CC BY
43
УДК 541.138.2
В. В. Пантелеева (ст. преп.), А. Б. Шеин (д.х.н., проф.)
НАРУШЕНИЕ ПАССИВНОСТИ МОНОСИЛИЦИДОВ МЕТАЛЛОВ ТРИАДЫ ЖЕЛЕЗА ФТОРИД-ИОНАМИ В СЕРНОКИСЛОЙ СРЕДЕ
Пермский государственный национальный исследовательский университет,
кафедра физической химии 614990, г. Пермь, ул. Букирева, 15; тел. +7(342) 2396468, e-mail: ashein@psu.ru
V. V. Panteleeva, A. B. Shein
BREAKDOWN OF PASSIVITY OF IRON GROUP METAL SILICIDES BY FLUORIDE IONS IN SULFURIC ACID SOLUTION
Perm State University 15, Bukirev Str, 614990, Perm, Russia; ph. +7(342) 2396468, e-mail: ashein@psu.ru
Методами поляризационных и импедансных измерений исследовано анодное поведение Бе51, Со51 и N151 в растворах 0.5 М Н2504 + (0.005 -0.05) М Установлено, что влияние фторида натрия, вызывающего активацию анодного растворения силицидов в растворе серной кислоты, связано с ослаблением пассивирующего действия кислородсодержащих соединений кремния и оксидов металлов. С ростом концентрации роль металлического компонента в кинетике анодных процессов на Бе51, Со51 и N151 повышается, неметаллического компонента - снижается, однако остается значительной.
Ключевые слова: силицид железа; силицид кобальта; силицид никеля; пассивация; сернокислый электролит; фторид натрия.
Работа выполнена при поддержке РФФИ (проект № 14-03-31016 мол_а).
Силициды переходных металлов представляют важный и обширный класс металло-подобных соединений, которые широко используются в металлургии, химии, машиностроении, полупроводниковой технике 1. Повсеместное использование данных материалов обусловлено их важными техническими свойствами — жаро- и износостойкостью, твердостью, тугоплавкостью; эти соединения отличаются повышенной тепло- и электропроводностью, устойчивостью к резким многократным теплосменам 1. Кроме того, силициды переходных металлов обладают высоким химическим
Дата поступления 20.02.15
Anodic behavior of FeSi, CoSi and NiSi in 0.5 M H2SO4 + (0.005-0.05) M NaF has been investigated by the methods of polarization curves and electrochemical impedance spectroscopy. It has been shown that the influence of sodium fluoride, that causes the activation of the anodic dissolution of silicides in sulfuric acid solution, is due to the weakening of the the passivating action of the oxygen-containing silicon compounds and metal oxides. The role of metallic component in the kinetics of the anodic processes on FeSi, CoSi and NiSi increases with the increase of NaF concentration. The role of silicon decreases but it still remains significant.
Key words: cobalt silicide; iron silicide; nickel silicide; passivation; sulfuric acid solution; sodium fluoride.
This work was supported by RFBR (project № 14-03-31016 mol_a).
сопротивлением в широком диапазоне корро-зионно-активных сред 2'3. Последнее делает их незаменимыми в областях, где от материалов помимо полифункциональности требуется высокая коррозионная и анодная стойкость.
При изучении анодных процессов на моносилицидах металлов триады железа в растворе серной кислоты 4-6 было установлено, что поведение FeSi, CoSi и NiSi (в области пассивного и транспассивного состояния) определяется присутствующей на их поверхности барьерной малорастворимой в кислых средах оксидной пленкой, близкой по составу к SiO2; данная пленка обусловливает высокую
анодную и коррозионную стойкость силицидов металлов триады железа в кислых бесфторид-ных растворах.
С целью выяснения влияния пленки диоксида кремния на кинетику анодных процессов на РеБ1, СоБ1 и N181 изучено их поведение в сернокислом электролите, содержащем №Р. Согласно в присутствии фтороводородной кислоты или ее солей пассивационное влияние диоксида кремния ослабляется: при взаимодействии БЮ2 с Р--ионами или НР образуются растворимые фторосиликаты или кремнефто-ристоводородная кислота.
Материалы и методика эксперимента
Электрохимические измерения проведены при температуре -(20—22) оС в условиях естественной аэрации в растворах 0.5 М Н2Б04 + +(0.005 — 0.05) М №Р. Для приготовления растворов использовали деионизованную воду (удельное сопротивление — 18.2 МОм-см, содержание органического углерода — 4 мкг/л) и реактивы Н2Б04 марки «х.ч.» и №Р марки «ч.д.а.».
