Морфология поверхности приборных слоев структур КНИ и КНС, подвергнутых радиационным воздействиям Текст научной статьи по специальности «Нанотехнологии»

ФИЗИКА ТВЁРДОГО ТЕЛА

УДК 539.534.9

МОРФОЛОГИЯ ПОВЕРХНОСТИ ПРИБОРНЫХ СЛОЕВ СТРУКТУР КНИ И КНС, ПОДВЕРГНУТЫХ РАДИАЦИОННЫМ

ВОЗДЕЙСТВИЯМ

© 2010 г. Е.С. Демидов 1, С.Ю. Зубков 1, В.В. Карзанов 1, В.В. Сдобняков 1,

Д.О. Филатов 1, Н.Д. Абросимова 2, А.Н. Качемцев 2, В.К. Киселев 2

1 Нижегородский госуниверситет им. Н.И. Лобачевского 2 Научно-исследовательский институт измерительных систем им. Ю.Е. Седакова

[email protected]

Поступила в редакцию 01.02.2010

Проведено сравнительное исследование влияния радиационного воздействия на морфологию поверхности приборных слоев структур «кремний на изоляторе» и «кремний на сапфире». До облучения морфология поверхности пленок кремния имела блочный характер с ярко выраженной мозаичностью и средней шероховатостью около 25 нм. Облучение электронами и рентгеновским излучением приводило к отчетливому сглаживанию рельефа поверхности пленки кремния в структурах КНС и КНИ, к более однородному характеру микрорельефа поверхности, т.е. радиационные воздействия позволили модифицировать морфологию поверхности кремниевых гетероструктур.

Ключевые слова: радиационная стойкость, КНС-структуры, КНИ-структуры, морфология поверхности.

Введение

Одна из наиболее актуальных фундаментальных проблем современной микроэлектроники - повышение радиационной стойкости изделий. Ее решение крайне важно для создания элементной базы космических систем связи, систем контроля и управления ядерными реакторами на атомных станциях и т.д. Большие надежды здесь были связаны со структурами «кремний на диэлектрике» (КНД) [1]. Имеется несколько методов создания таких структур, достигших сейчас промышленного и полупромышленного уровня. Первым по времени создания следует считать эпитаксиальное наращивание кремния на сапфировых подложках (КНС-структуры). Можно ожидать, что такие структуры будут наиболее устойчивыми к отдельным видам радиационных воздействий, но этот метод имеет ограниченное применение из-за высокой стоимости сапфировых подложек. Последние по времени появления - методы сращивания пластин кремния, когда одна из них (или обе) имеет окисную пленку на поверхности, с последующим водородным отслоением избыточной части кремния (методы «Smart cut»

и «Dele cut»). В последних случаях такие структуры принято называть «кремний на изоляторе» (КНИ). Оба метода оказались значительно дешевле по сравнению с первым. В связи с этим представляет интерес сравнение таких структур по физическим свойствам, в том числе по их реакции на различные виды радиационных воздействий.

В литературе, например в [2, 3], присутствуют отрывочные данные о том, что воздействие на КНИ-структуры даже низкоэнергетическим излучением может приводить к образованию и перемещению точечных дефектов, генерации избыточных носителей заряда в приборном слое кремния, накоплению положительного заряда в объеме скрытого диэлектрика и на его границах с кремнием, но необходимо выяснить механизмы и закономерности влияния ионизирующего излучения на свойства КНИ-структур, а также на параметры изготовленных на их основе электронных приборов. На основе полученных результатов могут быть разработаны методики управления свойствами этих структур, а также методы отбраковки структур при изготовлении радиационно-стойких СБИС.

Методика эксперимента

Объектами исследования в настоящей работе служили поверхности приборных слоев структур КНИ и КНС. Структуры КНИ были созданы в ИФП СО РАН (г. Новосибирск) по технологии «Dele cut» с ориентацией поверхности (001), толщиной приборного слоя кремния 300 нм, скрытого диоксида кремния - 310 нм, общая толщина структуры 460 мкм. Структуры второго типа представляли собой эпитаксиальные пленки кремния и-типа с удельным сопротивлением 5-60 Ом • см с ориентацией - (100), толщиной 0.3 и 0.6 мкм, выращенные в НИФТИ ННГУ (г. Н. Новгород) методом пиролиза мо-носилана на сапфировых подложках ориентации (0112). Производилось сопоставление морфологий поверхности приборных слоев этих структур и стандартной кремниевой пластины марки КЭФ-4.5, а также гомоэпитаксиальной пленки кремния, выращенной на кремниевой подложке.

