Научная статья на тему 'Етрологическое обеспечение технологических процессов получения электронных (ионных) пучков'

Етрологическое обеспечение технологических процессов получения электронных (ионных) пучков Текст научной статьи по специальности «Электротехника, электронная техника, информационные технологии»

CC BY
81
28
i Надоели баннеры? Вы всегда можете отключить рекламу.
Ключевые слова
ЭЛЕКТРИЧЕСКАЯ ДУГА / ELECTRIC ARCH / ПЛАЗМАТРОН / PLASMATRON / ЭЛЕКТРОННЫЙ ПУЧОК / ELECTRON BEAM

Аннотация научной статьи по электротехнике, электронной технике, информационным технологиям, автор научной работы — Шевелева А. И., Дерменева А. Д., Казьмин Б. Н.

Определено необходимое метрологическое обеспечение технологических процессов получения электронных (ионных) пучков для достижения единства и требуемой точности измерений.

i Надоели баннеры? Вы всегда можете отключить рекламу.
iНе можете найти то, что вам нужно? Попробуйте сервис подбора литературы.
i Надоели баннеры? Вы всегда можете отключить рекламу.

METROLOGICAL ENSURING TECHNOLOGICAL PROCESSES OF RECEIVING ELECTRONIC (IONIC) BUNCHES

Necessary metrological ensuring technological processes of receiving electron (ionic) beams for achievement of unity and the demanded accuracy of measurements is defined.

Текст научной работы на тему «Етрологическое обеспечение технологических процессов получения электронных (ионных) пучков»

УДК 621.3 (075.3)

МЕТРОЛОГИЧЕСКОЕ ОБЕСПЕЧЕНИЕ ТЕХНОЛОГИЧЕСКИХ ПРОЦЕССОВ ПОЛУЧЕНИЯ ЭЛЕКТРОННЫХ (ИОННЫХ) ПУЧКОВ

А. И. Шевелева1, А. Д. Дерменева2 Научный руководитель - Б. Н. Казьмин

1Сибирский государственный аэрокосмический университет имени академика М. Ф. Решетнева

Российская Федерация, 660037, г. Красноярск, просп. им. газ. «Красноярский рабочий», 31 Е-mail: [email protected], [email protected]

Определено необходимое метрологическое обеспечение технологических процессов получения электронных (ионных) пучков для достижения единства и требуемой точности измерений.

Ключевые слова: электрическая дуга, плазматрон, электронный пучок.

METROLOGICAL ENSURING TECHNOLOGICAL PROCESSES OF RECEIVING ELECTRONIC (IONIC) BUNCHES

A. I. Sheveleva1, A. D. Dermeneva2

Scientific Supervisor - B. N. Kazmin

1Reshetnev Siberian State Aerospace University 31, Krasnoyarsky Rabochy Av., Krasnoyarsk, 660037, Russian Federation E-mail: [email protected], [email protected]

Necessary metrological ensuring technological processes of receiving electron (ionic) beams for achievement of unity and the demanded accuracy of measurements is defined.

Keywords: electric arch, plasmatron, electron beam.

Электродуговые плазмотроны (ЭДП), схема электрической цепи которого представлена на рисунке, могут обладать КПД более 50 %. Для этого необходимо, чтобы внутреннее сопротивление источника питания электрической дуги было меньше сопротивления электрической дуги в процессе ее горения.

(R, = Rd (1 -np)/Пр,

где Ri - внутреннее сопротивление источника питания; Rd - сопротивление рабочей среды между катодом «К» и анодом «А» в процессе горения электрической дуги; nр - требуемый КПД плазмотрона).

Электродуговой плазматрон в процессе ионизации рабочей среды разделяет нейтральную плазму на два потока противоположно заряженных частиц, движущихся в противоположных направлениях [1].

Катионы летят на катод ЭДП, выбивая из него вторичные электроны. Электроны и анионы устремляются к аноду ЭДП, выбивая из него вторичные катионы. Под действием анодного поля электронной пушки (ЭП) создаваемого анодами А1 и А2 на которые подаются положительные импульсы напряжения, под действием которых электроны выходят из области электрической дуги (ЭД) устремляясь к аноду А1, создающему напряженность поля в 1,5-2 раза большую, чем напряженность поля электрической дуги между анодом «А» и катодом «К» ЭДП, анионы и катионы при этом не изменяют траекторию движения, так как их масса в тысячи раз больше, чем электронов. На аноде А2 напряжение в 5-10 раз больше, чем на А1.