Используемые для измерений силициды железа, кобальта и никеля получены из кремния КПЗ-1 (99.99% мас. Б1), карбонильного железа В-2 (99.98% мас. Ре), электролитического кобальта К-0 (99.98% мас. Со) и электролитического никеля Н-0 (99.99% мас. N1) методом Чохральского в печи для промышленного выращивания монокристаллов 0КБ-8093.
Перед проведением измерений рабочую поверхность электродов шлифовали абразивными бумагами с последовательным уменьшением размера зерна, обезжиривали этиловым спиртом, ополаскивали рабочим раствором. При погружении в раствор электроды выдерживали при потенциале разомкнутой цепи до установления стационарного значения, далее снимали вольтамперные кривые и спектры импеданса. Перед измерением спектров импеданса при каждом потенциале проводили потенци-остатическую поляризацию до установления практически постоянного значения тока, после чего начинали измерения импеданса при данном Е и более высоких потенциалах. На основе полученных значений I для данного значения Е строили анодные потенциостатические кривые. Циклические вольтамперные кривые снимали от Е коррозии в анодную область со скоростью развертки потенциала V = 10 мВ/с. Все потенциалы в работе приведены относительно нормального водородного электрода. Диапазон используемых в импедансных изме-
рениях частот f — от 20 кГц до (0.01—0.002) Гц, амплитуда переменного сигнала (5—20) мВ.
Электрохимические измерения проводили с помощью потенциостата-гальваностата с встроенным частотным анализатором Solartron 1280C фирмы Solartron Analytical во фторопластовой ячейке.
Исследование топографии и микрошероховатости поверхности электродов осуществляли с помощью сканирующего электронного микроскопа «Hitachi S-3400N» и бесконтактного профилометра «New View-5000» фирмы Zygo.
Результаты и их обсуждение
Анодные потенциостатические кривые моносилицидов железа, кобальта и никеля в 0.5 M H2SO4 и 0.5 M H2SO4 + (0.005-0.05) M NaF приведены на рис. 1.
Анодные кривые FeSi-электрода во фто-ридсодержащем электролите характеризуются наличием двух пиков (рис. 1а). Потенциал первого анодного пика с увеличением концентрации NaF смещается в катодную область, потенциал второго анодного пика совпадает с потенциалом пассивации на анодной кривой Fe-электрода в растворе серной кислоты 3 и с варьированием концентрации NaF изменяется слабо. Вероятно, пассивация силицида железа на первом участке спада тока с потенциалом связана с окислением кремния, а при более высоких потенциалах - с окислением железа.
Поляризационные кривые CoSi-электрода во фторидсодержащем растворе имеют два анодных пика (рис. 1б). Область потенциалов, при которых наблюдается первый анодный пик, совпадает с областью потенциалов активного растворения и активно-пассивного перехода на анодных кривых Co^i-электрода 8'9. Согласно 8'9 пассивация Co2Si при этих Е обусловлена окислением кремния до диоксида кремния. Второй участок повышения и последующего спада (при E > 1.2 В) тока с ростом поляризации на анодных кривых CoSi-элект-рода во фторидсодержащем растворе наблюдается при потенциалах, близких к E областей активного растворения и пассивации Co-элект-рода в сернокислом электролите 10. Вероятно, пассивация силицида кобальта, как и силицида железа, на первом участке спада тока с потенциалом связана с окислением кремния, на втором участке - с окислением кобальта.
При потенциалах активного растворения lgiE-кривой NiSi-электрода добавление NaF к раствору серной кислоты вызывает небольшое
(б)
Рис. 1. Анодные потенциостатические кривые FeSi, CoSi и NiSi в 0.5 M H2SO4 + NaF, М: 1 — 0; 2 — 0.005; 3 - 0.01; 4 - 0.02; 5 - 0.05
увеличение плотности тока и приводит к смещению потенциала пассивации силицида в анодную область (рис. 1в). В интервале потенциалов (0.20-0.25) В, при которых на поляризационной кривой NiSi в растворе серной кислоты наблюдается задержка в изменении i с Е, обусловленная окислением никеля до NiO (наряду с окислением кремния до SiO2) 11, плотность тока в присутствии NaF оказывается ниже, чем в бесфторидном электролите. Вероятно, содержание в растворе HF, растворяющей, прежде всего, SiO2, создает условия для формирования пленки NiO или пленки смешанного оксида NiO + SiO2 с более высокими барьерными свойствами, чем в бесфторидном растворе.
В области пассивного состояния на поляризационных кривых FeSi, CoSi и NiSi наблюдается заметный рост i с повышением концентрации NaF. Увеличение скорости анодных процессов на силицидах железа, кобальта и никеля во фторидсодержащем электролите, связано вероятно, как с растворением SiO2, так и с растворением пассивирующих оксидов металлов (Fe2O3 для Fe 12, CoO для Co 10 и NiO для Ni 13).