Структуры КНС подвергались радиационному воздействию рентгеновским излучением на установке «Аргумент-1000». Средняя эффективная энергия квантов составляла 75 кэВ. Облучение производилось в импульсном режиме. Для разных образцов количество импульсов варьировалось от 10 до 40. Длительность импульса составляла 2.5 нс, скважность 10 мин.

Облучение КНС-структур электронами выполнялось в электронном микроскопе расфокусированным пучком с энергией 50 кэВ с флю-1П16 -2 енсом 10 см .

Исследование морфологии поверхности структур производилось на сканирующем зондовом

микроскопе (СЗМ) Solver Pro в режиме полукон-тактной атомно-силовой микроскопии (АСМ), использовались кремниевые зонды марки NSG 11 производства компании NT MDT. Перед изучением морфологии поверхности все образцы подвергались химическому травлению во фтористоводородной кислоте (49% HF) в течение 2-4 мин с последующей промывкой в деионизованной воде для удаления естественного окисла.

Анализ АСМ-данных проводился на программном обеспечении SPM Lab 5.0 Analysis Only фирмы Veeco Instruments Ltd. Количественно морфология поверхности характеризовалась средней высотой неровностей

1 N

W=N £ *„ (1)

где zi - высота поверхности в i-й точке АСМ-скана, N - число точек в анализируемой области скана.

Результаты и обсуждение

1. Исходные структуры. Сравнительное исследование морфологии поверхности приборных слоев структур (КНИ) и стандартных кремниевых пластин марки КЭФ-4.5 методом АСМ показало, что морфология поверхности пленок кремния имеет блочный характер с ярко выраженной мозаичностью. Типичное изображение поверхности представлено на рис. 1. Средний латеральный размер неровностей на поверхности структуры КНИ составляет 0.27 ± ± 0.10 нм, тогда как на поверхности пластины КЭФ-4.5 - 0.20±0.07 нм. Средняя высота неровности поверхности структуры КНИ составляла около 27 нм, поверхности пластины КЭФ-4.5 -

Рис.1. АСМ-изображение поверхности КНИ-структуры после удаления естественного окисла без дополнительной обработки

- 0.32 ± 0.1 нм. При разбросе параметров усреднение производилось по 6 различным точкам поверхности пластин.

Характерной особенностью морфологии эпитаксиальных слоев кремния в структурах КНС толщиной 0.3 мкм являлась сильная мозаичность, ячеистость, гранулированность или блочность (рис. 2). Средняя высота неровности составляла около 25 нм. Обусловлено это тем, что структура КНС является гетероэпитакси-альной, рост и формирование монокристалли-ческой пленки кремния происходит в условиях влияния таких факторов, как кристаллографическое несоответствие параметров кристаллической решетки подложки (А1203) и кремния, различие коэффициентов термического расширения, механические напряжения и др. Под-

тверждением данного предположения служит сравнение с типичным изображением поверхности гомоэпитаксиальной структуры кремния на кремниевой подложке с теми же параметрами, что и структуры КНС. Поверхность гомоэпи-таксиальной структуры имеет более однородный характер и более гладкая, средняя шероховатость составляет не более 2 нм. Во впадинах микрорельефа поверхности кремния структуры КНС наблюдаются резкие возвышенности (пики). Данная особенность морфологии поверхности может быть обусловлена тем, что в гетеро-эпитаксиальных пленках КНС плотность дислокаций несоответствия очень велика, по порядку величины ~ 109 см-2. Вероятно, они концентрируются в первую очередь в областях впадин микрорельефа, как поверхностях с отрицатель-

Ощп 5цгв Юрт 0 цлп 5цт Юшп

а) б)

Оцт Опт

ной кривизной. Другой причиной возникновения указанных особенностей морфологии может являться наличие скоплений загрязнений, в том числе оксидной фазы, во впадинах поверхности. Это предположение подтверждается морфологией поверхности структуры КНС, определенной после удаления пленки естественного оксида химическим травлением (рис. 2).

На рис. 3 представлено АСМ-изображение КНС-структуры толщиной 0.6 мкм без дополнительной обработки. Сравнивая данные рис. 2 и 3, можно отметить, что морфология поверхности пленки кремния в структурах КНС толщиной 0.3 мкм отличается от морфологии поверхности пленки кремния толщиной 0.6 мкм. На первом из

них можно видеть правильные фигуры роста эпитаксиальной пленки, на втором же правильность фигур утрачивается, они приобретают более сглаженную форму. Известно [4], что при продолжении роста пленок до больших толщин они становятся монокристаллическими, т.е. влияние переходного растущего слоя уменьшается.

