68 ТРУДЫ БГТУ. 2014. № 6. Физико-математические науки и информатика. С. 68-70
УДК 539.213.2
В. К. Долгий, кандидат физико-математических наук, ассистент (БГТУ);
А. Е. Почтенный, кандидат физико-математических наук, доцент (БГТУ)
МОДЕЛИРОВАНИЕ АДСОРБЦИОННО-РЕЗИСТИВНОГО ОТКЛИКА
В СЕНСОРНЫХ СЛОЯХ ОРГАНИЧЕСКИХ ПОЛУПРОВОДНИКОВ
Предложенная теоретическая модель адсорбционно-резистивного отклика примесного органического полупроводника при сопоставлении с экспериментальными данными позволила установить механизм сенсорного отклика на диоксид азота пленок ионно-легированного фталоциа-нина меди. Показано, что ионно-имплантированная примесь увеличивает сенсорный отклик, если электронные состояния этой примеси располагаются по шкале энергий ниже собственных, а состояния регистрируемого газа - между собственными и состояниями ионно-имплантиро-ванной примеси. Установлено, что максимальный сенсорный отклик наблюдается при концентрации ионно-имплантированной примеси, соответствующей переходу от собственной к примесной проводимости примесного органического полупроводника.
The proposed theoretical model of adsorption-resistive response of organic impurity in semiconductors, when compared with experimental data, allowed to establish the mechanism of the touch response to nitrogen dioxide films of ion-doped copper phthalocyanine. It is shown that the ion-implanted impurity increases touch response, if the electronic states of the impurity distribution rely on the energy scale below their own, and the state of the recorded gas - between its own states and ion-implanted impurity. Found that the maximum touch response observed at a concentration of ion-implanted impurity corresponding to the transition from private to extrinsic impurity organic semiconductor.
Введение. Многие органические полупроводники, например металлфталоцианины [1], под воздействием газовой среды изменяют свои электрофизические характеристики, в частности удельную проводимость, что позволяет использовать пленки таких материалов как чувствительные элементы сенсоров газового анализа. Чувствительность этих сенсоров во многом определяется их исходными электрическими и сорбционными свойствами, которые могут быть оптимизированы ионно-лучевой обработкой [2]. Ионное легирование вызывает не только изменение проводимости пленок фталоциа-нинов в вакууме, но и изменения адсорбцион-но-резистивного отклика пленок на присутствие адсорбируемого газа.
Целью данной работы является выяснение механизма влияния примеси (например, ионно-имплантированной) на чувствительность сенсорных слоев органических полупроводников.
Основная часть. На рис. 1 представлена кинетика сенсорного отклика пленок фтало-цианина меди на подложках из диоксида кремния с нагревателем, терморезистором и двумя системами электродов растрового типа, которые имплантировались ионами платины с энергией 15 кэВ в интервале доз от 1012 до 1013 см-2 на диоксид азота при температуре 80°С.
Как показывает рис. 1, ионная имплантация увеличивает относительную чувствительность пленок фталоцианина при малых дозах ионно-имплантированной примеси. По мере увеличения дозы имплантируемой примеси относительная чувствительность уменьшается и ста-
новится меньше, чем у исходной пленки. При этом расхождение значений относительной чувствительности для образцов одной серии также уменьшается и при дозе 1013 см-2 достигает 10%.
Рис. 1. Кинетика сенсорного отклика ионно-легированного платиной фталоцианина меди на диоксид азота при температуре 80°С:
1 - исходная пленка; 2 - при Ф = 1012 см 2; 3 - при Ф = 5 ■ 1012 см 2; 4 - при Ф = 1013 см 2
С целью определения механизма влияния примеси на чувствительность сенсорных слоев органических материалов было выполнено моделирование адсорбционно-резистивного отклика с помощью теоретической модели прыжковой проводимости [3], расширенной на случай наличия двух типов примесей (ионно-имплантированной и регистрируемого газа).
При этом проводимость будет определяться как собственными центрами локализации, так и
Моделирование адсорбиионно-резистивного отклика в сенсорных слоях органических полупроводников 69
центрами локализации, обусловленными введенными примесями.
Удельные проводимости а, каждой системы электронных энергетических уровней с номерами г и радиусами локализации электронов а, можно представить как
( „ Р ^
а = КзХ ехР
а
1/3
Е
а
кТ
(1)
где (а03)г - постоянные, зависящие от радиуса локализации; а = 1,73 - перколяционная константа; п, - концентрации центров локализации, соответствующие различным электронным энергетическим уровням; Еаг - энергии активации соответствующих этим уровням проводи-мостей.
Величины Еа, определяются соотношениями
Ег = ■
0,99е2 п1/3 4пв08
(2)
Тогда удельная проводимость материала, содержащего примеси, будет равна
(3)
г =1
а наблюдаемая экспериментально энергия активации проводимости определяется как
г = N
X Еага г
Еа =
г=1
(4)
Концентрации центров локализации должны быть связаны между собой соотношением
п = п1 + п2 + п3 = еоп81;,
(5)
где п - полная концентрация центров локализации, равная концентрации собственных центров локализации в материале без примесей; п1 - концентрация центров локализации, соответствующая собственным состояниям; п2 -концентрация ионно-имплантированной примеси; п3 - концентрация регистрируемого газа.