По данным работ 14,15 фтороводородная кислота вызывает рост стационарного тока растворения пассивного железа в кислых сульфатных (порядок реакции по HF составляет nHF ~ 1.4) и перхлоратных (nHF ~ 1) средах. Согласно 16 повышение плотности тока растворения пассивного никеля с ростом концентрации фтороводородной кислоты характеризуется величиной dlgi/dlgCHF ~ 1.6. Авторами 8,17 сообщается, что анодное травление диоксида кремния имеет первый порядок по HF.
Результаты поляризационных измерений показывают, что порядок реакции растворения
РеБ1 по №Р в области пассивного состояния при Е = 1.2 В составляет 0.67; СоБ1 — 0.62;
— 1.2. Подобное значение величины
для РеБ1-, СоБ1- и №Б1-электродов удовлетворительно согласуется с порядками реакций растворения пассивирующих оксидов металлов этих сплавов и диоксида кремния при взаимодействии с НР.
В области перепассивации плотность тока на РеБ1, СоБ1 и медленно возрастает с
потенциалом и в присутствии №Р оказывается ниже, чем в серной кислоте (рис. 1). Во фто-ридсодержащем электролите на поверхности силицидов наблюдается выделение кислорода; в бесфторидной среде выделение кислорода при этих Е не отмечалось 4'5. Основным препятствием для выделения кислорода на электродах в растворе серной кислоты, по-видимому, является наличие на их поверхности пленки диоксида кремния. Растворение Б102 при взаимодействии с НР и образование преимущественно оксидов металлов делает возможным выделение кислорода. Снижение плотности тока в присутствии фторида, вероятно, связано с ростом кислородного перенапряжения 16.
Циклические вольтамперограммы Ре81, СоБ1 и во фторидсодержащем электролите приведены на рис. 2. Слабое уменьшение плотности тока растворения силицидов с увеличением номера цикла поляризации, совпадение форм кривых прямого и обратного хода, сравнительно высокие значения I во всей области исследованных потенциалов свидетельствуют о частичном удалении с поверхности РеБ1, СоБ1 и в присутствии фторида пассивирующих соединений, об ослаблении их барьерных свойств.
Рис. 2. Циклические вольтамперограммы FeSi, CoSi и NiSi в 0.5 MH2SO4 + 0.05 М NaF. Цифры у кривых — номера циклов поляризации
Спектры импеданса Бе51, СоБ1 и N151 во фторидсодержащем электролите имеют более сложный вид, чем в растворе серной кислоты 4-6. Кроме того, вид спектров импеданса изменяется также с варьированием концентрации Последнее свидетельствует об изменении механизмов и/или о смене лимитирующих стадий протекающих на поверхности силицидов анодных процессов в зависимости от содержания фторида в растворе.
В области потенциалов первого анодного пика в растворах с невысоким содержанием спектры импеданса Ре51 и СоБ1 состоят из емкостной полуокружности со смещенным центром при высоких частотах (ВЧ) и наклонной прямой при низких частотах (НЧ) (рис. 3). При содержании в растворе Б—-ионов или НБ анодное поведение силицидов не может определяться присутствующим на их поверхности барьерным слоем диоксида кремния, который обусловливает пассивное состояние силицидов в бесфторидном электролите, вследствие его химического растворения. В то же время не следует ожидать полного удаления пленки 5102 в присутствии фторидов, особенно в растворах с их невысоким содержанием. Вероятно, наклонная НЧ-прямая, появляющаяся в дополнение к двум перекрывающимся полуокружностям, наблюдаемым на графиках импеданса Ре51 и СоБ1 в растворе серной кисло-отражает влияние на процесс окис-
ты
4,5
НЧ- и ВЧ-полуокружностей возрастает. Несмотря на то, что в данной области ток увеличивается с Е, импеданс повышается. Последнее указывает на заметную роль пассивацион-ных процессов. О высокой роли пассивирующих соединений в кинетике анодных процессов также говорит отсутствие выраженного участка активного растворения на ^¿,Е-кривых (рис. 1а,б). В переходной области спектры импеданса (рис. 4б) имеют емкостную дугу, заходящую в область отрицательных значений Z/, что является характерным для пассивирующихся электродов при потенциалах, где й1/йЕ < 0 19.
ления силицидов.
