

Со ОК о Со ок 1

(1)

При Евт = 0,5 В высота емкостного пика при Е « 1,8 В является наибольшей. Это может означать, что при Енач = 0,5 В образуется пленка наибольшей толщины либо (что более вероятно) в данных условиях выше концентрация ионов Со21 в образующейся оксидной пленке. Полуширина экспериментальных пиков емко-

сти (0,27-0,3 В) больше ожидаемой величины для обратимо протекающей реакции (около 0,18 В [11]), что можно связать с неоднородностью оксидного слоя.

Образованию ионов с зарядом +3 отводится важная роль в механизме электрической проводимости ортосиликатов таких металлов, как Бе, Со, N1, Мп [16]. В частности, намного более высокая электропроводность силиката железа объяснена намного более легким окислением Ре2+ в Ре3+ (что ассоциируется с меньшим редокс-потенциалом реакции Ре2+ = Ре3+ + е и более значительным понижением энергии при протекании реакции РеО + % О? = Уг РегОз по сравнению с аналогичными процессами для №, МпиСо) [16].

Ионы Со3+, образовавшиеся по реакции (1), под действием электрического поля в оксидной пленке мигрируют (быстрее, чем Со2 ) к границе оксид-раствор. Возможно, по этой причине после прохождения потенциала максимума емкости на /./-кривых, записываемых после переключения на Е = 1,85 и 1,9 В, отмечается медленный рост тока. В остальных случаях при ступенчатом повышении потенциала электрода наблюдались спадающие /./-кривые.

Заключение

Скорость пассивного растворения СозЗь электрода в 0,5 М П^Од зависит от начального потенциала Еяш, от которого проводятся поляризационные измерения. Это свидетельствует о том, что заметную роль играет исходное состояние поверхности анодно окисляемого электрода, влияющее на начальные стадии формирования пассивирующего оксида на силициде. Если исключить нахождение Сог81 в области активного растворения и задать ЕИШ = 1,0 В, то скорость пассивного растворения Со?81 лишь ненамного превысит скорость растворения дисилицида кобальта Со5]7.

Спектры импеданса СхьЗьэлектрода, полученные при измерениях от различных ¿'па,„ были проанализированы с использованием эквивалентной электрической схемы с двумя параллельными R-CPE цепочками (R - сопротивление, СРЕ - элемент постоянной фазы). Полученные результаты для Ск^ьэлектрода (как и для других силицидов [6]) лучше согласуются с предположением, что R-CPE цепочка с малым сопротивлением R соответствует границе раздела оксид-электролит, а цепочка с большим R соответствует оксидной пленке.

Библиографический список

1. Шеин А.Б. Электрохимия силицидов и гер-манидов переходных металлов / Перм. гос. ун-т. Пермь, 2009. 269 с.

2. Кичигин В.И., Шеин А.Б. Электрохимическая импедансная спектроскопия анодных процессов на Со281-электроде в растворах серной кислоты // Физикохимия поверхности и защита материалов. 2012. Т. 48, № 2. С.218-224.

3. Кичигин В.И., Шеин А.Б. Электрохимическое поведение силицидов кобальта в растворах серной кислоты при высоких анодных потенциалах // Вестник Пермского унта. Серия Химия. 2014. Вып. 3(15). С, 4-13.

4. Шеин А.Б. Коррозионно-электрохимическое поведение силицидов металлов триады железа в различных электролитах // Физикохимия поверхности и защита материалов. 2010. Т. 46, №4. С, 403-413.

5. Пантелеева В.В., Шеин А.Б., Кичигин В.И. Импеданс анодных процессов на силицидах металлов триады железа в кислых и щелочных средах // Коррозия: материалы, защита. 2017. №6. С, 1-10.

6. Пантелеева В.В. Анодные процессы на моносилицидах металлов триады железа: дис. ... канд. хим. н. Пермь, 2014. 174 с.

7. Красшъникова И.А., Иофа ЗА. Исследование кинетики анодного окисления титана в растворах электролитов // Электрохимия. 1979. Т. 15, №4. С, 555-558.

8. Kichigin V.I., Shein А.В. Potentiostatic and impedance spectroscopic studies of the anodic behavior of cobalt silicides in fluoride-containing acidic solutions // Corrosion Science. 2019. Vol. 159. Article 108124.

9. Попов Ю.А. Теория взаимодействия металлов и сплавов с коррозионно-активной средой. М.: Наука, 1995. 200 с.

10. Isaacs H.S., Leach J.S.L. Valency changes in the surface oxide films on metals // Journal of the Electrochemical Society. 1963. Vol. 110, № 6. P. 680-687.

11. Isaacs U.S., Leach J.S.L. Some aspects of the parallel differential conductance measured at an electrode-electrolyte interface // Journal of the Electrochemical Society. 1968. Vol. 115, № 3. P. 237-242.

12. Dyer C.K., Leach J.S.L. Reversible reactions within anodic oxide films on titanium electrodes // Electrochimica Acta. 1978. Vol. 23, № 12. P. 1387-1394.

ХЪ.Гилеады E., Копуш Б.Е. Поведение промежуточных частиц в электрохимическом катализе // Современные аспекты электрохимии. М.: Мир, 1967. С, 392-495.

14. Справочник по электрохимии / под ред. А.М. Сухотина. Л.: Химия, 1981.

15. Warnqvist В. Potentiometric study of cobalt (III) perchlorate solutions // Inorganic Chemistry. 1970. Vol. 9, № 3. P. 682-684.

16. Bradley R.S., Milnes G.J., Munro D.C. The electrical conductivities at elevated temperatures and pressures of poly crystalline manganese, cobalt and nickel orthosilicates // Geo-chimica et Cosmochimica Acta. 1973. Vol. 87. P.2379-2394.