2. Результаты радиационного воздействия. На рис. 4 и 5 представлены АСМ-изображения типичных участков поверхности структур КНС, подвергнутых радиационным воздействиям. Видно, что после облучения электронами и рентгеновского воздействия остались единичные области с большим перепадом высот, но в

О цп) Овт

целом поверхность стала ровнее, площадь поверхности с близкими высотами микронеровностей рельефа увеличилась. Этот эффект может быть обусловлен следующим. Растущая эпитаксиальная пленка кремния в любой гетероэпи-таксиальной структуре испытывает механические напряжения между пленкой и подложкой и находится в термодинамически неравновесном состоянии. В этом случае достаточно небольших внешних воздействий, например облучения низкоэнергетическими электронами или рентгеновским излучением, чтобы произошли перераспределения в дефектно-примесной системе кремниевой пленки, распад и перестройка сложных (ассоциированных) дефектов, следствием чего может быть выравнивание микрорельефа ее поверхности.

Представленные выше результаты хорошо согласуются с данными, опубликованными в недавних работах [5, 6], где также наблюдалось изменение микрорельефа приборного слоя КНИ-структур после рентгеновского облучения, а выдержка образцов в нормальных условиях в течение нескольких недель сопровождалась релаксацией среднего значения микрошероховатости и удельного электрического сопротивления поверхности приборных слоев, которая протекала осциллирующим образом.

На одном из образцов КНС было замечено, что на поверхности эпитаксиальной пленки кремния, подвергнутой рентгеновскому облучению, появилась область скопления островков кремния ориентации (111), тогда как сама пленка ориентирована в направлении (100). Однако оценить площадь данной области пока не удалось.

Оцт 5илі Юцгп Oînn 5um 10um

Рис. 5. АСМ-изображение поверхности КНС-структуры толщиной 0.3 мкм после облучения рентгеновскими лучами: а) исходный скан, б) изображение с боковой подсветкой, в) трехмерное изображение

Заключение

Радиационные воздействия - облучение электронами и рентгеновское излучение - приводят к сглаживанию рельефа поверхности пленки кремния в структурах КНС и КНИ, к более однородному характеру микрорельефа поверхности. Таким образом, полученные данные указывают на то, что радиационные воздействия позволяют модифицировать морфологию поверхности кремниевых гетероструктур.

Работа выполнена при поддержке гранта РФФИ, проект: 08-02-97044ра, и программы Рособразования, проект: РНП 2.1.1/933.

Список литературы

1. Celle G.K., Sorin C. // J. of Appl. Phys. 2003. V. 93 № 9. P. 4955-4978.

2. Киселев А.Н., Перевощиков В.А., Скупов В.Д. и др. // Тез. докл. на XII Международной конференции по радиационной физике и химии неорганических материалов «РФХ-12». Томск, 2003. С. 150.

3. Николаев Д.В., Антонова И.В., Наумова О.В. и др. // ФТП. 2003. 37. С. 443-449.

4. Бургер Р., Донован Р. Основы технологии кремниевых ИС: Окисление, диффузия, эпитаксия. М.: Мир, 1969. 454 с.

5. Абросимова Н.Д., Минеев М.Н., Скупов В.Д. и др. // Тез. докл. V Международной конференции и IV школы молодых ученых и специалистов по актуальным проблемам физики, материаловедения, технологии и диагностики кремния, нанометровых структур и приборов на его основ «Кремний-2008». Черноголовка, 1-4 июля 2008 г. М.: Издательская группа «Граница», 2008. С.165.

6. Абросимова Н.А., Асмолова Н.Ф., Гаранин А.Г. и др. // Новые промышленные технологии. 2008. № 6. С. 60-63.

SURFACE MORPHOLOGY OF SOI AND SOS DEVICE STRUCTURES SUBJECTED

TO RADIATION EXPOSURE

E.S. Demidov, S. Yu. Zubkov, V. V. Karzanov, V. V. Sdobnyakov,

D.O. Filatov, N.D. Abrosimova, A.N. Kachemtsev, V.K. Kiselev

A comparative study has been carried out of the radiation exposure influence on the surface morphology of sili-con-on-insulator and silicon-on-sapphire device structures. Before the exposure to radiation, the surface morphology of silicon films had a block nature with very much pronounced mosaic structure and average roughness of about 25 nm. Electron and X-ray radiation led to distinct relief smoothing of silicon film surface of SOI and SOS structures resulting in a more uniform nature of the surface microrelief. Thus, the radiation exposure made it possible to modify the surface morphology of silicon heterostructures.

Keywords: radiation resistance, SOS structure, SOI structure, surface morphology.