В растворе 0.5 М Н2504, содержащем (0.02—0.05) М для Ре51 18 и (0.01—0.05) М для СоБ1 (рис. 4а), при потенциалах активного растворения спектры импеданса состоят из двух хорошо разделенных емкостных дуг со смещенным центром. При повышении поляризации электродов отношение радиусов
Рис. 3. Спектры импеданса CoSi в 0.5 M H2SO4 +
+ 0.005 М NaF при Е, В: 1 - -0.03; 2 - 0; 3 - 0.05; 4 - 0.10
Для описания поведения силицида железа в работе 18 предложена схема, отражающая протекание на поверхности электрода двух параллельных процессов: реакции ионизации металла и реакции окисления кремния. Эта схема состоит из параллельно соединенных сопротивления, трех последовательных RC-цепочек и импеданса двойнослойной емкости. Сопротивление связывается с реакцией окисления металла, последовательные RC-цепочки — со стадиями процесса окисления кремния, включающего две электрохимические и одну
-Z'\ Ом-см1
\ то v\
1500 Д\
1000 - TV\
500 -
-S-
о
1000
Z. Qrt-см1
400 600 Z\ ОъГСЬГ
(а) (б)
Рис. 4. Спектры импеданса CoSi в 0.5 M H2SO4 + 0.05 М NaF при Е, В: 1--0.18; 2--0.17; 3--0.16;
4 - -0.15; 5 - -0.14; 6 - -0.13; 7 - -0.10; 8 - -0.08; 9 - -0.06
химическую стадии. Сообщается, что электрохимическим стадиям (реакции ^ 8ЮНас[5 и БЮН^ ^ 81(ОН)2) на спектрах импеданса соответствуют две перекрывающиеся НЧ-полу-окружности, химической стадии (реакция Б1(ОН)2 ^ Б1О2) — полуокружность в области промежуточных частот. Для описания поведения СоБ1-электрода во фторидсодержащем электролите при потенциалах первого анодного процесса также может быть использована эта схема. Однако вследствие того, что кинетические параметры электрохимических стадий окисления кремния (образование БЮН^ и БЮ^) в составе СоБ1, по-видимому, различаются незначительно, о чем свидетельствует одна полуокружность в НЧ-области на спектрах импеданса (рис. 4а), для моделирования анодных процессов на этом силициде следует использовать эквивалентную схему, в которой реакции окисления кремния соответствует две последовательные .КС-цепочки.
В области активно-пассивного перехода для описания спектров импеданса Ре81 и СоБ1 также может быть использована схема, рассмотренная для области активного растворения. Однако на нисходящем участке анодной кривой, где й1/йЕ < 0, поляризационное сопротивление системы отрицательно.
Активное анодное растворение N181 в рас-
20
творе серной кислоты согласно 20 связано с реакциями ионизации никеля до №2+ и окисления кремния до Б1О2. Во фторидсодержащем электролите анодное поведение силицида никеля имеет те же закономерности с изменением Е, что и в бесфторидном электролите. Введение в раствор вызывает увеличение скоро-
сти растворения никеля и снижение скорости окисления кремния.
Графики импеданса FeSi- и CoSi-электро-дов в области второго анодного процесса при потенциалах восходящей ветви lgiE-кривой состоят из емкостной ВЧ-полуокружности и наклонной НЧ-прямой. На анодное поведение силицидов в этой области значительное влияние оказывают кислородсодержащие соединения кремния, которые проявляют пассивирующие свойства, что, вероятно, и обусловливает высокие значения \Z\. Последнее косвенно подтверждается монотонным количественным изменением спектров импеданса, которые при этом не претерпевают существенных качественных изменений в растворах 0.5 M H2SO4+ + (0.005—0.01) M NaF при переходе от первого участка повышения i с E ко второму участку.
При потенциалах нисходящей ветви поляризационной кривой спектры импеданса FeSi-21
электрода имеют вид, как спектры импеданса Fe-электрода 22, и состоят из двух емкостных полуокружностей, расположенных в III и IV квадрантах комплексной Z-плоскости. Однако на графиках импеданса FeSi ВЧ-полуок-ружность, вероятно, представляет две-три перекрывающиеся дуги. Сходный вид спектров импеданса имеет CoSi-электрод при потенциалах третьего снижения тока (рис. 5). Более сложный вид спектров импеданса FeSi и CoSi по сравнению с чистыми металлами, по-видимому, связан с образованием диоксида кремния: присутствие на поверхности электродов нескольких видов пассивирующих соединений (оксиды металлов и кремния) обусловливает появление в области промежуточных частот нескольких времен релаксации.
Рис. 5. Спектры импеданса CoSi в 0.5 M H2SO4 +
+0.05 М NaF при Е, В: 1 - 1.30; 2 - 1.40; 3 - 1.45; 4 - 1.50; 5 - 1.55; 6 - 1.60
В области пассивного состояния спектры импеданса FeSi, CoSi и NiSi состоят из емкостной ВЧ-полуокружности со смещенным центром и наклонной НЧ-прямой 20,21 (рис. 6). Так как на поляризационных кривых силицида кобальта на данном участке производная di/dE имеет отрицательные значения, спектры импеданса CoSi при аппроксимации до весьма низких частот, по-видимому, будут характеризоваться отрицательными значениями Z'.
