Научная статья на тему 'Метрология наукоемкого производства'

Метрология наукоемкого производства Текст научной статьи по специальности «Нанотехнологии»

CC BY
230
38
i Надоели баннеры? Вы всегда можете отключить рекламу.
Область наук

Аннотация научной статьи по нанотехнологиям, автор научной работы — Белоус Анатолий, Петлицкий Александр, Пилипенко Владимир, Шведов Сергей

Государственный центр «Белмикроанализ» создан в 1983 г. на НПО «Интеграл» для проведения комплексных аналитических исследований свойств полупроводниковых материалов, приборов и интегральных микросхем предприятий электронной промышленности Беларуси и Прибалтийского региона. После аттестации в Центре эталонов, стандартизации и метрологии и аккредитации на независимость и техническую компетентность первым в стране был аттестован ГКНТ и Национальной академией наук в качестве Центра коллективного пользования уникальным научным оборудованием и приборами.

i Надоели баннеры? Вы всегда можете отключить рекламу.
iНе можете найти то, что вам нужно? Попробуйте сервис подбора литературы.
i Надоели баннеры? Вы всегда можете отключить рекламу.

Metrology of high-tech industry

State centre "Belmicroanalys" was created in 1983 to conduct comprehensive analytical studies of the properties of semiconductor materials, devices and integrated circuits electronic industry enterprises of Belarus and the Baltic region. After the certification Centre of measurement standards, standardization and Metrology and accreditation on independence and technical competence of the first in the country to have been certified by the State Committee on science and technology and the National Academy of Sciences as the Center for collective use of unique scientific equipment and devices.

Текст научной работы на тему «Метрология наукоемкого производства»

Метрология наукоемкого производства

Государственный центр «Белмикроанализ» создан в 1983 г. на НПО «Интеграл» для проведения комплексных аналитических исследований свойств полупроводниковых материалов, приборов и интегральных микросхем предприятий электронной промышленности Беларуси и Прибалтийского региона. После аттестации в Центре эталонов, стандартизации и метрологии и аккредитации на независимость и техническую компетентность первым в стране был аттестован ГКНТ и Национальной академией наук в качестве Центра коллективного пользования уникальным научным оборудованием и приборами.

Анатолий Белоус,

замдиректора по научно-технической работе филиала НТЦ «Белмикросистемы» ОАО «Интеграл», доктор технических наук, профессор

Александр Петлицкий,

директор государственного Центра «Белмикросистемы», кандидат физико-математических наук

Владимир Пилипенко,

замдиректора государственного Центра «Белмикросистемы», член-корреспондент

Сергей Шведов,

директор Филиала НТЦ «Белмикросистемы» ОАО «Интеграл»

Сегодня в ЦКП работают 17 высококвалифицированных специалистов (один из которых - член-корреспондент, 3 - кандидата наук и один - аспирант), владеющих необходимыми знаниями в области современной технологии изготовления интегральных микросхем, современными методами исследований и контроля параметров материалов и изделий микроэлектроники.

Проводимые в центре «Белмикроанализ» исследования обеспечивают выполнение НИОКР по разработке и совершенствованию конструкций, техпроцессов производства продукции, поисковые работы по материаловедению для предприятий электронной промышленности, вузов и академических институтов. При этом используется уникальное современное аналитическое оборудование известных зарубежных фирм, в единичных экземплярах имеющееся в нашей стране и редкое для стран СНГ (табл. 1).

Наличие в центре широкого спектра аналитических средств и методик позволяет комплексно оценивать параметры и свойства материалов и изделий микроэлектроники, проводить арбитражную техническую экспертизу интегральных микросхем, дискретных

полупроводниковых приборов и радиокомпонентов для установления физических механизмов и причин их отказа. Контролируются технологические и конструктивные особенности интегральных микросхем; химический состав, в том числе следовых количеств, микропримесей, твердотельных материалов; прецизионные электроннно-микроскопические измерения линейных размеров в микро- и нанометровом диапазонах.

Специалисты ЦКП разработали множество методов контроля, обеспечивающих проведение исследований с применением растровой электронной микроскопии высокого разрешения, оже-электронной спектроскопии, масс-спектрометрии вторичных ионов; спектрофотометрии, спектральной эллипсометрии, оптической микроскопии высокого разрешения, зондовых измерений, С-У-метрии, вольт-амперных характеристик, тестового контроля.

«Белмикроанализ» выполняет широкий спектр работ не только для ОАО «Интеграл», структурным подразделением которого является, но и для многих предприятий и научных учреждений Беларуси и стран СНГ, причем не только в сфере электронной техники. Специалистам центра приходилось, к примеру, исследовать состав археологических объектов из бронзы и чугуна, процесс лазерной очистки художественных произведений, состав поверхности металлокордовой проволоки и т.д.

И все же основная задача центра - метрология наукоемкого производства, включающая разработку и серийное изготовление полупроводниковых при-

боров и интегральных микросхем. Это обусловлено высокой стоимостью и сложностью процесса выпуска данных изделий, включающего несколько сотен прецизионных физико-химических технологических операций. Вследствие этого метрологическое единство измерений параметров материалов, полупроводниковых структур обусловливает высокие технико-экономические показатели производства, обеспечивающие конкурентоспособность продукции как на внутреннем, так и на внешнем рынках.

Среди множества измеряемых параметров важное значение имеют количественный состав примесей (>1013 ат/см3), геометрические размеры элементов ИМС, в частности толщины тонких (>1нм) диэлектрических и полупроводниковых пленок.