References

1. Shein, A.B. (2009), Elektrokhimiya silitsidov i germanidov perekhodnykh metallov [Electrochemistry of transition metal silicides and germanides], Perm. gos. un-t, Perm, Russia. (In Russ.)

2. Kichigin, V.l. and Shein, A.B. (2012), "Electrochemical impedance spectroscopy of anodic processes on Co2Si electrode in sulfuric acid solutions", Protection of Metals and Physical Chemi-stty of Surfaces, vol. 48, no 2, pp. 251-258.

3. Kichigin, V.l. and Shein, A.B. (2014), "Electrochemical behavior of cobalt silicides in sulfuric acid solutions at high anodic potentials", Bulletin of Perm University. Series "Chemistry", no. 3, pp. 4-13. (In Russ.).

4. Shein, A.B. (2010), "Corrosion-electrochemical behavior of iron family silicides in various electrolytes", Protection of Metals and Physical Chemistry of Surfaces, vol. 46, no 4, pp. 479-488.

5. Panteleeva, V.V., Shein, A.B. and Kichigin, V.l. (2017), "Impedance of the anodic processes on iron family silicides in acid and alkaline media", Corrosion: Materials, Protection, no 6, pp. 1-10. (In Russ.).

6. Panteleeva, V.V. (2014), Anodnye protsessy na monosilitsidakh metallov triady zheleza. Diss, cand. khim. nauk [Anodic processes on iron family monosilicides], Perm, Russia. (In Russ.)

7. Krasilnikova, I.A. and lofa, Z.A. (1979), "Investigation of the kinetics of anodic oxidation of titanium in electrolyte solutions", Electrochemistry, vol. 15, no 4, pp. 555-558. (In Russ.)

8. Kichigin, V.l. and Shein, A.B. (2019), "Potentiostatic and impedance spectroscopic studies of the anodic behavior of cobalt silicides in fluoride-containing acidic solutions", Corrosion Science, vol. 159, article 108124.

9. Popov, Yu.A. (1995), Teoriya vzaimodeistviya metallov i splavov s korrozionno-aktivnoi sre-doi [Theory of interaction of metals and alloys

with corrosive medium], Nauka Publishing, Moscow, Russia. (In Russ.)

1 O.Isaacs, H.S. and Leach, J.S.L. (1963), "Valency changes in the surface oxide films on metals", Journal of the Electrochemical Society, vol. 110, no 6, pp. 680-687.

17.Isaacs, H.S. and Leach, J.S.L. (1968), "Some aspects of the parallel differential conductance measured at an electrode-electrolyte interface", Journal of the Electrochemical Society, vol. 115, no3, pp. 237-242.

11.Dyer, C.K. and Leach, J.S.L. (1978), "Reversible reactions within anodic oxide films on titanium electrodes", Electrochimica Acta, vol. 23, no 12, pp. 1387-1394.

12.Gileadi, E. and Conway, B.E. (1964), "The behavior of intermediates in electrochemical

catalysis", in: Bockris J.O'M., Conway B.E. (Eds.), Modern Aspects of Electrochemistry, vol. 3, London, 1964, pp. 347-442.

13.Sukhotin, A.M. (Ed.), (1981), Spravochnik po elektrokhimii [Handbook of Electrochemistry], Leningrad, Khimiya Publishing, Russia. (In Russ.)

14.Warnqvist, B. (1970), "Potentiometrie study of cobalt (III) Perchlorate solutions", Inorganic Chemistry, vol. 9, no 3, pp. 682-684.

15.Bradley, R.S., Milnes, G.J. and Munro D.C. (1973), "The electrical conductivities at elevated temperatures and pressures of polycrys-talline manganese, cobalt and nickel orthosilicates", Geochimica et Cosmochimica Acta, vol. 87, pp. 2379-2394.

Об авторах

Кичигин Владимир Иванович,

кандидат химических наук, старший научный

сотрудник кафедры физической химии

Пермский государственный

национальный исследовательский университет

614990, г. Пермь, ул. Букирева, 15.

kichigin@psu.ru

Шеин Анатолий Борисович,

доктор химических наук, профессор,

заведующий кафедрой физической химии

Пермский государственный

национальный исследовательский университет

614990, г. Пермь, ул. Букирева, 15.

ashein@psu.ru

About authors

Kichigin Vladimir Ivanovich,

candidate of chemistry, senior researcher of the

Department of physical chemistry,

Perm State University

15, Bukireva St., Perm, Russia, 614990

kichigin@psu.ru

Shein Anatoly Borisovich,

doctor of chemistry, professor, head of the

Department of physical chemistry

Perm State University

15, Bukireva St., Perm, Russia, 614990

ashein@psu.ru

Информация для цитирования:

Кичигин В.И., Шеин А.Б. Некоторые особенности анодного поведения СозЗьэлектрода в растворе серной кислоты // Вестник Пермского университета. Серия «Химия». 2020. Т. 10, вып. 2. С, 212-220. DOI: 10.17072/2223-1838-2020-2-212-220.

Kichigin V.I., Shein А.В. Nekotorye osobennosti anodnogo povedeniia Co2Si-elektroda v rastvore sernoi kisloty [Some peculiarities of the anodic behavior of Co2Si electrode in sulfuric acid solution] // Vest-nik Permskogo universiteta. Seriya «Khimiya» = Bulletin of Perm University. Chemistry. 2020. Vol. 10. Issue 2. P. 212-220 (in Russ.). DOI:10.17072/2223-1838-2020-2-212-220.

i Надоели баннеры? Вы всегда можете отключить рекламу.