лючить, что пассивная пленка на FeSi, CoSi и NiSi в присутствии фторидов, по-видимому, обеднена диоксидом кремния по сравнению с бесфторидным раствором, и основная роль в пассивации силицидов принадлежит оксидам металлов. Следовательно, поведение FeSi, CoSi и NiSi в пассивной области во фторидсо-держащем электролите может быть довольно близким к поведению пассивных Fe, Co и Ni соответственно. Последнее также следует из lgiE-кривых (рис.1-2).
Наклон НЧ-прямой на графиках импеданса NiSi близок к 45о, что является характерным для импеданса диффузионного процесса. На спектрах импеданса FeSi и CoSi наклон прямой имеет значения, которые являются промежуточными для импеданса диффузии и импеданса емкости. Из этого следует, что рост пленки на NiSi протекает с диффузионным контролем и осуществляется, вероятно, как и на Ni 13, в результате движения кислородсодержащих частиц; рост пленки на FeSi и CoSi, по-видимому, протекает со смешанным контролем - контролем диффузией и встраиванием ионов в кристаллическую решетку оксида у границы силицид/оксид.
В области перепассивации спектры импеданса FeSi-электрода, как и в области пассивации, состоят из емкостной ВЧ-полуокружнос-ти и наклонной НЧ-прямой. С повышением потенциала электрода радиус емкостной дуги уменьшается, наклонная прямая постепенно вырождается, при этом во всем исследованном интервале потенциалов НЧ-прямая располагается в том же частотном диапазоне, что и в области пассивного состояния.
Во фторидсодержащем растворе на FeSi-электроде наблюдается слабое выделение кислорода. На пассивном Fe-электроде при Е > 1.7 В согласно 12 наряду с растворением железа происходит выделение кислорода:
Рис. 6. Спектры импеданса CoSi в 0.5 M H2SO4 + +0.05 М NaF при Е, В: 1 - 0.5; 2 - 0.6; 3 - 0.7; 4 -0.8; 5 - 1.0
В присутствии NaF величина импеданса силицидов железа, кобальта и никеля в пассивной области существенно меньше, чем в растворе 0.5 М H2SO4 без фторида 4-6. Принимая во внимание отличие графиков импеданса FeSi-, CoSi- и NiSi-электродов при этих E во фторидсодержащем растворе от графиков импеданса в растворе серной кислоты, где поведение силицидов определяется присутствующей на их поверхности оксидной пленкой, состоящей преимущественно из SiO2, можно зак-
у-Ре203 = 2Ре3+ + 1.502 + 6е-, Е0 = 1.2 В.
При более высоких Е выделение кислорода происходит также за счет окисления молекул воды. Вероятно, вследствие небольшого содержания диоксида кремния в составе пассивирующей пленки, а также повышения кислородного перенапряжения в присутствии фторида термодинамически возможное в данной области выделение кислорода, протекающее в результате окисления молекул воды, затруднено, и этот процесс на РеБ1 осуществляется, главным образом, за счет разложения пассивирующего оксида Ре203.
Спектры импеданса Со81-электрода в области перепассивации в 0.5 М Н2804 + (0.005— 0.05) М ЫаР состоят из емкостной ВЧ-полу-окружности и отклонениями при низких частотах, переходящими при более высоких потенциалах (Е > 1.85 В) в прямолинейный участок с наклоном, близким к 45о. Диапазон потенциалов, с которого на графиках импеданса при низких частотах отмечается появление наклонной прямой, совпадает со значениями Е, при которых на поляризационной кривой наблюдаются отклонения от линейной E, ^¿-зависимости. При потенциалах участка линейной зависимости ^г от Е на электроде наблюдается слабое выделение кислорода, на участке небольшого повышения ^г с Е выделение кислорода происходит более интенсивно.
Согласно 10 выделение кислорода на Со связано с протеканием реакций:
с0 _
Со00Н = Со02 + Н+ + е-, Е0 = 1.49 В;
2
Со02 = Со2+ + 02 + 2е-, Е0 = 0.90 В.
оказывает слабое влияние на морфологию их поверхности 4-6. Введение в раствор ЫаР приводит к небольшому растравливанию поверхности Ре81 (рис. 7б) и более существенному в случае Со81 и N181 (рис. 7в,г). Последнее подтверждает высокую агрессивность фторидов по отношению к силицидам.
Результаты измерения параметров микрошероховатости поверхности Ре81, Со81 и N181 (табл. 1) полностью коррелируют с данными микроскопических исследований. Наибольшее развитие электродной поверхности наблюдается для силицидов кобальта и никеля при травлении в 0.5 М Н2804 + 0.05 М №Р.