Выразив относительные концентрации ион-но-имплантированной примеси х и регистрируемого газа г через полную концентрацию центров локализации как
г = -
(6)
Ц; х =
п п
и решая совместно систему уравнений (5)-(6), получим
п1 = п (1 - х - г); п2 = пх; п3 = пг. (7)
Тогда удельная проводимость материала с примесями и наблюдаемая экспериментально
энергия активации проводимости будут определяться по формулам:
а = а1 + а2 + а3;
Е = Еа1а 1 + Еа 2 а2 + Еа 3а3
(8)
Предположим, что энергетические уровни ионно-имплантированной примеси и регистрируемого газа расположены в области собственных электронных состояний фталоцианина (рис. 2).
Е
Собственный Примесь 2 Примесь 1
Рис. 2. Расположение энергетических уровней
Для расчетов использовались значения концентрации п = 2,15 • 1026 м-3 и радиусов локализации электронов, соответствующих собственным, ионно-имплантированным (примесь 1) и регистрируемого газа (примесь 2) электронным состояниям, равные а! = 0,425 нм, а2 = 0,39 нм, а3 = 0,42 нм. Для построения зависимости проводимости от относительной концентрации х значение г принималось равным 0,1.
Результаты расчетов проводимости и относительной чувствительности, которая определялась как отношение проводимости в присутствии регистрируемого газа к проводимости без газа, представлены на рис. 3 и 4.
Как показывает рис. 4, увеличение относительной чувствительности в 12 раз происходит при относительной концентрации ионно-им-плантированной примеси, составляющей 42%.
Интерпретация полученного результата может быть осуществлена на основе теоретической модели прыжковой проводимости с использованием рис. 3.
При расположении энергетических уровней регистрируемого газа и ионно-имплантирован-ной примеси в области собственных электронных состояний фталоцианина, перенос электронов должен осуществляться по общей схеме собственных и примесных центров локализации, что и наблюдается на рис. 3. При значении относительной концентрации ионно-имплантированной примеси, составляющей 42%, происходит переход от примесной проводимости к собственной.
г =1
70
В. К. Долгий, А. Е. Почтенный
1,0 х
Рис. 3. Зависимость проводимости
от относительной концентрации ионно-имплантированной примеси:
1 - с учетом только собственных состояний;
2 - с учетом только примесных состояний;
3 - без учета регистрируемого газа;
4 - с учетом регистрируемого газа
При дальнейшем увеличении концентрации ионно-имплантированной примеси наблюдается только уменьшение относительной чувствительности.
40 20
0
0,1 0,3 0,5 0,7 х
Рис. 4. Зависимость относительной чувствительности от относительной концентрации ионно-имплантированной примеси
при а1 = 0,425 нм; а2 = 0,39 нм; а3 = 0,42 нм
В случае когда энергетические уровни ионно-имплантированной примеси не перекрываются с собственными электронными состояниями фталоцианина, перенос электронов должен осуществляться по одному из двух каналов - по собственным либо примесным локализованным состояниям, одно из которых вследствие экспоненциальной зависимости электропроводности от концентрации центров локализации является экспоненциально преобладающим. Тогда относительная чувствительность при увеличении концентрации ионно-имплантированной примеси должна монотонно убывать. Для расчетов использовались значения а\ = 0,425 нм, а2 = 0,22 нм,
а3 = 0,42 нм. Результаты расчетов представлены на рис. 5.
Заключение. Предложена теоретическая модель адсорбционно-резистивного отклика примесного органического полупроводника. Сопоставление расчетов по предложенной модели с экспериментальными данными позволило установить механизм сенсорного отклика на диоксид азота пленок ионно-легированного фталоциани-на меди.
S
6000
3000
0
0,2
0,4
0,6
•••ч»—
0,8
Рис. 5. Зависимость относительной чувствительности от относительной концентрации ионно-имплантированной примеси
при а1 = 0,425 нм; а2 = 0,22 нм; а3 = 0,42 нм
Показано, что ионно-имплантированная примесь увеличивает сенсорный отклик, если электронные состояния этой примеси располагаются по шкале энергий ниже собственных, а состояния регистрируемого газа - между собственными и состояниями ионно-имплантирован-ной примеси. Установлено, что максимальный сенсорный отклик наблюдается при концентрации ионно-имплантированной примеси, соответствующей переходу от собственной к примесной проводимости примесного органического полупроводника.
Литература
1. Wright J. D. Gas adsorption and conductivity of phthalocyanines // Progress in surface science. 1989. Vol. 31. P. 1-60.
2. Pochtenny А. Е., Fedoruk G. G., Ilyusho-nok I. P., Misevich A. V. The modified metall-phthalocyanines: Electron transport mechanism and gas sensing properties // Electron Technology. 2000. Vol. 33, No. 1/2. P. 145-152.
3. Почтенный А. Е., Мисевич А. В. Влияние адсорбированного кислорода на проводимость пленок фталоцианина свинца // Письма в ЖТФ. 2003. Т. 29, № 1. С. 56-61.
Поступила 27.02.2014
x
0