Поэтому, электроны ускоряясь полем А2, проходят через мембрану электронов МЭ сближаются, сжимаясь в электронный пучок, обладающий соответствующими электрическими параметрами.

Рассмотрим физико-математическую модель процесса получения электроэнергии, путем преобразования в электроэнергию энергии электронного пучка, созданного электродуговым плазматро-

Секция «Метрология, стандартизация и сертификация»

ном в скрещенном электрическом поле дуги и электронной пушки. Под действием ускоряющего напряжения анода (иа) электронной пушки, образуется пучок свободных электронов, получивших одинаковый анодный потенциал. Он направляется электрическим полем в выполненную из проводника первого рода, рабочую полость поляризующегося электрода (РППЭ), в которой действует скрещенное электрическое поле. Радиальная составляющая (Ег) этого поля, созданная двойным электрическим слоем на поверхности РППЭ, удерживает электроны в пучке, (напряженность поля в двойном электрическом слое составляет порядка 108 + 109 В/м, напряженность поля в пучке - 105 ^10б В/м). Продольная составляющая (Е,) тормозит электроны, забирая у них энергию и повышая потенциал тормозящего поля поляризующегося электрода (ПЭ) [2].

Функциональная схема электрической цепи для создания электронных пучков и получения электроэнергии: 1 - источник питания электродугового плазматрона (ИП ЭДП); 2 - блок поджига электрической дуги; 3 - электронная пушка; 4 - преобразователь энергии электронной пушки в электроэнергию; 5 - бортовая система электропитания (БСЭ); 6 - анализатор спектра колебаний СВЧ-КВЧ диапазона; 7 - счетчик

электроэнергии; 8 - измерительный комплекс К-505; 9 - вакуумметр. Я - внутреннее сопротивление преобразователя переменного тока в постоянный ток; А - амперметр, V - вольтметр, измеряющие силу тока и напряжение на электродах электродугового плазматрона; «А» - анод и «К» - катод электродугового плазматрона; А1 и А2 - аксиальные аноды электронной пушки; А1 - управляющий анод; А2 - ускоряющий (рабочий) анод; МЭ - мембрана электронов

Для метрологического обеспечения выбираем вакуумметр магнитный блокировочный ВМБ 1-2, предназначенный для измерения давления сухого воздуха или азота в диапазоне 1,0 х 10б - 1,3 х 10° Па и управления устройствами автоматики в вакуумных установках типа ВУ-1А, ВУ-1Б или им аналогичных. Для контроля вакуумметра устанавливаем вакуумную камеру. Для наблюдения и измерения относительного распределения энергии электрических колебаний в полосе частот используем анализатор спектра СВЧ-КВЧ-колебаний. Комплект измерительный К505 предусматривает замер электроэнергии потребляемой из сети и тока одновременно. С его помощью можно измерять не только силу тока, но и напряжение, а так же мощность. Благодаря тому, что комплект К505 состоит из различных устройств, которые занимаются различными типами измерений - есть возможность выполнения комплексов измерений с различными заданными параметрами [3].

Энергетическая установка позволяет отработать принципы построения электроэнергетической аппаратуры для использования в космических аппаратах, с целью снижения габаритных размеров и массы оборудования применяемого в космических летательных аппаратах, также повышение надежности. Нарушение работоспособности энергоустановки, неизбежно влечет за собой выход из строя

всего аппарата, поэтому необходимо обеспечивать точность и единство измерений параметров технологических процессов.

Библиографические ссылки

1. Трифанов И. В., Казьмин Б. Н., Рыжов Д. Р., Хоменко И. И. Принципы построения электроэнергетических и электродинамических технологий космических аппаратов : монография. Красноярск, 2015.С. 182.

2. Современные наукоемкие технологии. Вып. 4. М. : Изд. дом «Академия Естествознания».

2013.

3. Справочник по метрологии [Электронный ресурс]. URL: http://mccm--vv.narod.ru/ metrolog/metr.htm (дата обращения: 19.04.2015).

© Шевелева А. И., Дерменева А. Д., 2015

i Надоели баннеры? Вы всегда можете отключить рекламу.