Таблица 1 Параметры микрошероховатости поверхности FeSi, CoSi и NiSi
Ие (нм)/гтэ (нм)
FeSi FeSi CoSi | NiSi
исходный образец поляризация в 0.5 М H2SO4 + 0.05 М NaF при Е = 1.0 В
45.6/62.6 50.2/68.5 | 738.9/956.4 | 957.5/1241
Вероятно, перепассивация Со81 также обусловлена образованием на его поверхности оксида Со02, который далее разлагается с выделением кислорода. При Е > 1.85 В выделение кислорода, по-видимому, осуществляется преимущественно в результате окисления молекул воды.
Спектры импеданса №81-электрода в области перепассивации имеют однотипный со спектрами импеданса Со81-электрода вид. Появление на графиках импеданса в НЧ-области линейного участка с наклоном, близким к 45о, наблюдается при Е > 2.0 В.
Микроскопическое исследование Ре81, Со81 и N181 до (рис.7а) и после испытаний показывает, что анодное травление силицидов в растворе 0.5 М Н2804 в области пассивации
Таким образом, исследование анодного поведения Ре81, Со81 и N181 в сернокислом электролите с переменным содержанием фторида натрия показало, что присутствие НР в растворе вызывает активацию анодного растворения силицидов. Активирующее влияние фторида связано с ослаблением пассивирующего действия диоксида кремния, составляющего основу оксидных пленок на силицидах в кислых бесфторидных средах, вследствие его растворения; в области пассивного состояния повышение скорости растворения Ре81, Со81 и N181 происходит также за счет действия фторида на оксиды металлов. В результате уменьшения пассивационного влияния диоксида кремния роль металла и продуктов его окисления в кинетике анодных процессов на силицидах с ростом концентрации №Р повышается.
(а) (б) (в) (г)
Рис. 7. Микрофотографии поверхности ЕеБ1 (а,б), Со81 (в) и N181 (г) (х.700) до (а) и после травления в 0.5 М Н2Б04 + 0.05 М NaF при Е= 1.0 В (б, в, г)
Литература
1. Гельд П. В., Сидоренко Ф. А. Силициды переходных металлов четвертого периода. — М.: Металлургия, 1981.— 632 с.
2. Herranen M., Delblanc B.A., Carlsson J.-O., Bunshah R.F. Corrosion properties of thin molybdenum silicide films // Surf. Coat. Technol.— 1997.- V.96, №2-3.- P.245-254.
3. Шеин А. Б. Электрохимия силицидов и герма-нидов переходных металлов.- Пермь: Перм. гос. ун-т, 2009.- 269 с.
4. Пантелеева В. В., Шеин А. Б. Импеданс CoSi-электрода в растворе серной кислоты // Изв. вузов. Сер. хим. и хим. технол.- 2012.- Т.55, №7.- С.35-39.
5. Пантелеева В.В., Шеин А.Б. Импеданс анодных процессов на FeSi-электроде в растворе серной кислоты // Изв. вузов. Сер. хим. и хим. технол.- 2013.- Т.56, №10.- С.48-52.
6. Пантелеева В. В., Шеин А. Б. Рост анодных оксидных пленок на моносилицидах металлов триады железа в сернокислом электролите // Электрохимия.- 2014.- Т.50, №11.- С.1152-1159.
7. Батенков В. А. Электрохимия полупроводников.- Барнаул: Изд-во Алт. ун-та, 2002.- 162 с.
8. Кичигин В. И., Шеин А. Б. Электрохимическая импедансная спектроскопия анодных процессов на Co2Si-электроде в растворах серной кислоты // Физикохимия поверхности и защита материалов.- 2012.- Т.48, №2.- С.251-258.
9. Кичигин В. И., Шеин А. Б. Анодное растворение Co2Si-электрода в растворе серной кислоты с добавками фторида натрия. Импедансная спектроскопия // Вестник Пермского университета. Химия.- 2012.- № 3(7).- С.24-27.
10. Тикканен М., Туоминен Т. Анодное поведение кобальта / Труды III междунар. конгресса по коррозии металлов.- М.: Мир, 1968.- С. 492503.
11. Пантелеева В. В., Шеин А. Б., Кичигин В. И. Импеданс NiSi-электрода в растворе серной кислоты в области активно-пассивного перехода // Физикохимия поверхности и защита материалов.- 2014.- Т.50, №4.- С.374-380.
12. Сухотин A. M., Ганкин E. A., Хентов А. И. Анодное поведение пассивного железа и Fe3O4 в растворах HClO4 и H2SO4 / Пассивность и коррозия металлов.- Л.: Химия, 1975.- С.4-15.