«Белмикроанализ» совместно с институтами НАН Беларуси, вузами и отечественными промышленными предприятиями участвует в разработке нового поколения контрольно-измерительного оборудования. На данный момент в Центре проводится опытная эксплуа-

тация созданного совместно с Институтом тепло- и массообмена и ГНПО «Планар» сканирующего зондового микроскопа СЗМ-200. Этот уникальный прибор позволяет исследовать объекты, к примеру изделия микроэлектроники, в высокоразрешающем оптическом микроскопе с одновременным использованием атомного силового микроскопа. В результате получается трехмерное изображение выбранного топологического элемента микросхемы или дефекта кремниевой подложки с разрешением, близким к электронно-

Измерительный комплекс в составе анализатора полупроводниковых приборов Agilent В1500А и зондовой станции Cascade Summit 11000B-AP

Высокоразрешающий растровый электронный микроскоп HITACHI S-4800 с энергодисперсионным спектрометром Bruker QUANTAX 200

20 НАУКА И ИННОВАЦИИ №7(101) Июль 2011

Таблица 1. Перечень основного научного оборудования ГЦ «Белмикроанализ»

Наименование оборудования Назначение и основные характеристики

Высокоразрешающий растровый электронный микроскоп HITACHI S-4800 с энергодисперсионным спектрометром Bruker QUANTAx 200 Разрешение - 1 нм Диапазон увеличений - 20-800 000х Макс. размер образцов - 200х200х2 мм3

Автоэмиссионный растровый электронный микроскоп HITACHI S-806 Разрешение - 4 нм Диапазон увеличений - 20-100 000х Макс. размер образцов - 150х150х2 мм3

Масс-спектрометр вторичных ионов CAMECAIMS-4F Анализируемые элементы - от водорода (Н) до урана (U) Разрешение по глубине - 5-30 нм Чувствительность - а 1012 ат/см3

Электронный оже-спектрометр Perkin-Elmer PHI-660 Анализируемые элементы - от лития (Li) до урана (U) Разрешение по глубине а 3 нм Локальность - а 0,1 мкм Чувствительность - 0,1-1,0 ат %

Инфракрасный Фурье-спектрометр Bruker Vertex 70 Исследования спектров пропускания, отражения в спектральном диапазоне - 7500-375 см-1

Микроспектрофотометр Leitz MPV-SP Локальные исследования спектров поглощения, отражения, флюоресценции прозрачных материалов: локальность -10х10 мкм, спектральный диапазон - 400-800 нм

Спектральный эллипсометр ES-2 Измерение характеристик оптически прозрачных многослойных тонкопленочных материалов в диапазоне длин волн 400-1000 нм

Спектральный комплекс Солар MS-2004i Исследование спектральных характеристик фотоприемников в диапазоне длин волн А = 200-1100 нм

Программно-аппаратный комплекс на базе оптического микроскопа Leica INM100 с УФ-приставкой Оптическое увеличение 1500х, в УФ-диапазоне - 6000 х

Измерительный комплекс в составе анализатора полупроводниковых приборов Agilent В1500А и зондовой станции Cascade Summit 11000B-AP Измерения вольтамперных и вольтфарадных характеристик элементной базы ИМС в диапазоне температур Диапазон токов - 1fA - 100 mA Диапазон напряжений - 2 pV - 100 V Диапазон емкостей - 1 fF - 100 pF Диапазон сопротивлений - 0.01 mQ - 20 MO Диапазон температур - -60 °С - +150 °С

Анализатор спектра Agilent Е4402В Измерение амплитудно-частотных и шумовых характеристик приборов Диапазон частот - 100 Гц - 3 ГГц Уровень контролируемого сигнала - -80 - +30 dBm

Измерительный комплекс в составе прецизионных измерителей Agilent E4980A, Hewlett-Packard HP4061 и зондовой станции Micromanipulator 7000 Измерения вольтамперных и вольтфарадных характеристик элементной базы ИМС Диапазон токов - 1fA - 100 mA Диапазон напряжений - 2 pV - 100 V Диапазон емкостей - 0,1 nF - 100 pF Диапазон сопротивлений - 0.01 mQ - 20 MO Диапазон измерительных частот - 20 Hz - 2 MHz

микроскопическому. При этом нет необходимости в перегрузке образцов в высоком вакууме.

Центр участвует в разработке двух новых типов приборов для контроля процесса производства микроэлектронных изделий. Со специалистами приборостроительного факультета БНТУ создается установка для оперативного неразрушающего контроля пространственного распределения параметров полупроводниковых пластин и тонкопленочных систем кремний/диэлектрик. Кроме этого, на базе сканирующего зондового микроскопа СЗМ-200 совместно с Институтом прикладной физики, ИТМО и ГНПО «Планар» планируется разработать микроволновой зондовый микроскоп, который в мире производится в единичных экземплярах, позволяющий анализировать микронеоднородности распределения проводимости полупроводниковых материалов.

В работах по созданию новой аналитической базы для электронной промышленности удачно сочетаются знания и опыт сотрудников центра в области контроля полупроводниковых материалов и структур с опытом специалистов вузов, академических институтов, ГНПО «Планар» в сфере производства прецизионного оборудования. ГЦ «Бел-микроанализ» участвует в выполнении государственных программ научных исследований, проводит совместные изыскания с БГУИР и НАН Беларуси по заданиям госпрограммы «Нанотехноло-гии и наноматериалы».

В связи с возрастающей стоимостью углеводородного сырья становится все более актуальным использование альтернативных возобновляемых источников энергии. Эту задачу коллективы центра и НПЦ по материаловедению пытаются решить в рамках программ «Электроника и фотоника», создавая перспективные солнечные элементы на основе многокомпонентных полупроводниковых материалов с повышенным КПД.

i Надоели баннеры? Вы всегда можете отключить рекламу.