13. Macdonald D. D., Liong Ru-Yu, Pound B.G. An electrochemical impedance study of the passive film on single crystal Ni( 111) in phosphate solutions // J. Electrochem. Soc.- 1987.-V. 134, №12.- Р.2981-2986.
14. Lоchel B., Strehblow H.-H. Breakdown of passivity of iron by fluoride // Electrochim. Acta.- 1983.- V.28, №4.- P.565-571.
15. Лимонова Л. П., Рейнгеверц М. Д., Зотиков В. С. О нарушении пассивности железа фторидами в сульфатных растворах // Защита металлов.-1986.- Т.22, №1.- С.33-38.
16. Lоchel B., Strehblow H.-H., Sakashita M. Breakdown of passivity of nickel by fluoride. I. Electrochemical studies // J. Electrochem. Soc.- 1984.- V.131, №3.- P.522-529.
References
1. Gel'd P.V., Sidorenko F.A. Silitsidy pere-khodnykh metallov chetvertogo perioda [Silicides of transition metals of the fourth period]. Moscow, Metallurgiya Publ., 1981, 632 p.
2. Herranen M., Delblanc Bauer A., Carlsson J.-O., Bunshah R.F. [Corrosion properties of thin molybdenum silicide films]. Surf. Coat. Technol., 1997, v. 96, no. 2-3, pp. 245-254. doi: 10.1016/S0257-8972(97)00124-2.
3. Shein A. B. Elektrokhimiya silitsidov i germa-nidov perekhodnykh metallov [Electrochemistry silicides and germanides of transition metals]. Perm', Perm. gos. un-t Publ., 2009, 269 p.
4. Panteleeva V.V., Shein A.B. Impedans CoSi-elektroda v rastvore sernoi kisloty [Impedance of CoSi-electrode in sulfuric acid solution]. Izvestiya VUZov. Khimiya i khimicheskaia tekhnologiya [Proceedings of the higher educational institutions. Chemistry and chemical technology], 2012, v. 55, no. 7, pp. 35-39.
5. Panteleeva V.V., Shein A.B. Impedans anodnykh protsessov na FeSi-elektrode v rastvore sernoi kisloty [Impedance anodic processes of FeSi-electrode in sulfuric acid solution]. Izvestiya VUZov. Khimiya i khimicheskaia tekhnologiya [Proceedings of the higher educational institutions. Chemistry and chemical technology], 2013, v. 56, no. 10, pp. 48-52.
6. Panteleeva V.V., Shein A.B. [Growth of anodic oxide films on iron-triad metal monosilicides in sulfuric acid electrolyte]. Russian Journal of Electrochemistry, 2014, v. 50, no. 11, pp. 11521159. doi: 10.1134/S102319351411007X.
7. Batenkov V.A. Elektrokhimiya poluprovod-nikov [Electro-chemistry of semiconductors]. Barnaul, Alt. un-t Publ., 2002, 162 p.
8. Kichigin V.I., Shein A.B. [Electrochemical impedance spectroscopy of anodic processes on Co2Si electrode in sulfuric acid solutions]. Protection of Metals and Physical Chemistry of Surfaces, 2012, v. 48, no. 2, pp. 251-258. doi: 10.1134/ S2070205112020098.
9. Kichigin V.I., Shein A.B. Anodnoe povedenie Co2Si-elektroda. Utochnennaya model' selektiv-nogo rastvoreniya kobal'ta [Anodic behavior Co2Si-electrode. A refined model of selective dissolution of cobalt]. Vestnik Permskogo universiteta. Ser. Khimiya [Journal of Perm State University. Ser. Chemistry], 2013, no. 3(11), pp. 24-26.
10. Tikkanen M., Tuominen T. Anodnoe povedenie kobal'ta [Anodic behavior of cobalt]. Trudi III mezhdunar. kongressa po korrozii metallov [Proceedings of the Third International Congress on metal corrosion], Moscow, Mir Publ., 1968, pp. 492-503.
11. Panteleeva V.V., Shein A.B., Kichigin V.I. [Impedance of NiSi electrode in sulfuric-acid solution in the active-passive transition range]. Protection of Metals and Physical Chemistry of Surfaces, 2014, v. 50, no. 4, pp. 374-380. doi: 10.1134/S2070205114040121.
12. Sukhotin A.M., Gankin E.A., Khentov A.I. Anodnoe povedenie passivnogo zheleza i Fe3O4 v rastvorakh HClO4 i H2SO4 [Anodic behavior of
17. Knotter D. M. Etching mechanism of vitreous silicon dioxide in HF-based solutions // J. Am. Chem. Soc.- 2000.- V.122, №18.- P.4345-4351.
18. Пантелеева В. В., Шеин А. Б. Анодное окисление моносилицида железа в сернокислом фто-ридсодержащем электролите // Конденсированные среды и межфазные границы.- 2015. — Т. 17, № 1.- С. 95-105.
19. Armstrong R. D. Electrode impedance for the active-passive transition // J. Electroanal. Chem.- 1972.- V.34, №2.- Р.387-390.
20. Пантелеева В. В. Анодные процессы на моносилицидах металлов триады железа в кислых средах: Автореф. ...канд. хим. наук.- Воронеж: Воронежский государственный университет, 2014.- 16 с.
21. Пантелеева В. В., Шеин А. Б. Анодное растворение моносилицида железа в сернокислом электролите, содержащем фторид натрия // Вестник Тамбовского университета. Серия: Естественные и технические науки.- 2013.- Т.18, №5.- С.2237-2240.
22. Эпельбойн И., Кеддам М., Морель Ф. Демонстрация стадийного протекания реакций на железном, никелевом и хромовом электродах в сернокислых растворах / Труды III междунар. конгресса по коррозии металлов.- М.: Мир, 1968.- С. 110-118.
passive iron and Fe3Û4 in the solutions HClO4 and H2SO4]. Passivnost' i korroziya metallov [Passivity and corrosion of metals], Leningrad, Khimiya Publ., 1975, pp. 4-15.
13. Macdonald D.D., Liong Ru-Yu, Pound B.G. [An electrochemical impedance study of the passive film on single crystal Ni( 111 ) in phosphate solutions]. J. Electrochem. Soc., 1987, v. 134, no. 12, pp. 2981-2986. doi: 10.1149/1.2100326.
14. Lochel B., Strehblow H.-H. [Breakdown of passivity of iron by fluoride]. Electrochim. Acta,
1983, v. 28, no. 4, pp. 565-571. doi: 10.1016/ 0013-4686(83)85043-9.
15. Limonova L.P., Reingeverts M.D., Zotikov V.S.
0 narushenii passivnosti zheleza ftoridami v sul' fatnykh rastvorakh [Violation of the passivity of iron fluoride sulfate solutions]. Zashchita metallov [Protection of Metals], 1986, v. 22, no. 1, pp. 33-38.
16. Lochel B., Strehblow H.-H., Sakashita M. [Breakdown of passivity of nickel by fluoride. I. Electrochemical studies]. J. Electrochem. Soc.,
1984, v. 131, no. 3, pp. 522-529. doi: 10.1149/ 1.2115620.
17. Knotter D.M. [Etching mechanism of vitreous silicon dioxide in HF-based solutions]. J. Am. Chem. Soc., 2000, v. 122, no. 18, P.4345-4351. doi: 10.1021/ja993803z.
18. Panteleeva V.V., Shein A.B. Anodnoe okislenie monosilitsida zheleza v sernokislom ftorid-soderzhashchem elektrolite [Anodic oxidation monosilicide iron in sulfuric acid fluoride-containing electrolyte]. Kondensirovannye sredy
1 mezhfaznye granitsy [Condensed matter and Interphases], 2015, v.17, no. 1, pp. 95-105.
19. Armstrong R.D. [Electrode impedance for the active-passive transition]. J. Electroanal. Chem., 1972, v. 34, no. 2, pp. 387-390. doi: 10.1016/ S0022-0728(72)80411-X.
20. Panteleeva V.V. Anodnye protsessy na monosilitsidakh metallov triady zheleza v kislykh sredakh. Avtoref. kand. khim. nauk [Anodic processes on monosilicides iron triad metals in acidic media. Cand. chem. sci. diss.]. Voronezh, 2014, 16 p.
21. Panteleeva V.V., Shein A.B. Anodnoe rastvore-nie monosilitsida zheleza v sernokislom elektrolite, soderzhashchem ftorid natriya [Monosilicide anodic dissolution of iron in sulfuric acid electrolyte containing sodium fluoride]. Vestnik Tambovskogo universiteta. Ser.: Estest-vennye i tekhnicheskie nauki [Journal Tambov University. Ser.: Natural and Technical Sciences], 2013, v. 18, no. 5, pp. 2237-2240.
22. Epel'boin I., Keddam M., Morel' F. Demon-stratsiya stadiinogo protekaniya reaktsii na zheleznom, nikelevom i khromovom elektrodakh v sernokislykh rastvorakh [Demonstration of phasic reactions on iron, nickel and chromium electrodes in sulfuric acid solutions]. Trudy III mezhdunar. kongressa po korrozii metallov [Proceedings of the Third International Congress on metal corrosion], Moscow, Mir Publ., 1968, pp. 110-118.
